丙烯酸系粘合剂组合物、丙烯酸系粘合剂层、带粘合剂层的基材膜、层叠体及图像显示装置的制作方法

本申请是分案申请，其母案申请的申请号：201480071879.7(pct/jp2014/084416)，申请日：2014.12.25，优先权日：2014.01.06，发明名称：丙烯酸系粘合剂组合物、丙烯酸系粘合剂层、带粘合剂层的基材膜、层叠体及图像显示装置。

本发明涉及丙烯酸系粘合剂组合物及由上述粘合剂组合物形成的丙烯酸系粘合剂层。此外，本发明还涉及在基材膜的至少一个表面具有上述丙烯酸系粘合剂层的带粘合剂层的基材膜、将上述带粘合剂层的基材膜和具有透明导电层的基材以使上述带粘合剂层的基材膜的粘合剂层与上述基材的透明导电层接触的方式贴合而成的层叠体、以及使用了上述层叠体或带粘合剂层的基材膜的图像显示装置。

背景技术

近年来，氧化铟锡(ito)薄膜等透明导电膜被广泛使用在各种用途中。例如已知将上述透明导电膜形成于使用了平面转换(ips)方式等的液晶单元的液晶显示装置的、构成液晶单元的透明基板的与液晶层接触的一侧的相反侧上，作为防静电层。另外，在透明树脂膜上形成有上述透明导电膜的透明导电性膜被用于触控面板的电极基板，例如将用于手机或便携音乐播放器等中的液晶显示装置或图像显示装置与该触控面板组合而使用的输入装置逐渐广泛普及。

作为将触控面板与图像显示装置组合而使用的输入装置，以往将在包含玻璃板或透明树脂膜的透明基材上形成有透明导电层的透明导电性膜设置于液晶显示装置上(比液晶显示装置的观察侧偏振膜更靠上的一侧)的外嵌(out-cell)型得到广泛普及，但近年来，已知有将包含透明导电膜的电极形成于液晶单元的上玻璃基板上的外嵌(on-cell)型、将包含透明导电膜的电极组装至液晶单元内部的形态的内嵌(in-cell)型等各种构成。另外，也已知通过以作为图像显示装置的防静电层的ito层作为触控传感器并将其图案化而实现触控面板功能。

有时在此种透明导电膜上经由粘合剂层来层叠偏振膜等光学膜。通常的粘合剂为了提高粘合成分的凝聚力而使用含羧基单体等作为粘合剂成分。然而，在此种包含酸成分的粘合剂层直接与透明导电层接触的情况下，有时上述透明导电层会被酸腐蚀，难以用于该用途。

为了解决此种金属腐蚀的问题，提出了各种具有防止金属腐蚀性的粘合剂组合物。具体而言，提出了通过添加特定量的含氮原子成分而使酸成分含量降低的粘合剂组合物(例如参照专利文献1)、含有不具有酸性基团的丙烯酸系树脂作为主成分的粘合剂组合物(例如参照专利文献2)、包含实质上不具有酸性基团的(甲基)丙烯酸系聚合物的粘合剂(例如参照专利文献3)等。

另外，在上述的液晶显示装置或图像显示装置等中，近年来，轻质化、薄型化的要求加强，对在该液晶显示装置等中所使用的偏振膜也强烈要求薄型化、轻质化。作为偏振膜的薄型化、轻质化方法，例如已知仅在偏振片的单面设置透明保护膜而制成单面保护偏振膜的方法、减薄偏振片本身的膜厚的薄型偏振膜的制造方法等。

作为薄型偏振膜的制造方法，已知有在连续网状的非晶性酯系热塑性树脂基材上制成包含使碘取向了的聚乙烯醇系树脂的薄型偏振膜的光学膜层叠体的制造方法(例如参照专利文献4、5)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2010-144002号公报

专利文献2：日本特表2011-225835号公报

专利文献3：日本特开2013-018227号公报

专利文献4：日本专利第4751481号说明书

专利文献5：日本专利第4691205号说明书

技术实现要素：

发明要解决的技术问题

就上述专利文献1～3的粘合剂组合物而言，由于使含羧基树脂等的酸成分的含量降低、或者不使用酸成分，因而就金属腐蚀抑制效果而言发挥一定的效果。然而，在上述专利文献1～3的粘合剂组合物中，由于上述酸成分的含量少，因而树脂的凝聚力不足，粘接力、保持力等基本物性不足，尤其作为透明导电层用的粘合剂还不能说具有充分的性能。

另外，当在透明导电膜上经由粘合剂层层叠有偏振膜的情况下，若偏振膜为碘系偏振膜，则有时透明导电层的电阻值会上升。可见此种电阻值的上升起因于：偏振片中所含的碘渗出到粘合剂层中，该碘到达透明导电层，由此使透明导电层腐蚀。

例如，就专利文献4、5中记载的厚度10μm以下的薄型碘系偏振片而言，已知为了具有与以往的偏振片同样的偏振特性而需要提高偏振片中的碘浓度，在将包含此种碘浓度较高的偏振片的偏振膜与透明导电层贴合的情况下，容易产生透明导电层的由碘引起的腐蚀。另外，已知在使用单面保护的碘系偏振膜的情况下，也会由于直接经由粘合剂层将透明导电层贴合于碘系偏振片上，因而容易产生透明导电层的腐蚀。

因此，本发明的目的在于提供一种丙烯酸系粘合剂组合物，其在透明导电层等被粘物上层叠有粘合剂层的情况下可以形成能够抑制因该粘合剂层中所含的劣化物质(例如从偏振片转移过来的碘、酸成分等)使上述被粘物劣化的粘合剂层。另外，本发明的目的还在于提供由上述丙烯酸系粘合剂组合物形成的粘合剂层、在基材膜的至少一面具有上述粘合剂层的带粘合剂层的基材膜、将上述带粘合剂层的基材膜和具有透明导电层的基材以使上述带粘合剂层的基材膜的粘合剂层与上述基材的透明导电层接触的方式贴合而成的层叠体、以及使用了上述层叠体或带粘合剂层的基材膜的图像显示装置。

用于解决技术问题的手段

本发明人等为了解决上述技术问题而进行了深入研究，结果发现通过制成下述丙烯酸系粘合剂组合物可以实现上述目的，从而完成了本发明。

即，本发明涉及一种丙烯酸系粘合剂组合物，其特征在于，其含有(甲基)丙烯酸系聚合物及下述通式(1)所示的膦酸系化合物或其盐，上述通式(1)所示的膦酸系化合物的含量相对于上述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份为0.005～3重量份。

【化1】

(式中，r为氢原子、或可以包含氧原子的碳数1～18的烃残基。)

上述(甲基)丙烯酸系聚合物的重均分子量优选为120万～300万。

上述(甲基)丙烯酸系聚合物优选含有(甲基)丙烯酸烷基酯及含羧基单体作为单体单元。

上述丙烯酸系粘合剂组合物优选还包含异氰酸酯系交联剂。

上述丙烯酸系粘合剂组合物优选为用于形成与具有导电层的导电性基材的上述导电层接触的粘合剂层的粘合剂组合物。

上述导电层优选为透明导电层，上述透明导电层更优选由氧化铟锡形成。

上述氧化铟锡优选为非晶性的氧化铟锡。

另外，本发明涉及一种丙烯酸系粘合剂层，其特征在于，其由上述丙烯酸系粘合剂组合物形成。

此外，本发明还涉及一种带粘合剂层的基材膜，其特征在于，其在基材膜的至少一面具有上述丙烯酸系粘合剂层。

上述基材膜优选为在含有1～14重量％的碘和/或碘离子的碘系偏振片的至少单面具有透明保护膜的碘系偏振膜，上述碘系偏振片中的碘和/或碘离子的含量优选为3～12重量％。

优选使上述碘系偏振膜为仅在上述碘系偏振片的单侧具有透明保护膜的单面保护偏振膜、且上述单面保护偏振膜的不具有透明保护膜的面与上述粘合剂层接触。

此外，本发明还涉及一种层叠体，其特征在于，其是将上述带粘合剂层的基材膜和具有透明导电层的基材以使上述带粘合剂层的基材膜的粘合剂层与上述基材的透明导电层接触的方式贴合而成的。

此外，本发明还涉及一种图像显示装，其特征在于，其是将上述带粘合剂层的基材膜和具有透明导电层的液晶面板以使上述带粘合剂层的基材膜的粘合剂层与上述液晶面板的透明导电层接触的方式贴合而成的。

另外，本发明还涉及一种图像显示装置，其特征在于，其使用上述层叠体作为触控面板。

发明效果

由本发明的丙烯酸系粘合剂组合物形成的粘合剂层包含膦酸系化合物，因此在将该粘合剂层层叠于导电层等被粘物上的情况下也能抑制上述被粘物的劣化。认为这是由于：膦酸系化合物选择性地吸附于被粘物表面(例如导电层表面等)而形成被覆层，结果使粘合剂层中所含的劣化物质(例如从碘系偏振片转移过来的碘、酸成分等)未转移至被粘物表面而阻碍被粘物表面的劣化(腐蚀)。

附图说明

图1为示意性表示本发明的图像显示装置的一个实施方式的剖视图。

图2为示意性表示本发明的图像显示装置的一个实施方式的剖视图。

图3为示意性表示本发明的图像显示装置的一个实施方式的剖视图。

具体实施方式

1.丙烯酸系粘合剂组合物

本发明的丙烯酸系粘合剂组合物，其特征在于，其含有(甲基)丙烯酸系聚合物及下述通式(1)所示的膦酸系化合物或其盐，上述通式(1)所示的膦酸系化合物的含量相对于上述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份为0.005～3重量份。

【化2】

(式中，r为氢原子、或可以包含氧原子的碳数1～18的烃残基。)

本发明中使用的膦酸系化合物以下述通式(1)来表示。

【化3】

通式(1)中，r为氢原子、或可以包含氧原子的碳数1～18的烃残基。作为可以包含氧原子的碳数1～18的烃残基，可列举碳数1～18的烷基、碳数1～18的烯基、碳数6～18的芳基等。另外，烷基、烯基可以为直链状，也可以为支链状。

在本发明中，可以是通式(1)的r为氢原子的膦酸(hp(＝o)(oh)2)。另外，上述膦酸的盐(钠、钾及镁等的金属盐、铵盐等)也可以适合使用。

作为上述通式(1)所示的膦酸系化合物，具体而言，可列举膦酸、甲基膦酸、乙基膦酸、正丙基膦酸、异丙基膦酸、正丁基膦酸、叔丁基膦酸、仲丁基膦酸、异丁基膦酸、正戊基膦酸、正己基膦酸、异己基膦酸、正庚基膦酸、正辛基膦酸、异辛基膦酸、叔辛基膦酸、正壬基膦酸、正癸基膦酸、异癸基膦酸、正十二烷基膦酸、异十二烷基膦酸、正十四烷基膦酸、正十六烷基膦酸、正十八烷基膦酸、正二十烷基膦酸、环丁基膦酸、环戊基膦酸、环己基膦酸、降冰片基膦酸、苯基膦酸、萘基膦酸、联苯基膦酸、甲氧基苯基膦酸、乙氧基苯基膦酸及它们的盐。在本发明中，可以将这些膦酸系化合物单独使用或组合使用两种以上。

另外，上述通式(1)所示的膦酸系化合物的二聚物、三聚物等也可以适合使用。

上述膦酸系化合物的添加量相对于后述的(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份为0.005～3重量份、优选为0.01～2.5重量份、更优选为0.01～2重量份、进一步优选为0.01～1.5重量份、进一步优选为0.01～1重量份、特别优选为0.02～1重量份。通过使膦酸系化合物的添加量为上述范围内，从而可以抑制导电层等被粘物的劣化，并且可以提高对加热加湿的耐久性，故优选。若上述膦酸系化合物的添加量不足0.005重量份，则无法充分地抑制被粘物的劣化，导致被粘物的表面电阻值上升。另外，若上述膦酸系化合物的添加量超过3重量份，则虽然可以抑制被粘物的劣化，但是对加热加湿的耐久性降低。另外，在本发明中，在使用2种以上膦酸系化合物的情况下，按照使膦酸系化合物的总量达到上述范围的方式进行添加。

本发明的丙烯酸系粘合剂组合物含有上述通式(1)所示的膦酸系化合物，因此即使在将由该粘合剂组合物形成的粘合剂层层叠于导电层等被粘物上的情况下也能抑制该导电层等被粘物的劣化(腐蚀)，在上述被粘物为具有导电层的导电性基材的情况下，可以抑制其表面电阻值的上升。认为这是由于：膦酸系化合物选择性地吸附于被粘物表面(例如导电层表面等)而形成被覆层，结果使粘合剂层中所含的劣化物质(例如从碘系偏振片转移过来的碘、酸成分等)未转移至被粘物表面而妨碍被粘物表面的劣化(腐蚀)。

就此处所说的腐蚀而言，在金属氧化物中因与通常已知的金属腐蚀不同的机制而引起腐蚀。在像ito之类的金属氧化物的情况下，来自偏振片的碘渗入到金属氧化物层中，使金属氧化物的载流子迁移率降低，因此产生电阻值的上升。

本发明中可对如上所述的金属氧化物的腐蚀表现优异的腐蚀抑制效果，尤其是可对包含金属氧化物的透明导电层发挥更良好的效果。

作为本发明中使用的(甲基)丙烯酸系聚合物，并无特别限定，例如，优选为将含有(甲基)丙烯酸烷基酯的单体成分聚合而得的(甲基)丙烯酸系聚合物，更优选为将含有(甲基)丙烯酸烷基酯及含羧基单体的单体成分聚合而得的(甲基)丙烯酸系聚合物。予以说明，(甲基)丙烯酸烷基酯是指丙烯酸烷基酯和/或甲基丙烯酸烷基酯，本发明的(甲基)为同样的含义。

作为(甲基)丙烯酸烷基酯的烷基，可以使用直链状或支链状的各种的烷基。作为上述(甲基)丙烯酸烷基酯的具体例，可例示例如(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸异戊酯、(甲基)丙烯酸异戊酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸异壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷基酯、(甲基)丙烯酸异肉豆蔻基酯、(甲基)丙烯酸正十三烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯或(甲基)丙烯酸十二烷基酯等。它们可以单独使用或组合使用。其中，优选具有碳数4～18的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯，更优选具有碳数4～10的烷基的(甲基)丙烯酸酯，进一步优选(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯，特别优选(甲基)丙烯酸正丁酯。

上述(甲基)丙烯酸烷基酯相对于形成(甲基)丙烯酸系聚合物的全部单体成分100重量份为50重量份以上、优选为60重量份以上、更优选为70重量份以上、进一步优选为80重量份以上。另外，上限值并无特别限定，例如，优选为100重量份以下，更优选为99重量份以下。

作为含羧基单体，可以无特别限制地使用具有(甲基)丙烯酰基或乙烯基等具有不饱和双键的聚合性官能团、且具有羧基的单体。作为含羧基单体，可列举例如丙烯酸、甲基丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧乙酯、(甲基)丙烯酸羧戊酯、衣康酸、马来酸、富马酸、巴豆酸等，它们可以单独使用或组合使用。

含羧基单体相对于形成(甲基)丙烯酸系聚合物的全部单体成分100重量份优选为10重量份以下、更优选为0.1～10重量份、进一步优选为1～7重量份。通过以上述范围包含含羧基单体，从而可以提高耐久性，故优选。

在本发明使用的形成(甲基)丙烯酸系聚合物的单体成分中可以含有上述(甲基)丙烯酸烷基酯、可选的上述含羧基单体等，除这些单体以外，还可以使用含羟基单体、(甲基)丙烯酸脂环式烃酯、(甲基)丙烯酸芳基酯、其他共聚单体作为单体成分。

作为含羟基单体，可以无特别限制地使用具有(甲基)丙烯酰基或乙烯基等具有不饱和双键的聚合性官能团、且具有羟基的单体。作为含羟基单体，可列举例如(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸3-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羟基己酯、(甲基)丙烯酸8-羟基辛酯、(甲基)丙烯酸10-羟基癸酯、(甲基)丙烯酸12-羟基十二烷基酯、(甲基)丙烯酸(4-羟基甲基环己基)甲酯等，它们可以单独使用1种或混合使用2种以上。其中，优选丙烯酸4-羟基丁酯。通过使用丙烯酸4-羟基丁酯作为含羟基单体，从而在使用后述的异氰酸酯系交联剂的情况下，能够有效地确保与该异氰酸酯系交联剂的异氰酸酯基的交联点，故优选。

含羟基单体相对于形成(甲基)丙烯酸系聚合物的全部单体成分100重量份优选为10重量份以下、更优选为0.01～10重量份、进一步优选为0.05～3重量份。

作为(甲基)丙烯酸脂环式烃酯，可列举例如(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸冰片酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯等，作为(甲基)丙烯酸芳基酯，可列举例如(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯等。

(甲基)丙烯酸脂环式烃酯相对于形成(甲基)丙烯酸系聚合物的全部单体成分100重量份优选为10重量份以下、更优选为0.01～10重量份、进一步优选为0.05～3重量份。另外，(甲基)丙烯酸芳基酯相对于形成(甲基)丙烯酸系聚合物的全部单体成分100重量份优选为20重量份以下、更优选为0.1～15重量份、进一步优选为1～15重量份。

作为其他共聚单体，只要是具有(甲基)丙烯酰基或乙烯基等涉及不饱和双键的聚合性官能团的共聚单体，则并无特别限制，可列举：例如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等乙烯基酯类；例如苯乙烯等苯乙烯系单体；例如(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸甲基缩水甘油酯等含环氧基单体；例如(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等含烷氧基单体；例如丙烯腈、甲基丙烯腈等含氰基单体；例如2-甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯等官能性单体；例如乙烯、丙烯、异戊二烯、丁二烯、异丁烯等烯烃系单体；例如乙烯基醚等乙烯基醚系单体；例如氯乙烯等含卤素原子单体等。

另外，作为共聚性单体，可列举：例如n-环己基马来酰亚胺、n-异丙基马来酰亚胺、n-月桂基马来酰亚胺、n-苯基马来酰亚胺等马来酰亚胺系单体；例如n-甲基衣康酰亚胺、n-乙基衣康酰亚胺、n-丁基衣康酰亚胺、n-辛基衣康酰亚胺、n-2-乙基己基衣康酰亚胺、n-环己基衣康酰亚胺、n-月桂基衣康酰亚胺等衣康酰亚胺系单体；例如n-(甲基)丙烯酰氧基亚甲基琥珀酰亚胺、n-(甲基)丙烯酰基-6-氧基六亚甲基琥珀酰亚胺、n-(甲基)丙烯酰基-8-氧基八亚甲基琥珀酰亚胺等琥珀酰亚胺系单体；例如苯乙烯磺酸、烯丙基磺酸、2一(甲基)丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯酰胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺丙酯、(甲基)丙烯酰氧基萘磺酸等含磺酸基单体。

另外，作为共聚性单体，可列举：例如(甲基)丙烯酸聚乙二醇酯、(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基聚丙二醇酯等二醇系丙烯酸酯单体；以及例如(甲基)丙烯酸四氢糠酯、氟(甲基)丙烯酸酯等含有杂环或卤素原子的丙烯酸酯系单体等。

此外，作为共聚性单体，可以使用多官能性单体。作为多官能性单体，可列举具有2个以上的、(甲基)丙烯酰基、乙烯基等的不饱和双键的化合物等。例如可列举：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯等(单或多)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯，丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等(单或多)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等(单或多)亚烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯；以及新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸与多元醇的酯化物；二乙烯基苯等多官能乙烯基化合物；(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸乙烯酯等具有反应性不饱和双键的化合物等。另外，作为多官能性单体，也可以使用在聚酯、环氧、氨基甲酸酯等骨架上加成了2个以上的、作为与单体成分同样的官能团的(甲基)丙烯酰基、乙烯基等的不饱和双键的聚酯(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸环氧酯、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯等。

其他共聚单体的比例相对于形成上述(甲基)丙烯酸系聚合物的全部单体成分100重量份优选为30重量份以下、更优选为20重量份以下、进一步优选为15重量份以下。若上述共聚单体的比例过多，则存在由上述丙烯酸系粘合剂组合物形成的粘合剂层对玻璃、膜、透明导电层等各种被粘物的密合性降低等粘合特性降低的风险。

本发明中使用的(甲基)丙烯酸系聚合物通常使用重均分子量为90万～300万的范围的(甲基)丙烯酸系聚合物。若考虑耐久性、尤其耐久性，则重均分子量优选为120万～300万、更优选为150万～250万。若重均分子量小于90万，则存在在耐热性的方面不优选的情况，另外，若重均分子量大于300万，则为了调整为用于涂敷的粘度而需要大量的稀释溶剂，从成本的观点出发是不优选的。上述重均分子量是指利用gpc(凝胶渗透色谱)进行测定、并通过聚苯乙烯换算计算得到的值。其中，就乳液聚合中所得的粘合剂而言，通常凝胶成分较多，无法利用gpc进行测定，因此大多难以利用与分子量相关的实际测定予以证实。

此种(甲基)丙烯酸系聚合物的制造可以适当选择溶液聚合、本体聚合、乳液聚合、各种自由基聚合等公知的制造方法，并无特别限定。另外，所得的(甲基)丙烯酸系聚合物可以为无规共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等中的任一种。

在溶液聚合中，作为聚合溶剂，例如使用乙酸乙酯、甲苯等。作为具体的溶液聚合例，反应是在氮气等惰性气体气流下添加聚合引发剂且通常于50～70℃左右、5～30小时左右的反应条件下进行。

自由基聚合中所使用的聚合引发剂、链转移剂、乳化剂等并无特别限定，可适当选择使用。予以说明，(甲基)丙烯酸系聚合物的重均分子量可根据聚合引发剂、链转移剂的使用量、反应条件而加以控制，并根据它们的种类而调整适当的使用量。

作为聚合引发剂，可列举例如：2，2′-偶氮双异丁腈(aibn)、2，2′－偶氮双(2－脒基丙烷)二盐酸盐、2，2′-偶氮双[2－(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二盐酸盐、2，2′-偶氮双(2-甲基丙脒)二硫酸盐、2，2′-偶氮双(n，n′-二亚甲基异丁基脒)、2，2′-偶氮双[n-(2-羧乙基)-2-甲基丙脒]水合物(商品名：va-057、和光纯药工业(株)制)等偶氮系引发剂；过硫酸钾、过硫酸铵等过硫酸盐；过氧化二碳酸二(2-乙基己基)酯、过氧化二碳酸二(4-叔丁基环己基)酯、过氧化二碳酸二仲丁酯、过氧化新癸酸叔丁酯、过氧化特戊酸叔己酯、过氧化特戊酸叔丁酯、过氧化二月桂酰、过氧化二正辛酰、过氧化-2-乙基己酸1，1，3，3-四甲基丁酯、过氧化二(4-甲基苯甲酰)、过氧化二苯甲酰、过氧化异丁酸叔丁酯、1，1-二(叔己基过氧化)环己烷、叔丁基过氧化氢、过氧化氢等过氧化物系引发剂；过硫酸盐与亚硫酸氢钠的组合、过氧化物与抗坏血酸钠的组合等将过氧化物与还原剂组合而成的氧化还原系引发剂等，但是并不限定于这些聚合引发剂。

上述聚合引发剂可以单独使用，也可以混合使用两种以上，其整体的含量相对于形成上述(甲基)丙烯酸系聚合物的全部单体成分100重量份优选为0.005～2重量份左右。

作为链转移剂，可列举例如月桂基硫醇、缩水甘油基硫醇、巯基乙酸、2-巯基乙醇、硫代乙醇酸、硫代乙醇酸2-乙基己酯、2，3-二巯基-1-丙醇等。链转移剂可以单独使用，也可以混合使用两种以上，其整体的含量相对于单体成分的总量100重量份为0.1重量份左右以下。

另外，在本发明的丙烯酸系粘合剂组合物中可以进一步添加交联剂。作为交联剂，使用多官能性的化合物，可列举有机系交联剂或多官能性金属螯合物。作为有机系交联剂，可列举异氰酸酯系交联剂、环氧系交联剂、碳二酰亚胺系交联剂、亚胺系交联剂、噁唑啉系交联剂、氮丙啶系交联剂、过氧化物系交联剂等。多官能性金属螯合物为多价金属原子与有机化合物共价键合或配位键合的物质。作为多价金属原子，可列举al、cr、zr、co、cu、fe、ni、v、zn、in、ca、mg、mn、y、ce、sr、ba、mo、la、sn、ti等。作为共价键合或配位键合的有机化合物中的原子，可列举氧原子等，作为有机化合物，可列举烷基酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、酮化合物等。在这些交联剂中，为了能够赋予与粘合剂的耐久性有关的凝聚力，优选异氰酸酯系交联剂，更优选并用异氰酸酯系交联剂和过氧化物系交联剂。

作为异氰酸酯系交联剂，可列举在1分子中具有2个以上异氰酸酯基(包括通过封端剂或多聚物化等而暂时保护异氰酸酯基的异氰酸酯再生型官能团)的化合物。

作为异氰酸酯系交联剂，可列举：甲苯二异氰酸酯、二甲苯二异氰酸酯等芳香族异氰酸酯、异佛酮二异氰酸酯等脂环族异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯等脂肪族异氰酸酯等。

更具体而言，可列举例如：亚丁基二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯等低级脂肪族聚异氰酸酯类；亚环戊基二异氰酸酯、亚环己基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯等脂环族异氰酸酯类；2，4-甲苯二异氰酸酯、4，4′-二苯基甲烷二异氰酸酯、苯二亚甲基二异氰酸酯、聚亚甲基聚苯基异氰酸酯等芳香族二异氰酸酯类；三羟甲基丙烷/甲苯二异氰酸酯三聚物加成物(商品名：coronatel、日本聚氨酯工业(株)制)、三羟甲基丙烷/六亚甲基二异氰酸酯三聚物加成物(商品名：coronatehl、日本聚氨酯工业(株)制)、六亚甲基二异氰酸酯的异氰脲酸酯体(商品名：coronatehx、日本聚氨酯工业(株)制)等异氰酸酯加成物；苯二亚甲基二异氰酸酯的三羟甲基丙烷加成物(商品名：d110n、三井化学(株)制)、六亚甲基二异氰酸酯的三羟甲基丙烷加成物(商品名：d160n、三井化学(株)制)；聚醚聚异氰酸酯、聚酯聚异氰酸酯、以及它们与各种多元醇的加成物、经异氰脲酸酯键、缩二脲键、脲基甲酸酯键等多官能化的聚异氰酸酯等。

异氰酸酯系交联剂的配合比例并无特别限定，相对于上述(甲基)丙烯酸系聚合物(固体成分)100重量份，优选按照异氰酸酯系交联剂(固体成分)10重量份左右以下的比例进行配合，更优选0.01～10重量份左右，进一步优选0.01～5重量份左右，特别优选0.01～1重量份左右。

作为过氧化物系交联剂，使用各种过氧化物。作为过氧化物，可列举：过氧化二碳酸二(2-乙基己基)酯、过氧化二碳酸二(4-叔丁基环己基)酯、过氧化二碳酸二仲丁酯、过氧化新癸酸叔丁酯、过氧化特戊酸叔己酯、过氧化特戊酸叔丁酯、过氧化二月桂酰、过氧化二正辛酰、过氧化异丁酸1，1，3，3-四甲基丁酯、过氧化2-乙基己酸1，1，3，3-四甲基丁酯、过氧化二(4-甲基苯甲酰)、过氧化二苯甲酰、过氧化异丁酸叔丁酯等。其中，优选使用交联反应效率尤为优异的过氧化二碳酸二(4－叔丁基环己基)酯、过氧化二月桂酰、过氧化二苯甲酰。

在使用过氧化物系交联剂的情况下，相对于(甲基)丙烯酸系聚合物(固体成分)100重量份，优选为10重量份以下左右，更优选为0.01～1重量份左右，进一步优选为0.03～0.5重量份左右。

另外，除异氰酸酯系交联剂、过氧化物系交联剂以外的交联剂的添加量相对于上述(甲基)丙烯酸系聚合物(固体成分)100重量份优选为10重量份左右以下。

在本发明的丙烯酸系粘合剂组合物中，为了提升高温多湿条件下的密合性，可添加各种硅烷偶联剂。作为硅烷偶联剂，可使用具有任意的适当官能团的物质。作为官能团，可列举例如乙烯基、环氧基、氨基、巯基、(甲基)丙烯酰氧基、乙酰乙酰基、异氰酸酯基、苯乙烯基、聚硫醚等。具体而言，可列举例如：乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三丙氧基硅烷、乙烯基三异丙氧基硅烷、乙烯基三丁氧基硅烷等含乙烯基的硅烷偶联剂；γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、2-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷等含环氧基的硅烷偶联剂；γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、n-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、n-(2-氨基乙基)3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-三乙氧基甲硅烷基-n-(1，3-二甲基丁叉基)丙胺、n-苯基-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷等含氨基的硅烷偶联剂；γ-巯基丙基甲基二甲氧基硅烷等含巯基的硅烷偶联剂；对苯乙烯基三甲氧基硅烷等含苯乙烯基的硅烷偶联剂；γ-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷等含(甲基)丙烯酰基的硅烷偶联剂；3-异氰酸酯丙基三乙氧基硅烷等含异氰酸酯基的硅烷偶联剂；双(三乙氧基甲硅烷基丙基)四硫醚等含聚硫醚基的硅烷偶联剂等。

上述硅烷偶联剂可以单独使用，也可以混合使用两种以上，其整体的含量相对于构成上述(甲基)丙烯酸系聚合物的全部单体成分100重量份优选为1重量份以下，更优选为0.01～1重量份，进一步优选为0.02～0.8重量份，特别优选为0.05～0.7重量份。若硅烷偶联剂的配合量超过1重量份，则产生未反应的偶联剂成分，在耐久性的方面是不优选的。

予以说明，在上述硅烷偶联剂可通过自由基聚合而与上述单体成分共聚的情况下，可使用该硅烷偶联剂作为上述单体成分。其比例相对于构成上述(甲基)丙烯酸系聚合物的全部单体成分100重量份优选为0.005～0.7重量份。

另外，从工程作业时的膜的防静电的观点出发，优选在本发明的丙烯酸系粘合剂组合物中添加离子性化合物。

作为离子性化合物，可优选使用碱金属盐及/或有机阳离子-阴离子盐。碱金属盐可使用碱金属的有机盐及无机盐。予以说明，本发明中所述的“有机阳离子-阴离子盐”为其阳离子部由有机物构成的有机盐，阴离子部可以为有机物，也可以为无机物。“有机阳离子-阴离子盐”也称为离子性液体、离子性固体。

<碱金属盐>

作为构成碱金属盐的阳离子部的碱金属离子，可列举锂、钠、钾的各离子。这些碱金属离子中，优选锂离子。

碱金属盐的阴离子部可由有机物所构成，也可由无机物所构成。作为构成有机盐的阴离子部，例如使用ch3coo^-、cf3coo^-、ch3so3^-、cf3so3^-、(cf3so2)3c^-、c4f9so3^-、c3f7coo^-、(cf3so2)(cf3co)n^-、^-o3s(cf2)3so3^-、pf6^-、co3^2-、或下述通式(4)～(7)所示的离子等。

(4)：(cnf2n+1so2)2n^-(其中，n为1～10的整数)、

(5)：cf2(cmf2mso2)2n^-(其中，m为1～10的整数)、

(6)：^-o3s(cf2)1so3^-(其中，1为1～10的整数)、

(7)：(cpf2p+1so2)n^-(cqf2q+1so2)(其中，p、q为1～10的整数)

尤其从获得离子解离性良好的离子化合物的方面出发，优选使用包含氟原子的阴离子部。作为构成无机盐的阴离子部，使用cl^-、br^-、i^-、alcl4^-、al2cl7^-、bf4^-、pf6^-、clo4^-、no3^-、asf6^-、sbf6^-、nbf6^-、taf6^-、(cn)2n^-等。作为阴离子部，优选(cf3so2)2n^-、(c2f5so2)2n^-等上述通式(4)所示的(全氟烷基磺酰基)酰亚胺，特别优选(cf3so2)2n^-所示的(三氟甲磺酰基)酰亚胺。

作为碱金属的有机盐，具体而言，可列举乙酸钠、海藻酸钠、木质素磺酸钠、甲苯磺酸钠、六氟磷酸锂(lipf6)、licf3so3、li(cf3so2)2n、li(cf3so2)2n、li(c2f5so2)2n、li(c4f9so2)2n、li(cf3so2)3c、ko3s(cf2)3so3k、lio3s(cf2)3so3k等，其中，优选六氟磷酸锂(lipf6)、licf3so3、li(cf3so2)2n、li(c2f5so2)2n、li(c4f9so2)2n、li(cf3so2)3c等，更优选li(cf3so2)2n、li(c2f5so2)2n、li(c4f9so2)2n等含氟的锂酰亚胺盐，特别优选六氟磷酸锂(lipf6)、双(三氟甲磺酰基)酰亚胺锂(litfsi、li(cf3so2)2n)。

另外，作为碱金属的无机盐，可列举高氯酸锂、碘化锂。

<有机阳离子-阴离子盐>

本发明中所使用的有机阳离子-阴离子盐由阳离子成分和阴离子成分构成，上述阳离子成分为包含有机物的离子。作为阳离子成分，具体而言，可列举：吡啶鎓阳离子、哌啶鎓阳离子、吡咯烷鎓阳离子、具有吡咯啉骨架的阳离子、具有吡咯骨架的阳离子、咪唑鎓阳离子、四氢嘧啶鎓阳离子、二氢嘧啶鎓阳离子、吡唑鎓阳离子、吡唑啉鎓阳离子、四烷基铵阳离子、三烷基锍阳离子、四烷基鏻阳离子等。

作为阴离子成分，例如使用cl^-、br^-、i^-、alcl4^-、al2cl7^-、bf4^-、pf6^-、clo4^-、no3^-、ch3coo^-、cf3coo^-、ch3so3^-、cf3so3^-、(cf3so2)3c^-、asf6^-、sbf6^-、nbf6^-、taf6^-、(cn)2n^-、c4f9so3^-、c3f7coo^-、((cf3so2)(cf3co)n^-、^-o3s(cf2)3so3^-或下述通式(4)～(7)所示的阴离子等。

(4)：(cnf2n+1so2)2n^-(其中，n为1～10的整数)

(5)：cf2(cmf2mso2)2n^-(其中，m为1～10的整数)

(6)：^-o3s(cf2)1so3^-(其中，1为1～10的整数)

(7)：(cpf2p+1so2)n^-(cqf2q+1so2)(其中，p、q为1～10的整数)

其中，尤其从获得离子解离性好的离子化合物的方面出发，优选使用包含氟原子的阴离子成分。

作为有机阳离子-阴离子盐的具体例，可适当选择使用包含上述阳离子成分与阴离子成分的组合的化合物。可列举例如：1-丁基吡啶鎓四氟硼酸盐、1-丁基吡啶鎓六氟磷酸盐、1-丁基-3-甲基吡啶鎓四氟硼酸盐、1-丁基-3-甲基吡啶鎓三氟甲磺酸盐、1-丁基-3-甲基吡啶鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1-丁基-3-甲基吡啶鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1-己基吡啶鎓四氟硼酸盐、2-甲基-1-吡咯啉四氟硼酸盐、1-乙基-2-苯基吲哚四氟硼酸盐、1，2-二甲基吲哚四氟硼酸盐、1-乙基咔唑四氟硼酸盐、1-乙基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸盐、1-乙基-3-甲基咪唑鎓乙酸盐、1-乙基-3-甲基咪唑鎓三氟乙酸盐、1-乙基-3-甲基咪唑鎓七氟丁酸盐、1-乙基-3-甲基咪唑鎓三氟甲磺酸盐、1-乙基-3-甲基咪唑鎓全氟丁磺酸盐、1-乙基-3-甲基咪唑鎓二氰胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓三(三氟甲磺酰基)甲基化物、1-丁基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸盐、1-丁基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸盐、1-丁基-3-甲基咪唑鎓三氟乙酸盐、1-丁基-3-甲基咪唑鎓七氟丁酸盐、1-丁基-3-甲基咪唑鎓三氟甲磺酸盐、1-丁基-3-甲基咪唑鎓全氟丁磺酸盐、1-丁基-3-甲基咪唑鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1-己基-3-甲基溴化咪唑鎓、1-己基-3-甲基氯化咪唑鎓、1-己基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸盐、1-己基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸盐、1-己基-3-甲基咪唑鎓三氟甲磺酸盐、1-辛基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸盐、1-辛基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸盐、1-己基-2，3-二甲基咪唑鎓四氟硼酸盐、1，2-二甲基-3-丙基咪唑鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1-甲基吡唑鎓四氟硼酸盐、3-甲基吡唑鎓四氟硼酸盐、四己基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、二烯丙基二甲基铵四氟硼酸盐、二烯丙基二甲基铵三氟甲磺酸盐、二烯丙基二甲基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、二烯丙基二甲基铵双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、n，n-二乙基-n-甲基-n-(2-甲氧基乙基)铵四氟硼酸盐、n，n-二乙基-n-甲基-n-(2-甲氧基乙基)铵三氟甲磺酸盐、n，n-二乙基-n-甲基-n-(2-甲氧基乙基)铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、n，n-二乙基-n-甲基-n-(2-甲氧基乙基)铵双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、缩水甘油基三甲基铵三氟甲磺酸盐、缩水甘油基三甲基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、缩水甘油基三甲基铵双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1-丁基吡啶鎓(三氟甲磺酰基)三氟乙酰胺、1-丁基-3-甲基吡啶鎓(三氟甲磺酰基)三氟乙酰胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓(三氟甲磺酰基)三氟乙酰胺、n，n-二乙基-n-甲基-n-(2-甲氧基乙基)铵(三氟甲磺酰基)三氟乙酰胺、二烯丙基二甲基铵(三氟甲磺酰基)三氟乙酰胺、缩水甘油基三甲基铵(三氟甲磺酰基)三氟乙酰胺、n，n-二甲基-n-乙基-n-丙基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、n，n-二甲基-n-乙基-n-丁基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、n，n-二甲基-n-乙基-n-戊基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、n，n-二甲基-n-乙基-n-己基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、n，n-二甲基-n-乙基-n-庚基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、n，n-二甲基-n-乙基-n-壬基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、n，n-二甲基-n，n-二丙基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、n，n-二甲基-n-丙基-n-丁基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、n，n-二甲基-n-丙基-n-戊基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、n，n-二甲基-n-丙基-n-己基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、n，n-二甲基-n-丙基-n-庚基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、n，n-二甲基-n-丁基-n-己基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、n，n-二甲基-n-丁基-n-庚基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、n，n-二甲基-n-戊基-n-己基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、n，n-二甲基-n，n-二己基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、三甲基庚基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、n，n-二乙基-n-甲基-n-丙基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、n，n-二乙基-n-甲基-n-戊基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、n，n-二乙基-n-甲基-n-庚基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、n，n-二乙基-n-丙基-n-戊基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、三乙基丙基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、三乙基戊基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、三乙基庚基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、n，n-二丙基-n-甲基-n-乙基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、n，n-二丙基-n-甲基-n-戊基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、n，n-二丙基-n-丁基-n-己基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、n，n-二丙基-n，n-二己基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、n，n-二丁基-n-甲基-n-戊基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、n，n-二丁基-n-甲基-n-己基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、三辛基甲基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、n-甲基-n-乙基-n-丙基-n-戊基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1-丁基-3-甲基吡啶-1-鎓三氟甲磺酸盐等。作为这些化合物的市售品，例如可使用“cil-314”(日本carlit(株)制)、“ila2-1”(广荣化学工业(株)制)等。

另外，可列举例如四甲基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、三甲基乙基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、三甲基丁基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、三甲基戊基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、三甲基庚基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、三甲基辛基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、四乙基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、三乙基丁基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、四丁基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、四己基铵双(三氟甲磺酰基)酰亚胺等。

另外，可列举例如1-二甲基吡咯烷鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1-甲基-1-乙基吡咯烷鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1-甲基-1-丙基吡咯烷鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1-甲基-1-丁基吡咯烷鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1-甲基-1-戊基吡咯烷鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1-甲基-1-己基吡咯烷鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1-甲基-1-庚基吡咯烷鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1-乙基-1-丙基吡咯烷鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1-乙基-1-丁基吡咯烷鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1-乙基-1-戊基吡咯烷鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1-乙基-1-己基吡咯烷鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1-乙基-1-庚基吡咯烷鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1，1-二丙基吡咯烷鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1-丙基-1-丁基吡咯烷鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1，1-二丁基吡咯烷鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1-丙基哌啶鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1-戊基哌啶鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1，1-二甲基哌啶鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1-甲基-1-乙基哌啶鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1-甲基-1-丙基哌啶鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1-甲基-1-丁基哌啶鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1-甲基-1-戊基哌啶鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1-甲基-1-己基哌啶鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1-甲基-1-庚基哌啶鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1-乙基-1-丙基哌啶鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1-乙基-1-丁基哌啶鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1-乙基-1-戊基哌啶鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1-乙基-1-己基哌啶鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1-乙基-1-庚基哌啶鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1，1-二丙基哌啶鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1-丙基-1-丁基哌啶鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1，1-二丁基哌啶鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺、1，1-二甲基吡咯烷鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1-甲基-1-乙基吡咯烷鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1-甲基-1-丙基吡咯烷鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1-甲基-1-丁基吡咯烷鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1-甲基-1-戊基吡咯烷鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1-甲基-1-己基吡咯烷鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1-甲基-1-庚基吡咯烷鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1-乙基-1-丙基吡咯烷鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1-乙基-1-丁基吡咯烷鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1-乙基-1-戊基吡咯烷鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1-乙基-1-己基吡咯烷鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1-乙基-1-庚基吡咯烷鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1，1-二丙基吡咯烷鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1-丙基-1-丁基吡咯烷鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1，1-二丁基吡咯烷鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1-丙基哌啶鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1-戊基哌啶鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1，1-二甲基哌啶鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1-甲基-1-乙基哌啶鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1-甲基-1-丙基哌啶鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1-甲基-1-丁基哌啶鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1-甲基-1-戊基哌啶鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1-甲基-1-己基哌啶鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1-甲基-1庚基哌啶鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1-乙基-1-丙基哌啶鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1-乙基-1-庚基哌啶鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1-乙基-1-戊基哌啶鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1-乙基-1-己基哌啶鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1-乙基-1-庚基哌啶鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1-丙基-1-丁基哌啶鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1，1-二丙基哌啶鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺、1，1-二丁基哌啶鎓双(五氟乙磺酰基)酰亚胺等。

另外，可列举：代替上述化合物的阳离子成分而使用三甲基锍阳离子、三乙基锍阳离子、三丁基锍阳离子、三己基锍阳离子、二乙基甲基锍阳离子、二丁基乙基锍阳离子、二甲基癸基锍阳离子、四甲基鏻阳离子、四乙基鏻阳离子、四丁基鏻阳离子、四己基鏻阳离子的化合物等。

另外，可列举：代替上述的双(三氟甲磺酰基)酰亚胺而使用双(五氟磺酰基)酰亚胺、双(七氟丙磺酰基)酰亚胺、双(九氟丁磺酰基)酰亚胺、三氟甲磺酰基九氟丁磺酰基酰亚胺、七氟丙磺酰基三氟甲磺酰基酰亚胺、五氟乙磺酰基九氟丁磺酰基酰亚胺、环-六氟丙烷-1，3-双(磺酰基)酰亚胺阴离子等的化合物等。

另外，作为离子性化合物，除上述碱金属盐、有机阳离子-阴离子盐以外，还可列举氯化铵、氯化铝、氯化铜、氯化亚铁、氯化铁、硫酸铵等无机盐。这些离子性化合物可单独使用或并用多种。

丙烯酸系粘合剂组合物中的离子性化合物的配合比率并无特别限定，相对于上述(甲基)丙烯酸系聚合物(固体成分)100重量份而优选为10重量份左右以下，更优选为7重量份以下，进一步优选为5重量份以下。另外，下限值并无特别限定，优选为0.01重量份左右以上。

进而，在本发明的丙烯酸系粘合剂组合物中，根据需要也可在不脱离本发明目的的范围内适当使用粘度调节剂、剥离调节剂、增粘剂、增塑剂、软化剂、包含玻璃纤维、玻璃珠、金属粉、其他无机粉末等的填充剂、颜料、着色剂(颜料、染料等)、ph值调节剂(酸或碱)、抗氧化剂、紫外线吸收剂等各种添加剂。这些添加剂也能以乳液的形式配合。以上的各种添加剂能够在不损害本发明效果的范围进行添加，添加量并不受限定，例如，相对于上述(甲基)丙烯酸系聚合物(固体成分)100重量份而优选为10重量份左右以下。

本发明的上述丙烯酸系粘合剂组合物适合作为用于形成与具有导电层的导电性基材的上述导电层接触的粘合剂层的粘合剂组合物。在此，作为导电层，可列举：cu、ag等金属薄膜；后述的透明导电层等。

2.丙烯酸系粘合剂层

本发明的丙烯酸系粘合剂层，其特征在于，其由上述的丙烯酸系粘合剂组合物形成。丙烯酸系粘合剂层的形成方法如后述所示。

3.带粘合剂层的基材膜

本发明的带粘合剂层的基材膜，其特征在于，其在基材膜的至少一面具有上述丙烯酸系粘合剂层。

作为上述基材膜，并无特别限定，可列举例如脱模膜、透明树脂膜基材等各种基材，作为其具体例，可以适合使用本说明书中记载的基材膜。

另外，作为基材膜，可以适合使用在含有1～14重量％的碘和/或碘离子的碘系偏振片的至少单面具有透明保护膜的碘系偏振膜。以下，对碘系偏振膜进行说明。

上述碘系偏振膜为在含有1～14重量％的碘和/或碘离子的碘系偏振片的至少单面具有透明保护膜的碘系偏振膜。在本发明中，可以为在碘系偏振片的单面具有透明保护膜的单面保护偏振膜，也可以为在碘系偏振片的两面具有透明保护膜的两面保护偏振膜，但是，在使用单面保护偏振膜的情况下，本发明的效果显著。另外，即使是两面保护偏振膜，在与粘合剂层接触的一侧的透明保护膜的厚度较薄(例如25μm以下)的情况下，本发明的效果也显著。予以说明，在偏振膜为单面保护偏振膜的情况下，粘合剂层可以直接设置在不具有上述透明保护膜的一侧的偏振片表面。

作为碘系偏振片，只要是含有1～14重量％的碘和/或碘离子的偏振片，则任意的碘系偏振片均可使用，可列举例如使碘吸附于聚乙烯醇(pva)系膜、部分缩甲醛化pva系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等亲水性高分子膜上并进行单轴拉伸而成的偏振片等。其中，优选为包含pva系膜及碘的偏振片。这些偏振片的厚度并无特别限制，通常为5～80μm左右。

以碘对pva系膜进行染色并进行单轴拉伸而成的偏振片例如可通过如下方式制作：通过将pva浸渍于碘的水溶液中来进行染色，拉伸至原长度的3～7倍。根据需要也可浸渍于可包含硼酸、硫酸锌、氯化锌等的碘化钾等的水溶液中。进而根据需要也可在染色前将pva系膜浸渍于水中而进行水洗。通过对pva系膜进行水洗，可将pva系膜表面的污垢、抗粘连剂进行清洗，此外，还具有通过使pva系膜溶胀来防止染色不均等不均的效果。拉伸可在利用碘进行染色后进行，也可一边染色一边拉伸，另外，还可在拉伸后利用碘进行染色。也可在硼酸或碘化钾等的水溶液或水浴中进行拉伸。

另外，在本发明中，也可以适合使用厚度为10μm以下的薄型碘系偏振片。从薄型化的观点出发，该厚度优选为1～7μm。此种薄型碘系偏振片由于厚度不均较少，观察性优异，并且尺寸变化较小，因而耐久性优异，而且作为偏振膜的厚度也能实现薄型化，在这一点上是优选的。

作为薄型偏振片，代表性地，可列举日本特开昭51-069644号公报、日本特开2000-338329号公报、国际公开第2010/100917号小册子、国际公开第2010/100917号小册子或日本专利4751481号说明书或者日本特开2012-073563号公报中记载的薄型偏振膜。这些薄型偏振膜可通过包括将pva系树脂层和拉伸用树脂基材以层叠体的状态进行拉伸的工序以及进行染色的工序的制造方法而获得。根据该制造方法，即使pva系树脂层较薄，也可通过被拉伸用树脂基材支承而在并无由拉伸所引起的断裂等不良的情况下进行拉伸。

作为上述薄型偏振膜，在包括以层叠体的状态进行拉伸的工序以及进行染色的工序的制造方法中，从可拉伸至高倍率而提升偏振性能的方面出发，优选为通过如国际公开第2010/100917号小册子、国际公开第2010/100917号小册子、或日本专利4751481号说明书或者日本特开2012-073563号公报中记载的包括在硼酸水溶液中进行拉伸的工序的制造方法而获得的偏振膜，特别优选为通过日本专利4751481号说明书或日本特开2012-073563号公报中记载的包括在硼酸水溶液中进行拉伸前辅助性地进行空中拉伸的工序的制造方法而获得的偏振膜。

另外，本发明中使用的碘系偏振片的碘和/或碘离子的含量(以下，有时也称为碘含量)在偏振片中为1～14重量％，也可为3～12重量％，也可为4～7.5重量％。就本发明的带粘合剂层的基材膜而言，即使碘系偏振片中的碘含量如上述范围那样多，也可抑制层叠于该带粘合剂层的基材膜上的透明导电层的表面电阻上升。认为这是由于：粘合剂层中所含的膦酸系化合物选择性地吸附于透明导电层而形成被覆层，因此从碘系偏振膜转移到粘合剂层中的碘不会转移至透明导电层表面，结果阻碍透明导电层的腐蚀，可以抑制透明导电层的表面电阻上升。

作为形成设置于上述碘系偏振片的单面或双面的透明保护膜的材料，优选为透明性、机械强度、热稳定性、水分阻断性、各向同性等优异的材料。可列举例如：聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系聚合物；二乙酰纤维素或三乙酰基纤维素等纤维素系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物；聚苯乙烯或丙烯腈-苯乙烯共聚物(as树脂)等苯乙烯系聚合物；聚碳酸酯系聚合物等。另外，作为形成上述透明保护膜的聚合物的例子，还可列举：聚乙烯、聚丙烯、具有环系或降冰片烯结构的聚烯烃、乙烯-丙烯共聚物等聚烯烃系聚合物；氯乙烯系聚合物；尼龙或芳香族聚酰胺等酰胺系聚合物；酰亚胺系聚合物；砜系聚合物；聚醚砜系聚合物；聚醚醚酮系聚合物；聚苯硫醚系聚合物；乙烯醇系聚合物；偏二氯乙烯系聚合物；乙烯缩丁醛系聚合物；芳酯系聚合物；聚甲醛系聚合物；环氧系聚合物；或上述聚合物的共混物等。透明保护膜也能以丙烯酸系、氨基甲酸酯系、丙烯酸氨基甲酸酯系、环氧系、硅酮系等的热固化型、紫外线固化型的树脂的固化层的形式形成。

保护膜的厚度可适当地决定，通常从强度、操作性等作业性、薄膜性等方面出发，为1～500μm左右。

上述碘系偏振片与透明保护膜通常经由水系粘接剂等而密合。作为水系粘接剂，可例示异氰酸酯系粘接剂、聚乙烯醇系粘接剂、明胶系粘接剂、乙烯基系胶乳系、水系聚氨酯、水系聚酯等。除上述水系粘接剂以外，作为偏振片与透明保护膜的粘接剂，还可列举紫外线固化型粘接剂、电子射线固化型粘接剂等。电子射线固化型偏振膜用粘接剂对上述各种透明保护膜显示出适宜的粘接性。另外，在本发明使用的粘接剂中可含有金属化合物填料。

对上述透明保护膜的未粘接碘系偏振片的面也可实施硬涂层、防反射处理、防粘处理或者以扩散或抗眩为目的的处理。

为了应对带粘合剂层的基材膜的薄型化要求，本发明中使用的碘系偏振膜的总厚度优选为90μm以下、更优选为80μm以下、进一步优选为70μm以下、特别优选为60μm以下。作为偏振膜的总厚度的下限，并无特别限定，可列举例如10μm。

本发明的带粘合剂层的基材膜通过在上述碘系偏振膜等基材膜的至少一面形成由上述丙烯酸系粘合剂组合物形成的粘合剂层而获得。

上述粘合剂层的形成方法并无特别限定，可为在各种基材上涂布上述丙烯酸系粘合剂组合物，利用热烘箱等干燥器进行干燥，使溶剂等挥发而形成粘合剂层，将该粘合剂层转印到上述碘系偏振膜等基材膜上的方法，也可在上述碘系偏振膜等基材膜上直接涂布上述丙烯酸系粘合剂组合物而形成粘合剂层。

作为上述基材，并无特别限定，例如可列举脱模膜、透明树脂膜基材等各种基材。

作为对上述基材或偏振膜的涂布方法，可使用各种方法。具体而言，可列举例如：喷注式涂布机、辊式涂布、辊舐式涂布、凹版涂布、反转涂布、辊式刷涂、喷涂、浸渍辊式涂布、棒式涂布、刮刀涂布、气刀涂布、淋幕式涂布、模唇涂布、利用模涂布机等的挤出涂布法等方法。

干燥条件(温度、时间)并无特别限定，可根据丙烯酸系粘合剂组合物的组成、浓度等而适当设定，例如在80～170℃左右、优选90～200℃下干燥1～60分钟、优选2～30分钟。

粘合剂层的厚度(干燥后)例如优选为5～100μm，更优选为10～60μm，进一步优选为12～40μm。若粘合剂层的厚度不足10μm，则存在对被粘合体的密合性变差而使高温、高温多湿下的耐久性不充分的倾向。另一方面，在粘合剂层的厚度超过100μm的情况下，存在因形成粘合剂层时的丙烯酸系粘合剂组合物的涂布、干燥时未充分地干燥而残留气泡，或者在粘合剂层的面产生厚度不均而使外观上的问题变得明显的倾向。

作为上述脱模膜的构成材料，可列举例如：聚乙烯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酯膜等树脂膜；纸、布、无纺布等多孔材料；网状物、发泡片、金属箔及它们的层压体等适当的薄片体等。从表面平滑性优异的方面出发，优选使用树脂膜。

作为该树脂膜，可列举例如：聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚丁烯膜、聚丁二烯膜、聚甲基戊烯膜、聚氯乙烯膜、氯乙烯共聚物膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚对苯二甲酸丁二醇酯膜、聚氨酯膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物膜等。

上述脱模膜的厚度通常为5～200μm，优选为5～100μm左右。也可以根据需要对上述脱模膜进行利用硅酮系、氟系、长链烷基系或脂肪酸酰胺系的脱模剂、二氧化硅粉末等的脱模以及防污处理或涂布型、内加型、蒸镀型等的防静电处理。特别是通过对上述脱模膜的表面适当进行硅酮处理、长链烷基处理、氟处理等剥离处理，可进一步提高从上述粘合剂层的剥离性。

作为上述透明树脂膜基材，并无特别限制，可使用具有透明性的各种树脂膜。该树脂膜可通过1层膜形成。例如，作为其材料，可列举：聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系树脂；乙酸酯系树脂、聚醚砜系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚烯烃系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、聚氯乙烯系树脂、聚偏二氯乙烯系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚乙烯醇系树脂、聚芳酯系树脂、聚苯硫醚系树脂等。其中，特别优选聚酯系树脂、聚酰亚胺系树脂及聚醚砜系树脂。

上述膜基材的厚度优选为15～200μm。

另外，在碘系偏振膜与粘合剂层之间也可具有锚固层。形成锚固层的材料并无特别限定，可列举例如各种聚合物类、金属氧化物的溶胶、二氧化硅溶胶等。其中，特别优选使用聚合物类。上述聚合物类的使用形态可为溶剂可溶型、水分散型、水溶解型中的任一者。

作为上述聚合物类，可列举例如：聚氨酯系树脂、聚酯系树脂、丙烯酸系树脂、聚醚系树脂、纤维素系树脂、聚乙烯醇系树脂、聚乙烯基吡咯烷酮、聚苯乙烯系树脂等。其中，特别优选聚氨酯系树脂、聚酯系树脂、丙烯酸系树脂。在这些树脂中可适当地配合交联剂。这些其他粘合剂成分可根据其用途而适当地使用1种或组合使用2种以上。

在利用水分散型材料形成锚固层的情况下，使用水分散型聚合物。作为水分散型聚合物，可列举：使用乳化剂使聚氨酯、聚酯等各种树脂乳化而成的物质；或在上述树脂中导入水分散性的阴离子基、阳离子基或非离子基进行自乳化而成的物质等。

另外，在上述锚固剂中可含有防静电剂。防静电剂只要为可赋予导电性的材料，则并无特别限制，可列举例如离子性表面活性剂、导电性聚合物、金属氧化物、炭黑及碳纳米材料等，其中，优选导电性聚合物，更优选水分散性导电聚合物。

作为水溶性导电性聚合物，可列举聚苯胺磺酸(经聚苯乙烯换算的重均分子量150000、三菱丽阳(株)制)等，作为水分散性导电聚合物，可列举聚噻吩系导电性聚合物(长濑化成公司制造、denatron系列)等。

上述防静电剂的配合量例如相对于用于锚固剂的上述聚合物类100重量份为70重量份以下，优选为50重量份以下。从防静电效果的方面出发，优选为10重量份以上，进一步优选为20重量份以上。

锚固层的厚度并无特别限定，优选为5～300nm。

作为上述锚固层的形成方法，并无特别限定，可通过通常公知的方法来进行。另外，在形成锚固层时，可对上述碘系偏振膜实施活化处理。活化处理可采用各种方法，例如可采用电晕处理、低压uv处理、等离子体处理等。

在碘系偏振膜上的锚固层上形成粘合剂层的方法如上所述。

另外，在本发明的带粘合剂层的基材膜的粘合剂层露出的情况下，在供于实用之前也可利用脱模膜(隔片)保护粘合剂层。作为脱模膜，可列举上述的脱模膜。在制作上述粘合剂层时使用脱模膜作为基材的情况下，通过将脱模膜上的粘合剂层与碘系偏振膜等基材膜贴合，由此该脱模膜可用作带粘合剂层的基材膜的粘合剂层的脱模膜，可进行工序上的简化。

4.层叠体

本发明的层叠体，其特征在于，其是将上述带粘合剂层的基材膜和具有透明导电层的基材以使上述带粘合剂层的基材膜的粘合剂层与上述基材的透明导电层接触的方式贴合而成的。

上述带粘合剂层的基材膜可以使用上述的基材膜。

作为具有透明导电层的基材，并无特别限定，可使用公知的基材，可列举在透明膜等透明基材上具有透明导电层的构件、或具有透明导电膜及液晶单元的构件。

作为透明基材，只要为具有透明性的基材即可，可列举例如包括树脂膜或玻璃等的基材(例如片状、膜状或板状的基材等)等，特别优选为树脂膜。透明基材的厚度并无特别限定，优选为10～200μm左右，更优选为15～150μm左右。

作为上述树脂膜的材料，并无特别限制，可列举具有透明性的各种塑料材料。例如，作为其材料，可列举：聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系树脂、乙酸酯系树脂、聚醚砜系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚烯烃系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、聚氯乙烯系树脂、聚偏二氯乙烯系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚乙烯醇系树脂、聚芳酯系树脂、聚苯硫醚系树脂等。其中，特别优选聚酯系树脂、聚酰亚胺系树脂及聚醚砜系树脂。

另外，对于上述透明基材，也可对表面预先实施溅射、电晕放电、火焰、紫外线照射、电子射线照射、化成、氧化等蚀刻处理或底涂处理而提升设置于其上的透明导电层对于上述透明基材的密合性。另外，也可根据需要在设置透明导电层之前利用溶剂清洗、超声波清洗等进行除尘、清洁化。

作为上述透明导电层的构成材料，并无特别限定，使用选自由铟、锡、锌、镓、锑、钛、硅、锆、镁、铝、金、银、铜、钯、钨所组成的组中的至少1种金属的金属氧化物。也可根据需要在该金属氧化物中进一步含有上述组中所示的金属原子。例如优选使用含有氧化锡的氧化铟(ito)、含有锑的氧化锡等，特别优选使用ito。作为ito，优选含有氧化铟80～99重量％及氧化锡1～20重量％。

另外，作为上述ito，可列举结晶性ito、非晶性(无定形)ito。结晶性ito可通过在溅射时施加高温、或对非晶性ito进一步加热而获得。上述由碘所引起的劣化会在非晶性ito中明显地产生，故而本发明的带粘合剂层的基材膜对非晶性ito特别有效。

上述透明导电层的厚度并无特别限定，优选为7nm以上，更优选为10nm以上，进一步优选为12～60nm，进一步优选为15～45nm，进一步优选为18～45nm，特别优选为20～30nm。若透明导电层的厚度不足7nm，则存在容易产生由碘所引起的透明导电层的劣化、透明导电层的电阻值的变化增大的倾向。另一方面，在透明导电层的厚度超过60nm的情况下，存在透明导电层的生产率降低、成本也上升、进而光学特性也降低的倾向。

作为上述透明导电层的形成方法，并无特别限定，可采用以往公知的方法。具体而言，例如可例示真空蒸镀法、溅射法、离子镀法。另外，也可根据所需的膜厚而采用适当的方法。

作为具有上述透明导电层的基材的厚度，可列举15～200μm。进而，从薄膜化的观点出发，优选为15～150μm，更优选15～50μm。在以电阻膜方式使用上述具有透明导电层的基材的情况下，可列举例如100～200μm的厚度。另外，在以静电容量方式使用的情况下，例如优选为15～100μm的厚度，特别是伴随于近年来的进一步的薄膜化要求，更优选为15～50μm的厚度，进一步优选为20～50μm的厚度。

另外，可根据需要在透明导电层与透明基材之间设置底涂层、防低聚物层等。

另外，作为具有透明导电层及液晶单元的构件，可列举各种液晶显示装置等图像显示装置中所使用的、在包含基板(例如玻璃基板等)/液晶层/基板的构成的液晶单元的该基板的不与液晶层接触的一侧具有透明导电层的构件。另外，在液晶单元上设置滤色器基板的情况下，也可在该滤色器上具有透明导电层。在液晶单元的基板上形成透明导电层的方法与上述相同。

5.图像显示装置

本发明的层叠体可适宜用于制造构成具备输入装置(触控面板等)的图像显示装置(液晶显示装置、有机el(电致发光)显示装置、pdp(等离子体显示面板)、电子纸等)、输入装置(触控面板等)等机器的基材(构件)、或这些机器所使用的基材(构件)，尤其可适宜用于制造触控面板用光学基材。另外，无论电阻膜方式或静电容量方式等触控面板等的方式，均可使用。

对于本发明的层叠体实施裁断、抗蚀剂印刷、蚀刻、银油墨印刷等处理，所获得的透明导电性膜可用作光学器件用基材(光学构件)。作为光学器件用基材，只要为具有光学特性的基材，则并无特别限定，可列举例如：构成图像显示装置(液晶显示装置、有机el(电致发光)显示装置、pdp(等离子体显示面板)、电子纸等)、输入装置(触控面板等)等机器的基材(构件)、或这些机器所使用的基材(构件)。

另外，如上所述，本发明的带粘合剂层的基材膜即使在该带粘合剂层的偏振膜的粘合剂层上层叠有透明导电层的情况下也能抑制透明导电层的腐蚀，并且可抑制透明导电层的表面电阻上升。因此，只要为具有带粘合剂层的基材膜的粘合剂层与透明导电层接触的构成的图像显示装置，则可适宜使用本发明的带粘合剂层的基材膜。例如可将本发明的带粘合剂层的基材膜和具有透明导电层的液晶面板以使上述带粘合剂层的基材膜的粘合剂层与上述液晶面板的透明导电层接触的方式贴合而制作图像显示装置。

进而，具体而言，可列举使用透明导电层作为防静电层用途的图像显示装置或使用透明导电层作为触控面板的电极用途的图像显示装置。作为使用透明导电层作为防静电层用途的图像显示装置，具体而言，例如可列举：如图1所示那样具有包含偏振膜1/粘合剂层2/防静电层3/玻璃基板4/液晶层5/驱动电极6/玻璃基板4/粘合剂层2/偏振膜1的构成且上述防静电层3、驱动电极6由透明导电层形成的图像显示装置。作为该图像显示装置的上侧(观察侧)的带粘合剂层的基材膜(1、2)，可使用本发明的带粘合剂层的基材膜。另外，作为使用透明导电膜作为触控面板的电极用途的图像显示装置，可列举例如：具有偏振膜1/粘合剂层2/兼作防静电层的传感器层7/玻璃基板4/液晶层5/兼作驱动电极的传感器层8/玻璃基板4/粘合剂层2/偏振膜1的构成(内嵌(in-cell)型触控面板)、或偏振膜1/粘合剂层2/兼作防静电层的传感器层7/传感器层9/玻璃基板4/液晶层5/驱动电极6/玻璃基板4/粘合剂层2/偏振膜1的构成(外嵌(on-cell)型触控面板、图3)且兼作防静电层的传感器层7、传感器层9、驱动电极6由透明导电层形成的图像显示装置。作为该图像显示装置的上侧(观察侧)的带粘合剂层的基材膜(1、2)，可使用本发明的带粘合剂层的基材膜。

实施例

以下，使用实施例对本发明进行详细说明，但只要不超过其主旨，则本发明并不限定于以下的实施例。另外，各例中，份、％均为重量基准。

<偏振片中的碘含量>

偏振片中的碘含量(碘和/或碘离子的含量)按照以下的工序进行测定。

1)对多个包含规定量碘化钾的偏振片测定荧光x射线强度，导出碘含量与荧光x射线强度的关系式。

2)测定碘含量未知的碘系偏振片的荧光x射线，由该数值并使用上述关系式计算碘量。

制造例1(基材膜(1)的制作)

使在非晶性pet基材上制膜有9μm厚的聚乙烯醇(pva)层而成的层叠体通过拉伸温度为130℃的空中辅助拉伸而生成拉伸层叠体。然后，将拉伸层叠体在相对于水100重量份而含有碘0.1重量份、碘化钾0.7重量份的染色液中浸渍60秒钟，生成着色层叠体。进而，利用拉伸温度为65℃的硼酸水中拉伸以总拉伸倍率成为5.94倍的方式使着色层叠体与非晶性pet基材一体拉伸而生成包含4μm厚的pva层的光学膜层叠体。通过上述2步拉伸，可生成构成高功能偏振层的包含厚度4μm的pva层的光学膜层叠体，所述高功能偏振层使在非晶性pet基材上所制膜的pva层的pva分子高度地取向，使通过染色而吸附的碘以聚碘离子络合物的形式高度地在一个方向上取向。进而，一边在该光学膜层叠体的偏振层的表面涂布pva系粘接剂，一边贴合经皂化处理的40μm厚的丙烯酸系树脂膜(透明保护膜(1))，之后，将非晶性pet基材剥离，制作仅在使用薄型碘系偏振片的单侧具有透明保护膜的偏振膜。以下，将其称为基材膜(1)。基材膜(1)的碘含量为5.1重量％。

制造例2(基材膜(2)的制作)

一边将厚度80μm的聚乙烯醇膜在速度比不同的辊间于30℃、0.3％浓度的碘溶液中染色1分钟，一边拉伸至3倍。然后，一边在包含60℃、4％浓度的硼酸、10％浓度的碘化钾的水溶液中浸渍0.5分钟，一边进行拉伸直至总拉伸倍率为6倍。接着，通过在包含30℃、1.5％浓度的碘化钾的水溶液中浸渍10秒钟来进行清洗，之后，在50℃下干燥4分钟，获得厚度25μm、碘含量2.3重量％的偏振片。

进而，一边在该偏振片的一个表面涂布pva系粘接剂，一边贴合经皂化处理的40μm厚的丙烯酸类树脂膜(透明保护膜(1))，之后，在偏振片的另一个表面通过pva系粘接剂贴合厚度25μm的降冰片烯系膜(透明保护膜(2))，制作成双面保护偏振膜。以下，将其称作基材膜(2)。基材膜(2)的碘含量为2.3重量％。

将制造例1、2所得的基材膜(1)、(2)中所使用的偏振片、透明保护膜厚度、偏振膜总厚度、碘含量(偏振片中的碘和/或碘离子的含量)归纳示于以下的表1中。

【表1】

另外，作为基材膜(3)，使用厚度38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)膜(三菱化学聚酯膜(株)制)，作为基材膜(4)，使用厚度100μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)膜(三菱化学聚酯膜(株)制)。

制造例3(含有丙烯酸系聚合物(a-1)的溶液的制作)

在具备冷凝管、氮气导入管、温度计及搅拌装置的反应容器中，与乙酸乙酯一起添加丙烯酸丁酯83.9份、丙烯酸4-羟基丁酯0.1份、丙烯酸5份、丙烯酸苄酯11份及相对于单体(固体成分)100份为1份的作为引发剂的aibn，在氮气气流下且于60℃下使其反应7小时。其后，在该反应液中添加乙酸乙酯，获得含有重均分子量为200万的丙烯酸系聚合物(a-1)的溶液(固体成分浓度为30重量％)。

制造例4(含有丙烯酸系聚合物(a-2)的溶液的制作)

在具备冷凝管、氮气导入管、温度计及搅拌装置的反应容器中，与乙酸乙酯一起添加丙烯酸丁酯94.9份、丙烯酸4-羟基丁酯0.1份、丙烯酸5份及相对于单体(固体成分)100份为1份的作为引发剂的aibn，在氮气气流下且于60℃下使其反应7小时。其后，在该反应液中添加乙酸乙酯，获得含有重均分子量为200万的丙烯酸系聚合物(a-2)的溶液(固体成分浓度为30重量％)。

制造例5(含有丙烯酸系聚合物(a-3)的溶液的制作)

在具备冷凝管、氮气导入管、温度计及搅拌装置的反应容器中，与乙酸乙酯一起添加丙烯酸丁酯88.4份、丙烯酸4-羟基丁酯0.1份、丙烯酸0.5份、丙烯酸苄酯11份及相对于单体(固体成分)100份为1份的作为引发剂的aibn，在氮气气流下且于60℃下使其反应7小时。其后，在该反应液中添加乙酸乙酯，获得含有重均分子量为180万的丙烯酸系聚合物(a-3)的溶液(固体成分浓度为30重量％)。

制造例6(含有丙烯酸系聚合物(a-4)的溶液的制作)

在具备冷凝管、氮气导入管、温度计及搅拌装置的反应容器中，与乙酸乙酯一起添加丙烯酸丁酯83.9份、丙烯酸2-羟基乙酯0.1份、丙烯酸5份、丙烯酸苄酯11份及相对于单体(固体成分)100份为1份的作为引发剂的aibn，在氮气气流下且于60℃下使其反应7小时。其后，在该反应液中添加乙酸乙酯，获得含有重均分子量为200万的丙烯酸系聚合物(a-4)的溶液(固体成分浓度为30重量％)。

制造例7(含有丙烯酸系聚合物(a-5)的溶液的制作)

在具备冷凝管、氮气导入管、温度计及搅拌装置的反应容器中，与乙酸乙酯一起添加丙烯酸丁酯83.9份、丙烯酸4-羟基丁酯0.1份、丙烯酸5份、丙烯酸苄酯11份及相对于单体(固体成分)100份为2份的作为引发剂的aibn，在氮气气流下且于60℃下使其反应7小时。其后，在该反应液中添加乙酸乙酯，获得含有重均分子量为90万的丙烯酸系聚合物(a-5)的溶液(固体成分浓度为30重量％)。

制造例8(含有丙烯酸系聚合物(a-6)的溶液的制作)

在具备冷凝管、氮气导入管、温度计及搅拌装置的反应容器中，与乙酸乙酯一起添加丙烯酸丁酯99份、丙烯酸4-羟基丁酯1份及相对于单体(固体成分)100份为1份的作为引发剂的aibn，在氮气气流下且于60℃下使其反应7小时。其后，在该反应液中添加乙酸乙酯，获得含有重均分子量为160万的丙烯酸系聚合物(a－6)的溶液(固体成分浓度为30重量％)。

另外，制造例3～8中所得的丙烯酸系聚合物的重均分子量通过以下的测定方法进行测定。

<丙烯酸系聚合物的重均分子量(mw)的测定>

所制作的丙烯酸系聚合物的重均分子量通过gpc(凝胶渗透色谱法)进行测定。

装置：东曹公司制、hlc-8220gpc

色谱柱：

样品柱：东曹公司制、tskguardcolumnsuperhz-h(1根)+tskgelsuperhzm-h(2根)

参比柱：东曹公司制、tskgelsuperh-rc(1根)

流量：0.6ml/min

注入量：10μl

柱温：40℃

洗脱液：thf

注入试样浓度：0.2重量％

检测器：差示折射计

予以说明，重均分子量通过聚苯乙烯换算来计算。

实施例1

(丙烯酸系粘合剂组合物的制备)

相对于制造例3中所得的含有丙烯酸酯共聚物(a-1)的溶液(固体成分浓度为30重量％)的固体成分100份，配合作为交联剂的三羟甲基丙烷/甲苯二异氰酸酯的加合物(商品名：coronatel、日本聚氨酯工业(株)制)0.5份、过氧化二苯甲酰0.1份、作为膦酸系化合物的苯基膦酸(和光纯药工业(株)制)0.4份和作为硅烷偶联剂的γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(商品名：kbm-403、信越化学工业(株)制)0.1份，得到丙烯酸系粘合剂组合物。

(带粘合剂层的基材膜的制作)

利用喷注式涂布机将上述丙烯酸系粘合剂组合物均匀地涂布于经硅酮系剥离剂处理后的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(基材)的表面，利用155℃的空气循环式恒温烘箱干燥2分钟，在基材的表面形成厚度20μm的粘合剂层。接着，使形成有粘合剂层的隔片移接于偏振膜(1)的不具有保护膜的面上，制作带粘合剂层的偏振膜。

实施例2～5

将膦酸系化合物的添加量从0.4份变更为表2中记载的份数，除此以外，与实施例1同样地制作带粘合剂层的基材膜。

实施例6

将苯基膦酸(和光纯药工业(株)制)0.4份变更为乙烷膦酸(和光纯药工业(株)制)0.3份，除此以外，与实施例1同样地制作带粘合剂层的基材膜。

实施例7

将苯基膦酸(和光纯药工业(株)制)0.4份变更为膦酸(东邦化学工业(株)制)0.3份，除此以外，与实施例1同样地制作带粘合剂层的基材膜。

实施例8～12

将制造例3中所得的含有丙烯酸系聚合物(a-1)的溶液分别变更为制造例4～8中所得的含有丙烯酸系聚合物(a-2)～(a－6)的溶液，除此以外，与实施例1同样地制作带粘合剂层的基材膜。

实施例13

(丙烯酸系粘合剂组合物的制备)

相对于制造例3中所得的含有丙烯酸系聚合物(a-1)的溶液(固体成分浓度为30重量％)的固体成分100份，配合作为交联剂的三羟甲基丙烷/甲苯二异氰酸酯的加合物(商品名：coronatel、日本聚氨酯工业(株)制)0.5份、过氧化二苯甲酰0.1份、作为膦酸系化合物的苯基膦酸(和光纯药工业(株)制)0.3份、作为硅烷偶联剂的γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(商品名：kbm-403、信越化学工业(株)制)0.1份、作为离子性化合物的1－甲基－1-乙基吡咯烷鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺(岸田化学(株)制)1份，得到丙烯酸系粘合剂组合物。

(带粘合剂层的基材膜的制作)

除了使用上述丙烯酸系粘合剂组合物以外，与实施例1同样地制作带粘合剂层的基材膜。

实施例14

将实施例1的(带粘合剂层的基材膜的制作)中的基材膜(1)变更为基材膜(2)，除此以外，与实施例1同样地制作带粘合剂层的基材膜。予以说明，粘合剂层形成于基材膜(2)的厚度25μm的降冰片烯系膜(透明保护膜(2))侧。

实施例15、16

将实施例1的(带粘合剂层的基材膜的制作)中的基材膜(1)变更为基材膜(3)、(4)，除此以外，与实施例1同样地制作带粘合剂层的基材膜。

比较例1、2

将膦酸系化合物的添加量从0.4份变更为表2中记载的份数，除此以外，与实施例1同样地制作带粘合剂层的基材膜。

比较例3

除了不使用膦酸系化合物以外，与实施例9同样地制作带粘合剂层的基材膜。

比较例4

除了不使用膦酸系化合物以外，与实施例12同样地制作带粘合剂层的基材膜。

比较例5

除了不使用膦酸系化合物以外，与实施例14同样地制作带粘合剂层的基材膜。

比较例6

在实施例11的(丙烯酸系粘合剂组合物的制备)中不使用膦酸系化合物，并且在(带粘合剂层的基材膜的制作)中将基材膜(1)变更为基材膜(2)，除此以外，与实施例11同样地制作带粘合剂层的基材膜。

比较例7

除了不使用膦酸系化合物以外，与实施例15同样地制作带粘合剂层的基材膜。

对实施例、比较例中所得的带粘合剂层的基材膜、带粘合剂层的基材膜进行以下的评价。

<耐腐蚀性试验>

将在表面形成有非品性ito层的导电性膜(商品名：elecrysta(p400l)、日东电工(株)制，以下有时也称作“透明导电性基材(e－1)”)切割成15mm×15mm，将实施例及比较例中所得的带粘合剂层的基材膜切割成8mm×8mm后贴合于该导电性膜上的中央部，之后，在50℃、5atm下实施15分钟高压釜处理，将所获得的物品设为耐腐蚀性测定样品。使用后述测定装置测定所得的测定用样品的电阻值，将其设为“初始电阻值”。

然后，将测定用样品在温度60℃、湿度90％的环境中投入500小时后，测定电阻值，将其设为“湿热后的电阻值”。予以说明，上述电阻值使用accentopticaltechnologies公司制造的hl5500pc进行测定。根据下式从以上述方式测得的“初始电阻值”及“湿热后的电阻值”算出电阻值变化率(％)，按照以下的评价基准进行评价。

【数1】

(评价基准)

◎：电阻值变化率不足150％(由湿热所引起的电阻值的上升幅度较小(耐腐蚀性良好))

○：电阻值变化率为150％以上且不足300％

△：电阻值变化率为300％以上且不足400％

×：电阻值变化率为400％以上(由湿热所引起的电阻值的上升幅度较大(耐腐蚀性不良))

另外，在实施例1的带粘合剂层的基材膜中，除上述透明导电性基材(e-1)以外，还使用以下的透明导电性基材，进行了耐腐蚀性试验。

透明导电性基材(e-2)：形成有结晶性ito层的膜(商品名：v150-g5y、日东电工(株)制)

透明导电性基材(e-3)：形成有非晶性ito层的玻璃

透明导电性基材(e-4)：形成有结晶性ito层的玻璃

予以说明，透明导电性基材(e-3)及透明导电性基材(e-4)的制造方法如以下所述。

(透明导电性基材(e-3)及透明导电性基材(e-4)的制作)

在无碱玻璃的一面利用溅射法形成ito膜，制作具有晶化ito薄膜的透明导电性基材(e-4)及具有非晶化ito膜的透明导电性基材(e-3)。在将各个基材与实施例、比较例中所得的带粘合剂层的基材膜贴合之前，在140℃进行30分钟的加热处理。结晶性ito薄膜的sn比率为10重量％。非晶性ito薄膜的sn比率为3重量％。予以说明，ito薄膜的sn比率根据sn原子的重量/(sn原子的重量+in原子的重量)来计算。

<粘合剂的耐久性试验(剥离及发泡)>

将实施例、比较例中所得的带粘合剂层的基材膜样品的隔片剥离，并贴合于无碱玻璃(eg-xg、康宁公司制)及形成有非晶性ito的玻璃(透明导电性基材(e-3))的ito面，进行50℃、5atm、15分钟的高压釜处理后，投入至80℃的加热烘箱及60℃/90％rh的恒温恒湿机中。以目视观察500小时后的基材膜的剥离及发泡，按照以下的评价基准进行评价。

◎：完全未发现剥离或发泡。

○：发现以目视无法确认的程度的剥离或发泡。

△：发现能够以目视确认的较小的剥离或发泡。

×：发现明显的剥离或发泡

【表2】

表2中的简称分别如下所述。

(膦酸系化合物)

b-1：苯基膦酸(和光纯药工业(株)制)

b-2：乙烷膦酸(和光纯药工业(株)制)

b-3：膦酸(岸田化学(株)制)

(交联剂)

过氧化物系：过氧化二苯甲酰

异氰酸酯系：三羟甲基丙烷/甲苯二异氰酸酯的加合物(商品名：coronatel、日本聚氨酯工业(株)制)

(离子性化合物)

1-甲基-1-乙基吡咯烷鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺(岸田化学(株)制)

另外，表1、2中的碘含量为偏振片中的碘和/或碘离子的含量(重量％)。

符号说明

1偏振膜

2粘合剂层

3防静电层

4玻璃基板

5液晶层

6驱动电极

7兼作防静电层的传感器层

8兼作驱动电极的传感器层

9传感器层