1.一种高粘性低剥离硅胶保护膜，其特征在于，其包括紫外固化硬涂层、电晕处理层、PET基材膜层、高粘硅胶层和氟素膜剥离层，所述紫外固化硬涂层、电晕处理层、PET基材膜层、高粘硅胶层和氟素膜剥离层按照从上至下的顺序依次贴合；所述PET基材膜层的厚度为40～60微米，所述高粘硅胶层的厚度为10～20微米，氟素膜剥离层的厚度为45～55微米。
2.根据权利要求1所述的高粘性低剥离硅胶保护膜，其特征在于，所述紫外固化硬涂层的厚度为10～15微米。
3.根据权利要求1或2所述的高粘性低剥离硅胶保护膜，其特征在于，所述电晕处理层的厚度为3～5微米。
4.根据权利要求1所述的高粘性低剥离硅胶保护膜，其特征在于，其还包括防刮PET膜层，该防刮PET膜层通过压克力胶层贴合在紫外固化硬涂层上。
5.根据权利要求1所述的高粘性低剥离硅胶保护膜，其特征在于，所述防刮PET膜层的厚度为115～135微米，压克力胶层的厚度为22～28微米。