专利名称：保护膜的制作方法
技术领域：
本发明乃有关一种保护膜，尤指于应用于光学板材表面，用以保护光学产品表面， 以及经黏贴于板材后仍可予以高温高压加工的一保护膜。
背景技术：
按，我国自发展平面显示器以来，在TFT-IXD的光学等级面板零组件材料自主研发生产的比重已越来越高，而在液晶面板背光模块材料上，使用我国自制光学级PMMA导光板所占的比例也已达百分之百，然而，该光学级押出式PMMA导光板材料必须使用洁净程度达光学级保护膜，才能保护该导光板的产品良率与质量。而保护膜主要在生产、加工及组装的过程中，可以保护光学级押出式PMMA导光板，以避免导光板产生损伤。而目前的光学级导光板所使用的保护膜多采用吹膜制程聚乙烯膜，此种保护膜的基材层主要以聚乙烯为主，黏着层则使用醋酸乙烯并辅以增黏剂来使用，该保护膜目前于光学导光板表面保护用途上广泛被使用着，由于黏着层中具有增黏剂此一低分子量的材料，因此在光学级导光板表面保护膜热贴制程中易发生残胶、或是保护膜撕除剥离的痕迹；而保护膜于不同温度进行贴附时，容易产生撕膜拉力不稳定的情形，进而会造成组装背光模块作业的延迟。此外，该黏着层使用醋酸乙烯添加增黏剂的方式来生产制造，该增黏剂必须先与聚乙烯树脂先行混炼，再与醋酸乙烯树脂以所需的比例添加后生产，此种原料的生产工序成本较高，也较费时，而在混炼增黏剂与聚乙烯的配方树脂时， 也容易因为增黏剂的低分子量特性而导致混炼不均，在成形保护膜的基材层，一但发生混炼不均的情形时，会发生黏着力不均的现象，或是产生在不同批号的产品下，会有不同的黏着特性，如此不稳定的特性会导致导光板贴附质量的不稳定性；此外，混练制程的加工温度若无配合增黏剂与聚乙烯的材质特性，于贴附于导光板的贴膜制程中，该黏着层的表面会析出些许的增黏剂，该析出的增黏剂会于光学级导光板的表面形成透明的转写污痕，由于该污痕不易擦拭，因此会造成导光板表面的污染。在光学级导光板裁切过程中，因为板材堆栈及搬运，很容易造成保护膜刮伤，严重时甚至造成保护膜刮破。而在膜内加饰产业中，使用PC、PET板片材来作为印刷后成型的基材也已经被大量使用，使用在这种用途上的保护膜需要承受高温高压的加工制程，一般用于可承受耐高温高压加工的保护膜以上胶型保护膜为主，但上胶型保护膜除了容易产生残胶现象之外，因其本身的成本较高又制程中使用有机溶剂，相对亦造成企业的制成、经营的成本提高，而习知的共押出型保护膜1因其基材层11以PE材料为主、而黏着层12为EVA材料为主，以PE材料为主的基材层11受温达100°C左右即出现软化现象而变形，而该黏着层 12的EVA材料对于温度及压力相当敏感，经黏贴后的板材后续再为加工时，即常因加工时的温度及压力的上升太快太高，使得该保护膜与板材黏贴状况过于紧密，以致于该保护膜1 难以撕除，甚至无法撕除的窘境，如图1、2所示。针对上述二种习知的保护膜皆各有其缺失之处，是以，如何开发出一成本低廉，且可适用于高温高压加工过程的保护膜，即为目前相关业者亟待克服的课题所在。
发明内容
本发明主要目的乃在于克服以往保护膜热贴于光学板材表面，易使该保护膜撕除时产生残胶，或是形成保护膜撕除时产生剥离痕迹的缺失，并同时改善保护膜表面耐刮性及裁切加工性。为此，本发明的主要技术手段，乃在提供一种保护膜，其主要具一基材层及一黏着层，该基材层及黏着层以两种以上的聚乙烯类高分子聚合物及聚丙烯类高分子材料所混合构成，并以共押出型方式成型，其中，该黏着层的黏着力对25°C室温的导光板表面的黏着拉力为0. 1 10g/25mm(JIS-Z-0237)，对50°C温度的导光板表面(热贴)黏着拉力为20 150g/25mm(JIS-Z-0237)，藉此让黏着层的黏着力获得控制，并使其在室温之下不同黏着力在受热后的黏着力变化相当有限，且在经高温高压加工后，该保护膜仍可以轻易完成被撕除及不残胶的工作。本发明的次一技术手段，乃在提供一种保护膜，其主要具一基材层及一黏着层，该基材层的材料为两种以上的聚烯类高分子材料所组成，该聚烯类高分子材料的分子量介于 1000 100000之间，其比例范围则介于1 1 1 100之间，其密度(g/cm3)在0.90 0. 98g/cm3之间，于190°C /2. 16Kg其熔融流速为4 20(g/10min)。该黏着层的材料为醋酸聚乙烯，且该醋酸聚乙烯的分子量介于10000 120000之间，而该醋酸含量于醋酸聚乙烯内的含量比例介于8% 18%之间，藉此可防止基材层的材料内添加剂析出，并有效避免该光学板材的表面形成污痕，进而提升光学板材及及液晶显示内背光模块质量的良率及出光质量。本发明的再一技术手段，乃在提供一种保护膜，该保护膜乃以共押出型方式成型的，其成型过程中的冷却温度控制在O 60°C，以使本发明保护膜的黏着力受到控制，并进一步以使本发明的保护膜的黏着力的黏度范围可达0. 1 10g/25mm，使本发明保护膜黏贴于PMMA、PC或PET板材后再受到高温高压加工时，其黏着力依旧得以保持于一定的范围内， 使本发明保护膜仍可以轻易完成被撕除的工作。
图1为习知保护膜的结构剖面示意图；图2为习知保护膜的温度及黏着力关系表现图；图3为本发明保护膜的结构剖面示意图；图4为本发明保护膜及光学板材的剖面示意图；图5为本发明保护膜另一实施例的示意图；图6为本发明保护膜的温度及黏着力关系表现图。图号说明1保护膜 11基材层12黏着层2保护膜 21基材层 211离型层212中间层 22黏着层3光学板材
具体实施例方式首先，请参阅图3所示，本发明保护膜2至少包含有一基材层21及一黏着层22， 本发明的保护膜2乃以共押制程生产，其主要由聚乙烯高分子聚合物及聚丙烯高分子材料所混合构成，该材料经过配料系统后，会由押出机押出，并于押出机的模头汇流成一体，当保护膜1成形后，其基材层21与黏着层22均同时成形押出完毕，且无须另行涂布加工黏着层与离型材料层，且该保护膜2经过模头押出成形后，随即经过冷却与回火制程，藉此， 可确保在不同温度下，该保护膜2尺寸的安定性，而收卷成卷料时，使其经过不同阶段的张力控制，以确保良好的卷料开卷特性，其中，该基材层21的材料为两种以上的聚烯类高分子材料所组成，该聚烯类高分子材料的分子量介于1000 100000之间，其密度(g/cm3)在 0. 90 0. 98g/cm3(JIS-K-7112)之间，于 190 °C /2. 16Kg 其熔融流速为 1 20 (g/10min)，其比例范围则介于1 1 1 100之间，该基材层21包括有一离型层211及一中间层212， 该基材层221的厚度范围为97 μ m 3 μ m，且该中间层212与离型层211的厚度比例介于 1 1 1 100之间；而该黏着层的材料为醋酸聚乙烯，并未添加任何增黏剂，该醋酸聚乙烯的分子量介于10000 120000之间，其密度(g/cm3)在0. 90 0. 96g/cm3(JIS-K_7112) 之间，熔融流速为1 20(g/10min) (JIS-K-6924)，该醋酸含量于醋酸聚乙烯内的含量比例介于5% 30%之间，该黏着层22的的黏着力对25°C室温的PMMA光学板材3表面的黏着力为0. 1 10g/25mm，对50°C温度的PMMA光学板材3表面(热贴)黏着拉力为20 150g/25mm,该保护膜2的整体厚度范围为30 μ m 100 μ m,该基材层21表面铅笔硬度范围为H 3H(ASTM-D-3363)，而黏着层22的厚度范围为3 μ m 97 μ m，该保护膜2的光学雾度值(Haze, % ) (JIS-K-7105)介于 5%~ 60%之间。次请参阅图4所示，本发明于实施时，该离型层211、中间层212及黏着层22的整体厚度范围为30μπι IOOym之间。该基材层21膜层材料都含两种以上的聚烯类高分子材料与功能添加剂等。该离型层211、中间层212及黏着层22各层的厚度均不超过另两层厚度结构的总和，而由于该黏着层22中未添加有增黏剂，因此该黏着层22不会产生混炼不均的情形，同时不会产生黏着力不均的现象，同时保护膜2贴附于光学板体3的贴膜制程中，该黏着层22的表面亦不会析出增黏剂而形成透明的转写污痕。再请参阅图5所示，本发明的保护膜2于实施时，由于该基材层21以聚烯类材料当主体，藉此，可控制保护膜2的延伸率(elongation)在100 900%，拉伸强度(tensile strength)在7 !35MPa、熔点(Melting point)落在100 200°C。该基材层21表面铅笔硬度范围为H 3H(ASTM-D-3363)，而黏着层22为聚烯类材料所成，其熔点则为60 160°C，其中，本发明的保护膜2于其成型时的冷却温度控制在0 40°C，而于此温度之间聚烯类的分子链经热松解再结晶时的结晶度各有不同，藉此也让黏着层22的黏着力获得控制，使其对PMMA光学板材黏度可达0. 1 10g/25mm，使其在室温之下不同黏着力在受热后的黏着力变化相当有限，使本发明保护膜2可轻易撕除。又请参阅图6所示，本发明的保护膜2的基材层21因选用了耐温性较佳的聚烯类材料所成，故经黏贴后的板材再经加工时，可保该保护膜2的完整性及尺寸的安定性。又， 当保护膜2受到高温高压锁模力IOOOton)后，其中的黏着层22的黏着力依旧可保持在400 %以内的范围，使本发明保护膜2黏贴于PMMA光学板材再经高温高压加工后，不会有难以撕除的窘境。而基材层21及黏着层22同为聚烯类材料之下，经共押出成型后本发明保护膜1中的基材层21及黏着层22可达完全的结合，如此可杜绝应用时产生残胶的情形。
权利要求
1.一种保护膜，其特征在于，至少包括有一基材层，为两种以上的聚烯类高分子材料所组成，该聚烯类高分子材料的分子量介于1000 100000之间，其比例范围则介于1 1 1 100之间，该基材层包括有一离型层及一中间层；以及一黏着层，该黏着层的黏着力对25°c室温的PMMA导光板表面的黏着拉力为0. 1 10g/25mm，对50°C温度的PMMA导光板表面黏着力为20 150g/25mm。
2.如权利要求1所述的保护膜，其特征在于，该基材层的厚度范围为97μ m 3 μ m。
3.如权利要求1所述的保护膜，其特征在于，该中间层与离型层的厚度比例介于 1 1 1 100之间。
4.如权利要求1所述的保护膜，其特征在于，该黏着层的材料为醋酸聚乙烯，且该醋酸聚乙烯的分子量介于10000 120000之间，而该醋酸含量于醋酸聚乙烯内的含量比例介于 5%~ 30%之间。
5.如权利要求1所述的保护膜，其特征在于，该保护膜的整体厚度范围为30μπι 100 μ m0
6.如权利要求1所述的保护膜，其特征在于，该黏着层的厚度范围为3μ m 97 μ m。
7.如权利要求1所述的保护膜，其特征在于，该保护膜的光学雾度值(Haze，%)介于 5%~ 60%之间。
8.如权利要求1所述的保护膜，其特征在于，该离型层、中间层及黏着层各层的厚度均不超过另两层厚度结构的总和。
9.如权利要求1所述的保护膜，其特征在于，该基材层表面铅笔硬度范围为H ;3H。
10.一种高温成型用保护膜，其特征在于，至少包括有一基材层，以聚烯类材料当主体，控制保护膜的延伸率在100 900%，拉伸强度在7 35MI^a、熔点落在 100 200°C ；一黏着层，为聚烯类材料所成，其熔点落在60 160°C ；其中，该保护膜以共押出型方式成型，且其成型的冷却温度控制在0 40°C之间，藉此可使保护膜黏着力受到控制，以得到不同程度的黏着力。
11.如权利要求10所述的保护膜，其特征在于，保护膜黏着层的黏着力的黏度范围可达 0.2 10g/25mm。
12.如权利要求10所述的保护膜，其特征在于，该基材层以聚烯类材料当主体，控制保护膜的延伸率在100 900%，拉伸强度在7 35MPa、熔点落在100 200°C。
13.如权利要求10所述的高温成型用保护膜的制法，其特征在于，该保护膜受到高温 200°C的高压锁模力IOOOton后，其黏着力保持在400%以内范围之中。
14.如权利要求10所述的保护膜，其特征在于，该基材层表面铅笔硬度范围为H 3H。
全文摘要
本发明乃有关一种保护膜，其主要具一基材层及一黏着层，该基材层及黏着层以两种以上的聚乙烯类高分子聚合物及聚丙烯类高分子材料所混合构成，并以共押出型方式成型，其中，其成型过程的冷却温度控制于在0～60℃，而黏着层的黏着力对25℃室温的PMMA导光板表面的黏着拉力为0.1～10g/25mm，对50℃温度的PMMA导光板表面(热贴)黏着拉力为20～150g/25mm，藉此让黏着层的黏着力获得控制，并使其在室温之下不同黏着力在受热后的黏着力变化相当有限，且在经高温高压加工后，该保护膜仍可以轻易完成被撕除及不残胶的工作。
文档编号C09J123/00GK102337087SQ20101023133
公开日2012年2月1日 申请日期2010年7月20日 优先权日2010年7月20日
发明者吴嘉哲, 林升勋, 王韡阊, 麦建进, 黄季仁 申请人:鸿威光电股份有限公司, 麦建进