粘结膜用剥离膜、以及使用该粘结膜用剥离膜的粘结膜的制作方法
【专利说明】
[0001] 本申请是申请日为2013年5月16日、申请号为201310181917. 1、发明名称为"粘 结膜用剥离膜、以及使用该粘结膜用剥离膜的粘结膜"的申请的分案申请。
技术领域
[0002] 本发明涉及一种贴合在粘结膜的粘结剂层表面的粘结膜用剥离膜。更详细而言， 本发明提供用于实现对被粘附体的污染少的粘结膜的粘结膜用剥离膜，进而，提供用于实 现具有优异的防剥离静电性能的粘结膜的粘结膜用剥离膜。
【背景技术】
[0003] -直以来，在用于保护粘结剂层表面的保护膜等各种用途中，使用剥离膜（也称 为"脱模膜"）。作为剥离膜的通常用途，例如，将剥离膜贴合在基材的单面形成有粘结剂层 的粘结膜上、或者贴合在无基材的粘结剂层上，以保护粘结剂层。在粘结剂层上贴合了剥离 膜的粘结膜，以这种贴合状态直接进行保管，从而防止粘结剂层受污染而粘结力下降的现 象。
[0004] 另外，对粘结剂层上贴合了剥离膜的粘结膜而言，使用该粘结膜时，可以剥掉剥离 膜使粘结剂层暴露后，贴合在其他基材等上。从粘结膜剥掉的剥离膜，则进行废弃处理。
[0005] 另外，在基材的单面形成有粘结剂层的粘结膜中，在基材的一个面涂布剥离剂以 使其具有剥离功能，在基材的另一个面涂布粘结剂并使其干燥，从而形成粘结剂层之后，根 据需要，也可以卷绕成卷儿，以节省剥离膜。
[0006] 另外，在以触控面板、显示器为代表的光学膜等采用树脂膜层叠体的技术领域中， 在贴合树脂膜时，使用各种粘结剂。具体而言，如通过粘结剂层将偏光板固定在液晶面板 上；通过粘结剂层贴合多个光学膜；使用玻璃、树脂板等粘结剂层贴合光学膜等。并且，不 仅在恒久地粘接光学部件的用途，而且在光学部件临时表面保护用途、光学部件的制造工 序中的载体用途等的再剥离用途中，粘结剂也用于保护膜、载体膜等的贴合中。
[0007] 在这种使用粘结剂的技术领域中，作为粘结剂层的保护用途，使用剥离膜。通常的 剥离膜中，在基材的至少单面上，涂布剥离剂等而形成剥离剂层。作为剥离膜所要求的性 能，必须具有适度的剥离性能、且即使贴合在粘结剂层上，也不会降低粘结力。在作为剥离 剂使用有机硅等的剥离膜中，当贴合于粘结剂层上时，有机硅转移至粘结剂层的表面，致使 粘结力下降。关于减少有机硅转移的剥离膜，提出了多个方案。
[0008] 例如，在专利文献1和专利文献2中，提出了通过限定有机硅的组成来减少有机硅 的转移的剥离膜。另外，在专利文献3中，提出了通过设置底涂层来减少有机硅的转移的剥 离膜。进而，在专利文献4中，提出了将聚酯膜的未处理面与剥离膜的剥离处理面贴合后在 规定条件下进行处理，并限定处理后的聚酯膜表面的有机硅量的剥离膜。
[0009] 由专利文献1至专利文献4记载的内容明确可知，在现有技术中，以如何减少剥离 剂的成分从剥离膜向贴合面转移为课题，提出了多种减少剥离剂的成分向贴合面转移的方 案。
[0010] 另一方面，在光学产品的制造工序中，作为用于防止损伤、污垢附着的表面保护 膜，通常使用在基材膜的单面设置了粘结剂层的粘结膜。这种表面保护用粘结膜，是通过具 有微粘结力的粘结剂层贴合在光学用膜上。之所以使用具有微粘结力的粘结剂层，是因为 当将已经用完的表面保护膜从光学用膜的表面剥离并去除时，能够容易地进行剥离，且能 够防止粘结剂附着并残留在作为被粘附体的光学用膜产品（所谓的防止残胶的产生）。 [0011] 近年来，在液晶显示器面板的生产工序中，由于在剥离并去除贴合在光学用膜上 的表面保护膜时所产生的剥离静电压，用于控制液晶显示画面的驱动集成电路（driver integratedcircuit)等电路部件受损的现象、或液晶分子的取向受损的现象，虽然发生的 件数少，但毕竟还是在发生。
[0012] 另外，为了减少液晶显示面板的耗电，液晶材料的驱动电压变低。随之，驱动 集成电路的击穿电压（breakdownvoltage)也变低。最近，还要求剥离静电压控制在 +0? 7kV~一 0? 7kV的范围内。
[0013] 为了在从作为被粘附体的光学用膜剥离表面保护膜时，防止因剥离静电压高而导 致缺陷，提出了一种表面保护膜，其使用了包含用于抑制剥离静电压较低的防静电剂的粘 结剂层。
[0014] 例如，在专利文献5中，公开了使用由烷基三甲基铵盐、含羟基丙烯酸类聚合物、 聚异氰酸酯构成的粘结剂的表面保护膜。
[0015]另外，在专利文献6中，公开了由离子性液体和酸价为1. 0以下的丙烯酸聚合物构 成的粘结剂组合物、以及使用了该粘结剂组合物的粘结片类。
[0016] 另外，在专利文献7中，公开了由丙烯酸聚合物、聚醚多元醇化合物、通过阴离子 吸附性化合物进行处理的碱金属盐构成的粘结组合物、以及使用了该粘结组合物的表面保 护膜。
[0017] 另外，在专利文献8中，公开了在表面保护膜的粘结剂层混合聚醚改性有机硅 (polyether-modifiedsilicone)的方案。
[0018] 在上述专利文献5~专利文献7中，虽然在粘结剂层的内部添加有防静电剂，但 是，随着粘结剂层的厚度变厚，且随着时间的经过，相对于贴合有表面保护膜的被粘附体， 从粘结剂层向被粘附体转移的防静电剂的量变多。并且，在低反射（LowReflective，LR) 偏光板或防眩光（AntiGlare，AG)-低反射偏光板等光学用膜所使用的表面保护膜中，由于 利用有机硅化合物或氟化合物等对光学用膜的表面进行了防污染处理，因此，从被粘附体 剥离这种光学用膜所使用的表面保护膜时，剥离静电压变高。
[0019] 另外，如专利文献8所述，在粘结剂层中混合有聚醚改性有机硅的情况下，很难对 表面保护膜的粘结力进行微调整。并且，由于粘结剂层内混合有聚醚改性有机硅，因而若在 基材膜上涂布/干燥粘结剂组合物的条件发生变化，则形成于表面保护膜的粘结剂层的表 面特性发生微妙的变化。进而，从保护光学用膜表面的观点来看，无法使粘结剂层的厚度变 得极薄。为此，必须根据粘结剂层的厚度，增加混合在粘结剂层内的聚醚改性有机硅的添加 量。其结果，容易对被粘附体的表面造成污染，且经时粘结力、对被粘附体的污染性发生变 化。
[0020] 为此，需要如下所述的粘结膜：一种作为低反射偏光板或防眩光-低反射偏光板 等光学用膜的表面保护用的粘结膜，即使光学用膜的表面经过了由有机硅化合物或氟化合 物等进行的防污染处理，也能够抑制从光学用膜剥离粘结膜时的剥离静电压较低，且对被 粘附体的污染少。
[0021] 现有技术文献
[0022] 专利文献
[0023] 专利文献1:日本特开2009-214357号公报
[0024] 专利文献2:日本特开2011-207197号公报
[0025] 专利文献3:日本特开2001-246698号公报
[0026] 专利文献4:日本特开2004-306344号公报
[0027] 专利文献5:日本特开2005-131957号公报
[0028] 专利文献6 :日本特开2005-330464号公报
[0029] 专利文献7:日本特开2005-314476号公报
[0030] 专利文献8 :日本特开2009-275128号公报
【发明内容】
[0031] 为了解决上述问题，本发明人等进行了深入的研宄。考虑到所产生的剥离静电压 是随着重叠物质的摩擦电序（triboelectricseries)离得越远就越大，因此，试着在粘结 剂层的表面形成摩擦电序与光学用膜的表面材质相近的物质。
[0032] 其结果发现，不形成将聚醚改性聚硅氧烷（polyether-modified polysiloxane(s))混合在粘结剂组合物的粘结剂层，而是在涂布粘结剂组合物并使其干燥 而层叠粘结剂层后，在粘结剂层的表面附着适量的聚醚改性聚硅氧烷是有效的。进而发现， 从剥离膜的剥离剂层向与剥离剂层相接触的粘结剂层仅以所必要的量供给所必要的成分 时，可获得能够抑制从光学用膜剥离形成有上述粘结剂层的粘结膜时的剥离静电压较低， 且对被粘附体的污染少的粘结膜，由此完成了本发明。
[0033] 本发明的课题在于，提供用于形成对被粘附体的污染少的粘结膜的粘结膜用剥离 膜，进而，提供用于形成具有优异的防剥离静电性能的粘结膜的粘结膜用剥离膜。
[0034] 为了解决上述课题，本发明的粘结膜用剥离膜，至少在基材的单面层叠有剥离剂 层，该剥离剂层包含以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂和20°C温度下是液体的有机 硅类化合物。通过该剥离剂层，在粘结膜的粘结剂层的表面贴合本发明的粘结膜用剥离膜， 由此在粘结剂层的表面附着适量的20°C温度下是液体的有机硅类化合物，将从被粘附体剥 离粘结膜时的剥离静电压抑制为较低。
[0035] 为了解决上述课题，本发明提供一种粘结膜用剥离膜，其是能够保护至少在基材 膜的单面层叠有粘结剂层的粘结膜的该粘结剂层、且能够剥离的粘结膜用剥离膜，其特征 在于，至少在树脂膜的单面层叠剥离剂层而成，并通过该剥离剂层贴合在上述粘结剂层的 表面上，上述剥离剂层含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂和20°C温度下是液体 的有