专利名称：共平面三轴定位装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及有一种定位装置，特别是指一种可于同一平面作第一方向(X轴)、第二方向(Y轴)或第三方向(Θ轴)运动的次微米级定位装置。
背景技术：
近年来奈米科技的研究发展相当显著，许多高科技产业如半导体、信息、电子、通讯、光电等技术领域，其加工及制造技术已朝向超微型化及精密化的方向发展。因此，对于微米甚至是奈米级的精密定位装置需求量亦大幅增加，且精密定位装置的对准定位的精度可否达到标准，亦是相关产业制程质量的成败关键。
为此，前述高科技产业于进行精密封装技术的生产制程中，为使其产品的精密度及良率符合标准，通常会利用一精 密定位平台对欲进行加工的工件进行精密定位。而目前精密定位平台主要是具有X、Y轴方向直线定位，以及Θ轴方向旋转定位功能，借以达成对工件进行三自由度高精密调整定位的效果，而广泛应用于高科技产业生产制程的精密定位用途。
上述精密定位平台是如中国台湾第201102273号的“对准台”，该对准台是具备有:底座；配置在前述底座的上方位置之用来保持会有移动负荷作用于其上的工件的顶台；由可在正交的两方向滑动的导件、及设在前述导件上的旋转轴承所构成的具有X、Y、Θ三个自由度的所需数目的支持单元；以及在该支持单元配备一轴方向的直线运动机构而构成的至少三个驱动单元；其中，前述支持单元与前述驱动单元是以沿着前述移动负荷的移动方向的交差错开状的配置配备在前述底座与前述顶台之间，且使前述各驱动单元之中的两个驱动单元的直线运动机构所驱动的驱动方向、与剩下的驱动单元的直线运动机构所驱动的驱动方向在X-Y平面内正交。该专利虽可达到让工件在X、Y、Θ三轴方向位移并进行精密定位，但该专利的结构复杂，其需要使用多层的滑轨结合，导致加工成本提升，整体体积变大，而且也容易产生累积误差。再者，该专利的结构并无真正的旋转轴，须由三轴的非对称移动来产生干涉，再由干涉造成旋转移动，导致整体的机械阻力比较大。
另于中国台湾第1247201号的“平台装置及曝光装置”，该平台装置为一具有在不接触的情形下即可于一固定盘表面上移动的一活动部的平台装置，其特征为该固定盘包含由石材所构成的一本体部分与由于表面熔射有陶瓷的一表面部，该活动部具有一第一活动部与一第二活动部，且该第一活动部与该第二活动部中与该表面部相对向的部分是各自形成有一陶瓷部。该专利的缺点在于该平台装置不具有旋转功能，如果需要旋转功能必须再安装一旋转轴于该平台装置上。然后此专利的X轴位移平台设置于Y轴位移平台上，当承载工件的重量较重时，于高速定位的状态下会产生惯性惯量的影响。
为了解决上述的问题，本发明提供一种共平面三轴定位装置，其可于同一平面上作Χ、γ、Θ三轴方向的运动，而其定位精度达到次微米级。而且共平面三轴定位装置的结构简单及容易模块化，各运动方向的驱动模块不会相互堆栈，使整体的体积薄型化，并具有较大的位移范围。发明内容
本发明的目的，在于提供一种共平面三轴定位装置，其可于同一平面作一第一方向(X轴)、一第二方向(Y轴)或一第三方向(Θ轴)的运动，以定位一工件的位置，该共平面三轴定位装置的定位精度可达到次微米级。
本发明的目的，在于提供一种共平面三轴定位装置，其结构简单及容易模块化，各运动方向的驱动模块不会相互堆栈，使整体的体积薄型化，并具有较大的位移范围。
本发明的技术方案:一种共平面三轴定位装置，其是包含:
一固定平台，具有一第一侧边及二第二侧边，该二第二侧边相对应，并分别与该第一侧边的两端相邻及正交，该固定平台设有一第一驱动模块及二第二驱动模块，该第一驱动模块设置于该第一侧边，该二驱动模块分别设置于该二第二侧边；以及
一定位模块，是包含:
一定位平台，位于该固定平台上，并具有一第一侧面及二第二侧面，该第一侧面对应该固定平台的该第一侧边，该二第二侧面对应该固定平台的该二第二侧边；
—第一驱动轴，其一端设置于该定位平台的该第一侧面，其另一端滑设于该第一驱动模块；以及
二第二驱动轴，其一端分别设置于该定位平台的该二第二侧面，其另一端分别滑设于该第二驱动模块，该二第二驱动轴与该第一驱动轴相互垂直；
其中该定位平台是承载一工件，该第一驱动模块及该二第二驱动模块驱动该第一驱动轴及该二第二驱动轴，带动该定位平台于同一平面上作一第一方向、一第二方向或一第三方向的运动，以定位该工件。
本发明中，其中该第一驱动模块是包含:
一滑轨，设置于该固定平台的该第一侧边；
一滑动件，滑设于该滑轨；
一轴承，设置于该滑动件，并供该第一驱动轴滑设；以及
一驱动装置，驱动该滑动件滑动于该滑轨，且带动该第一驱动轴，该第一驱动轴滑动于该轴承及/或带动该轴承旋转于该滑动件。
本发明中，其中该第二驱动模块是包含:
一滑轨，设置于该固定平台的该第二侧边；
一滑动件，滑设于该滑轨；
一轴承，设置于该滑动件，并供该第二驱动轴滑设；以及
一驱动装置，驱动该滑动件滑动于该滑轨，且带动该第二驱动轴，该第二驱动轴滑动于该轴承及/或带动该轴承旋转于该滑动件。
本发明中，其中该驱动装置为一马达或一压电材料。
本发明中，更包含:
一测量装置，设置于该滑轨的一侧，以测量该滑动件的位置，其中该测量装置为一光学尺。
本发明中，更包含:
一旋转轴，设置于该滑动件与该轴承之间；以及
一旋转轴承，设置该旋转轴，并位于该滑动件与该轴承之间。
本发明中，其中该定位平台更设有:
复数气沟，设置于该定位平台与该工件接触的表面并向下延伸，且不穿过该定位平台与该固定平台接触的表面；以及
至少一抽气口，设置于该定位平台的一侧面，并与该些气沟连通，该些气沟内的一气体是从该抽气口排出，该工件被吸附于该定位平台上。
本发明中，其中该定位平台更设有:
复数气沟，设置于该定位平台与该固定平台接触的表面并向上延伸，且不穿过该定位平台与该工件接触的表面；以及
至少一进气口，设置于该定位平台的一侧面，并与该些气沟连通，该进气口提供一气体至该些气沟，使该定位平台浮于该固定平台上方。
本发明中，其中该定位平台更设有:
复数第一气沟，设置于该定位平台与该工件接触的表面并向下延伸，且不穿过该定位平台与该固定平台接触的表面；
至少一抽气口，设置于该定位平台的一侧面，并与该些第一气沟连通，该些第一气沟内的一第一气体是从该抽气口排出，该工件被吸附于该定位平台上；
复数第二气沟，设置于该定位平台与该固定平台接触的表面并向上延伸，并不穿过该定位平台与该工件接触的表面；以及
至少一进气口，设置于该定位平台的一侧面，并与该些第二气沟连通，该进气口提供一第二气体至该些第二气沟，使该定位平台浮于该固定平台上方。
本发明中，更包含:
—补强结构，包含二连接杆，该二连接杆分别连接于该第一驱动轴与该二第二驱动轴之间。
本发明中，其中该补强结构更包含:
三连接块，分别设置于该第一驱动轴及该二第二驱动轴的末端，该连接杆连接相邻的该二连接块。
本发明具有的有益效果:本发明提供一种共平面三轴定位装置，共平面三轴定位装置利用第一驱动轴及二第二驱动轴带动定位平台移动，定位平台可于同一平面作第一方向、第二方向或第三方向的运动，共平面三轴定位装置的定位精度可达到次微米级。然后本发明的共平面三轴定位装置的结构简单并容易组装及模块化，各运动方向的驱动模块不会相互堆栈，使整体的体积薄型化，并具有较大的位移范围。
图1为本发明的第一实施例的立体图2为本发明的第一实施例的第一使用状态图3为本发明的第一实施例的第二使用状态图4为本发明的第一实施例的第三使用状态图5为本发明的第一实施例的滑动件与轴承组合图6为本发明的第二实施例的定位平台的示意图7为本发明的第三实施例的定位平台的示意图；以及
图8为本发明的第四实施例的立体图。
图号对照说明
I共平面三轴定位装置10固定平台
101第一侧边102第二侧边
12第一驱动模块121滑轨
122滑动件123轴承
125测量装置126旋转轴
127旋转轴承14第二驱动模块
141滑轨142滑动件
143轴承145测量装置
16定位模块161定位平台
1611第一侧面1612第二侧面
1613第一表面16131第一气沟
16132 抽气口1614 第二表面
16141 第二气沟16142 进气口
162第一驱动轴163第二驱动轴
18补强结构181连接块
182连接杆具体实施方式
为使对本发明的结构特征及所达成的功效有更进一步的了解与认识，用以较佳的实施例及附图配合详细的说明，说明如下:
请参阅图1，其为本发明第一实施例的立体图；如图所示，本实施例是提供一种共平面三轴定位装置1，其主要可于同一平面上作一第一方向(沿X轴移动)、一第二方向(沿Y轴移动)或一第三方向(以Z轴为中心旋转)的运动，然后共平面三轴定位装置I的精密度达到次微米级。共平面三轴定位装置I是包含一固定平台10、一第一驱动模块12、二第二驱动模块14及一定位模块16。固定平台10是具有一第一侧边101及二第二侧边102，第一侧边101位于固定平台10的一侧，二第二侧边102分别位于固定平台10的两侧并相互对应。二第二侧边102分别与第一侧边101的两端相邻，并位于第一侧边101的同侧，且分别与第一侧边101正交。
第一驱动模块12设置于第一侧边101，二第二驱动模块14分别设置于对应的第二侧边102。然后定位模块16与第一驱动模块12及二第二驱动模块14连接，并位于固定平台10的上方。定位模块16是包含一定位平台161、一第一驱动轴162及二第二驱动轴163，定位平台161包含一第一侧面1611及二第二侧面1612，第一侧面1611对应固定平台10的第一侧边101，二第二侧面1612对应固定平台10的二第二侧边102。第一驱动轴162的一端设置于定位平台161的第一侧面1611,其另一端滑设于第一驱动模块12。第二驱动轴163的一端设置于定位平台161的第二侧面1612，其另一端滑设于第二驱动模块14。其中第一驱动轴162与二第二驱动轴163相互垂直。
本实施例的共平面三轴定位装置I可用于定位一工件的位置，先将工件置放于定位平台161上，第一驱动装置12及二第二驱动装置14驱动第一驱动轴162及二第二驱动轴163，第一驱动轴162及二第二驱动轴163带动定位平台161作第一方向、第二方向或第三方向的运动，工件透过定位平台161移动，进而定位工件的位置。请一并参阅图2，当只有第一驱动模块12驱动第一驱动轴162时，第一驱动轴162带动定位平台161作第一方向(沿X轴方向)的运动。另参阅图3，当只有二第二驱动模块14驱动二第二驱动轴163时，二第二驱动模块14驱动二第二驱动轴163的位移量相同，二第二驱动轴163带动定位平台161作第二方向(沿着Y轴方向)的运动；再参阅图4，当第一驱动模块12与二第二驱动模块14同时驱动第一驱动轴162及二第二驱动轴163，且二第二驱动模块14驱动二第二驱动轴163的位移量不同时，第一驱动轴162及二第二驱动轴163带动定位平台161作第三方向(沿Z轴方向作旋转)的运动。
由上述可知，本实施例的共平面三轴定位装置I可于同一平面上作第一方向、第二方向或第三方向的运动。而且本实施例的共平面三轴定位装置I的结构简单及容易组装及模块化，各运动方向的驱动模块不会相互堆栈，使整体的体积薄型化，并具有较大的位移范围。此外，本实施例的共平面三轴定位装置I进行第三方向(沿Z轴方向)作旋转运动时，其旋转中心并不局限于其定位平台的中心点，因而增加工件定位的便利性。
承上述，复参阅图1，第一驱动模块12及二第二驱动模块14驱动第一驱动轴162及二第二驱动轴163，第一驱动轴162及二第二驱动轴163带动定位平台161作第一方向、第二方向或第三方向的运动。第一驱动模块12及第二驱动模块14是分别包含一滑轨121、141、一滑动件122、142、一轴承123、143及一驱动装置(未绘不)。第一驱动模块12的结构与第二驱动模块14的结构相同，于此仅以第一驱动模块12作说明。第一驱动模块12的滑轨121设置于固定平台10的第一侧边101，滑动件122滑设于滑轨121，轴承123枢接于滑动件122，轴承123于滑动件122上旋转，第一驱动轴162滑设于轴承123，第一驱动轴162滑动于轴承123内。驱动装置连接滑动件122，并驱动滑动件122于滑轨121上滑动，亦同时驱动轴承123沿滑轨121移动，进而带动滑设于轴承123的第一驱动轴162，第一驱动轴162带动定位平台161。第一驱动轴162于移动过程中可滑动于轴承123内，或带动轴承123于滑动件122上旋转。
复参阅图2，当只有第一驱动模块12的滑动件122被驱动装置驱动并向左侧移动时，滑动件122带动滑设于轴承123的第一驱动轴162向左侧移动，第一驱动轴162带动定位平台161亦向左侧移动，位于定位平台161两侧的二第二驱动轴163被定位平台161带动并向左侧移动，而二第二驱动轴163滑动于对应的轴承143内。再参阅图3，当只有每一第二驱动模块14的滑动件142被驱动装置驱动并向上移动时，二滑动件142带动枢接于二轴承143的二第二驱动轴163向上移动，本实施例的二滑动件142的移动量相同，所以二第二驱动轴163于移动过程呈水平。二第二驱动轴163带动定位平台161亦向上移动，位于定位平台161 —侧的第一驱动轴162被定位平台161带动并向上移动，即第一驱动轴162滑动于对应的轴承123内。
复参阅图4，此图揭示带动定位平台161作第三方向(沿Z轴方向作旋转)的运动，第一驱动模块12的滑动件122被驱动装置驱动并向左移动，滑动件122带动滑设于轴承123的第一驱动轴162向左移动，第一驱动轴162带动定位平台161向左移动。同时地，二第二驱动模块14的滑动件142被驱动装置驱动并向下移动，本实施例的二滑动件142的移动量不同，位于定位平台161左侧的滑动件142的移动量小于位于定位平台161右侧的滑动件142的移动量，二滑动件142分别带动对应的第二驱动轴163，二第二驱动轴163于移动过程中必须呈一直线，所以二第二驱动轴163分别带动对应的轴承143转动，进而使定位平台161作顺时针旋转。然后第一驱动轴162必须与二第二驱动轴163相互垂直，当定位平台161被二第二驱动轴163带动并作第三方向运动(即沿Z轴方向作旋转)时,第一驱动轴162带动对应的轴承123转动，以维持与二第二驱动轴163相互垂直。
本实施例的驱动装置使用线性马达，所以利用线性马达的特性，例如:高精度、高加速度、高伺服响应的特性，以使共平面三轴定位装置I的定位精度达到次微米级。当然驱动装置可使用其他种类的马达或压电材料，其主要依据使用者的需求替换，于此不再赘述。第一驱动模块12及二第二驱动模块14更分别包含一测量装置125、145，测量装置125、145位于滑轨的一侧，以测量滑动件122、142的位置，本实施例的测量装置125、145为一光学尺，亦可使用其他测量装置，于此不再赘述。
本实施例的轴承123、143是使用线性气压轴承，使第一驱动轴162及二第二驱动轴163可线性滑动于对应的轴承123、143内，而且使用气压轴承可使第一驱动轴162及二第二驱动轴163高速度及高精度移动，有效提升共平面三轴定位装置I的定位精度，然后气压轴承的损耗较一般轴承小，所以降低共平面三轴定位装置I的维护成本。请一并参阅图5，本实施例是以第一驱动模块12为例，而滑动件122与轴承123之间更设置一旋转轴126，旋转轴126 —端固定于滑动件122，其另一端枢接于轴承123，使轴承123可于滑动件122上旋转。为了使轴承123可顺畅地于滑动件122上旋转，可于旋转轴126上更设置一旋转轴承127，旋转轴承127位于滑动件122与轴承123之间，以使轴承123可于滑动件122顺畅地旋转。当然第二驱动模块14亦可包含旋转轴及旋转轴承，于此不再赘述。
请参阅图6，是本发明的第二实施例的定位平台的示意图。如图所示，本实施例的定位平台161具有一第一表面1613及一第二表面1614,第一表面1613与第二表面1614相对应，而第一表面1613是承载工件。定位平台161的第一表面1613是设有复数第一气沟16131，该些第一气沟16131从第一表面1613向第二表面1614延伸，但不穿过第二表面1614。然后于定位平台161的一侧设有一抽气口 16132，抽气口 16132与该些第一气沟16131连通。抽气口 16132可连接一抽气装置(未绘示)，将工件与第一表面1613间的一第一气体从抽气口 16132抽出，使工件完全被吸附于定位平台161的第一表面1613，如此有效固定工件于定位平台161上。
请参阅图1、图7，承上述，本实施例更于定位平台161的第二表面1614上设置复数第二气沟16141，该些第二气沟16141是从第二表面1614向第一表面1613延伸，但不穿过第一表面1613。定位平台161的一侧更设有一进气口 16142，进气口 16142是与该些第二气沟16141连通。进气口 16142连接一进气装置，以提供一第二气体从进气口 16142进入至该些第二气沟16141，从该些第二气沟16141释放出的第二气体施加于固定平台10而产生反作用力，使定位平台161形成一气浮平台，并浮动于固定平台10上，以减少定位平台161与固定平台10间的摩擦力，并增加定位平台161的移动速度，进而提升共平面三轴定位装置的操作速度。本实施例的定位平台161可省略该些第一气沟及抽气口的设置，于此不再赘述。此外，本实施例仅提供一种可减少定位平台与固定平台间的摩擦力的方式，亦有其他方式，举例来说，可将气沟及进气口设置于固定平台，或可于固定平台与定位平台161间涂布润滑油，亦可达到上述功效，于此不再赘述。
请参阅图8，是本发明的第四实施例的立体图。如图所示，本实施例与上述实施例不同在于，本实施例的共平面三轴定位装置I更包含一补强结构18，补强结构18是包含三连接块181及二连接杆182，第一驱动轴162及二第二驱动轴163的末端分别设有连接块181，一连接杆182连接位于定位平台161左侧的连接块181与位于第一驱动轴162末端的连接块181，另一连接杆182连接位于定位平台161右侧的连接块181与位于第一驱动轴162末端的连接块181。而补强结构18主要可分散第一驱动轴162或第二驱动轴163与定位平台161连接处的应力，而带动定位平台161顺畅地位移，举例来说，第一驱动模块12驱动第一驱动轴162,第一驱动轴162为了使定位平台161移动,所以第一驱动轴162与定位平台161连接处的应力增加，补强结构18分散第一驱动轴与定位平台161连接处的应力，并带动二第二驱动轴163移动，进而带动定位平台161移动。
综上所述，本发明提供一种共平面三轴定位装置，共平面三轴定位装置利用第一驱动轴及二第二驱动轴带动定位平台移动，定位平台可于同一平面作第一方向、第二方向或第三方向的运动，共平面三轴定位装置的定位精度可达到次微米级。然后本发明的共平面三轴定位装置的结构简单并容易组装及模块化，各运动方向的驱动模块不会相互堆栈，使整体的体积薄型化，并具有较大的位移范围。
综上所述，仅为本发明的较佳实施例而已，并非用来限定本发明实施的范围，凡依本发明权利要求范围所述的形状、构造、特征及精神所为的均等变化与修饰，均应包括于本发明的权利要求范围内。
权利要求
1.一种共平面三轴定位装置，其特征在于，其是包含: 一固定平台，具有一第一侧边及二第二侧边，该二第二侧边相对应，并分别与该第一侧边的两端相邻及正交，该固定平台设有一第一驱动模块及二第二驱动模块，该第一驱动模块设置于该第一侧边，该二驱动模块分别设置于该二第二侧边；以及一定位模块，是包含: 一定位平台，位于该固定平台上，并具有一第一侧面及二第二侧面，该第一侧面对应该固定平台的该第一侧边，该二第二侧面对应该固定平台的该二第二侧边； 一第一驱动轴，其一端设置于该定位平台的该第一侧面，其另一端滑设于该第一驱动模块；以及 二第二驱动轴，其一端分别设置于该定位平台的该二第二侧面，其另一端分别滑设于该第二驱动模块，该二第二驱动轴与该第一驱动轴相互垂直； 其中该定位平台是承载一工件，该第一驱动模块及该二第二驱动模块驱动该第一驱动轴及该二第二驱动轴，带动该定位平台于同一平面上作一第一方向、一第二方向或一第三方向的运动，以定位该工件。
2.如权利要求1所述的共平面三轴定位装置，其特征在于，其中该第一驱动模块是包含: 一滑轨，设置于该固定平台的该第一侧边； 一滑动件，滑设于该滑轨； 一轴承，设置于该滑动件，并供该第一驱动轴滑设；以及 一驱动装置，驱动该滑动件滑动于该滑轨，且带动该第一驱动轴，该第一驱动轴滑动于该轴承及/或带动该轴承旋转于该滑动件。
3.如权利要求1所述的共平面三轴定位装置，其特征在于，其中该第二驱动模块是包含: 一滑轨，设置于该固定平台的该第二侧边； 一滑动件，滑设于该滑轨； 一轴承，设置于该滑动件，并供该第二驱动轴滑设；以及 一驱动装置，驱动该滑动件滑动于该滑轨，且带动该第二驱动轴，该第二驱动轴滑动于该轴承及/或带动该轴承旋转于该滑动件。
4.如权利要求2或3所述的共平面三轴定位装置，其特征在于，其中该驱动装置为一马达或一压电材料。
5.如权利要求2或3所述的共平面三轴定位装置，其特征在于，更包含: 一测量装置，设置于该滑轨的一侧，以测量该滑动件的位置，其中该测量装置为一光学尺。
6.如权利要求2或3所述的共平面三轴定位装置，其特征在于，更包含: 一旋转轴，设置于该滑动件与该轴承之间；以及 一旋转轴承，设置该旋转轴，并位于该滑动件与该轴承之间。
7.如权利要求1所述的共平面三轴定位装置，其特征在于，其中该定位平台更设有: 复数气沟，设置于该定位平台与该工件接触的表面并向下延伸，且不穿过该定位平台与该固定平台接触的表面；以及至少一抽气口，设置于该定位平台的一侧面，并与该些气沟连通，该些气沟内的一气体是从该抽气口排出，该工件被吸附于该定位平台上。
8.如权利要求1所述的共平面三轴定位装置，其特征在于，其中该定位平台更设有: 复数气沟，设置于该定位平台与该固定平台接触的表面并向上延伸，且不穿过该定位平台与该工件接触的表面；以及 至少一进气口，设置于该定位平台的一侧面，并与该些气沟连通，该进气口提供一气体至该些气沟，使该定位平台浮于该固定平台上方。
9.如权利要求1所述的共平面三轴定位装置，其特征在于，其中该定位平台更设有: 复数第一气沟，设置于该定位平台与该工件接触的表面并向下延伸，且不穿过该定位平台与该固定平台接触的表面； 至少一抽气口，设置于该定位平台的一侧面，并与该些第一气沟连通，该些第一气沟内的一第一气体是从该抽气口排出，该工件被吸附于该定位平台上； 复数第二气沟，设置于该定位平台与该固定平台接触的表面并向上延伸，并不穿过该定位平台与该工件接触的表面；以及 至少一进气口，设置于该定位平台的一侧面，并与该些第二气沟连通，该进气口提供一第二气体至该些第二气沟，使该定位平台浮于该固定平台上方。
10.如权利要求1、2或3所述的共平面三轴定位装置，其特征在于，更包含: 一补强结构，包含二连接杆，该二连接杆分别连接于该第一驱动轴与该二第二驱动轴之间。
11.如权利要求10所述的共平面三轴定位装置，其特征在于，其中该补强结构更包含: 三连接块，分别设置于该第一驱动轴及该二第二驱动轴的末端，该连接杆连接相邻的该二连 接块。
全文摘要
本发明涉及有关于一种共平面三轴定位装置，其包含一固定平台、一第一驱动模块、二第二驱动模块及一定位模块，定位模块包含一定位平台、一第一驱动轴及二第二驱动轴。第一驱动模块及二第二驱动模块驱动第一驱动轴及二第二驱动轴，带动承载一工件的定位平台于同一平面上作一第一方向、一第二方向或一第三方向的运动，以定位一工件的位置。本发明的共平面三轴定位装置结构简单、体积小及容易模块化，而且本发明的共平面三轴定位装置的定位精度达到次微米级。
文档编号B65G49/06GK103137532SQ20111045121
公开日2013年6月5日 申请日期2011年12月23日 优先权日2011年11月22日
发明者刘冠志, 洪国凯 申请人:财团法人金属工业研究发展中心