用来清洁容器处理机器的装置、容器处理机器以及用来清洁容器处理机器的方法
【专利摘要】本发明涉及一种用来清洁包含介质排放孔（110）的容器处理机器（100）的装置（1），该装置包含能够紧密地安放在介质排放孔（110）上的封闭元件（2），其中该封闭元件（2）具有至少一个冲刷孔（3），用来把在介质排放孔（110）上等候处理的清洁介质偏转到周围的设备区域上。
【专利说明】用来清洁容器处理机器的装置、容器处理机器以及用来清洁容器处理机器的方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种用来清洁包含介质排放孔的容器处理机器的装置，优选指一种用来清洁回转式饮料灌装机、回转式容器清洁机或回转式容器消毒机的装置，并涉及这种容器处理机器，以及涉及一种用来清洁包含介质排放孔的容器处理机器的方法。
【背景技术】
[0002]从现有技术中已知各种各样的容器处理机器，它用来把液态的、糊状的或粘性的产品灌装到容器中。例如容器处理机器已知用来把饮料灌装到瓶子(优选PET或塑料瓶子中)，或用来灌装到罐头盒或大口杯中以及灌装到复合卡纸包装、一次性桶、薄膜袋或其它容器中。这些容器处理机器通常具有至少一个介质排放孔，各填充物质(例如饮料、糖浆)或其它液态的、糊状的或粘性的食品(如果酱、番茄酱、婴儿米糊等)能够通过该介质排放孔引导到各自待填充的容器中。其它类型的容器处理机器不是设计得用来直接灌装各自的填充产品，而是构造得用来准备、清洁或预处理随后即将填充的容器，其中在这种容器处理机器中通过各自的介质排放孔将例如清洁流体引入待处理的容器中。在另一变形方案中，将用于消毒的热蒸气或饱和蒸气引入待处理的容器中。在其它容器处理机器中已知，通过给头部空间容积加载惰性气体，在灌装各自的填充产品之后在随后已填充的容器中通过介质排放孔实施顶部空间的初始化(kopfrauminitiatisierung),从而提高各灌装的填充产品的耐久性。
[0003]对于所有容器处理机器来说常见的是，它们在应用于食品领域时总是必须在很高的卫生标准下运行。必须相应地设置清洁装置，它确凿无疑地使容器处理机器符合卫生标准，并尤其使与填充产品或与待填充或已填充的容器产生接触的区域符合卫生标准。为此已知不同的清洁机制。例如容器处理机器的与填充产品或容器接触的贴靠区域有规律地用清洁介质进行冲刷。在加载清洁介质之后，通常要用纯水进行冲刷，以便冲去清洁介质残留。在一些清洁方法中，还能例如通过加载热蒸气或饱和蒸气来对装置进行消毒。
[0004]为此已知的是，通过设置在容器处理机器中的喷嘴系统(它们通常设置在喷嘴库中)用各自的清洁、冲洗和/或消毒介质来加载设备区域。为了在此在容器处理机器内实现所有相关表面的充分加载，这种喷嘴系统通常相当繁杂且需要大量的喷嘴。尤其为清洁绝缘体，为了清洁绝缘体内壁，要么需要繁杂的与回转台一起带走的喷嘴系统，要么需要分布在绝缘体中的喷嘴系统，该绝缘体用来使容器处理机器的与填充产品接触的区域相对于周围环境隔绝开来，以便提供消毒的空间。
[0005]此外还已知的是，对容器处理机器中的引导处理介质的通道(即例如产品通道)进行冲刷，直至填充器的填充阀出口。为了在此能够有效地进行冲洗、清洁和消毒，已知所谓的原位清洗(CIP)，其中相应的填充阀孔口借助封闭元件紧密地封闭，并且清洁介质借助附加的、一直通到填充阀孔口区域中的CIP-通道穿过整个填充产品路径进行冲洗，而不会从填充阀出口中流出来。因此，一方面避免了清洁介质加载到容器处理机器的位于填充阀出口下方的区域中并且相应受污染，另一方面不仅能在其它填充产品方向进行冲洗，而且还能在反向方向上进行冲洗。
[0006]为了实现容器处理机器(尤其是填充机器)的内部清洁，填充元件的各排出孔借助所谓的CIP-罩封闭，从而在填充阀锥打开时封闭产品路径和朝向CIP-装置的反冲路径之间的循环。
[0007]尤其在绝缘体结构形式的填充机器中为了实现冷无菌的灌装，常见的是，借助泡沫清洁来清洗消毒区域中的表面，即该区域是指引导和填充相应容器的区域中，从而在绝缘体中构建或多或少复杂的喷嘴库存系统。因为绝缘体应该尽量小，以便将待保持无菌状态的容积尽量降至最小并且减小所需的构造空间，所以为这种喷嘴系统找到位置越来越困难。此外，对装置的操作人员来说只有很努力才能在各自狭窄的绝缘体中对喷嘴系统进行保养和维修。
[0008]由DE 10 2010 031 8736 Al已知用来填充容器的装置和方法，该容器具有清洁装置。设置有封闭的清洁腔来以冷杀菌的方式灌装饮料，而在CIP或SIP-清洁过程中各自的填充阀出口借助具有遮蔽孔的遮蔽物来封闭，因此一部分清洁介质能够自由地朝下排出。该遮蔽孔这样设置，即在接触该介质的引导路径中在用蒸气处理填充器(SIP)时在预先设定了体积流的情况下这样构建预定的反压力，即能够达到期望的消毒温度。在封闭的清洁腔的底部区域中安装静止的冲刷喷嘴，以便能借助清洁介质来清洁绝缘体。在CIP方法中从遮蔽孔中排出清洁介质，并且在SIP方法中排出蒸气或冷凝物。这些流体无用地从绝缘体中排出，并且需要繁杂的额外的清洁系统，该清洁系统用来清洁绝缘体的内腔。还必须清除不受控制地进入绝缘体中的清洁介质残留。
[0009]从WO 97/18154 Al已知一种容器处理机器，它具有一些与转台一起移动的、用来清洁绝缘体内壁的喷嘴，并且还具有固定的喷嘴系统。为了把清洁介质传输至设于填充转台中的冲刷喷嘴，必须在介质旋转分配器中设置分配通道。
[0010]例如可从DE 10 2009 033 557 AU DE 10 2010 027 624 AU DE 10 2010 027623 Al或DE 10 2008 031 680 Al中得出设计CIP-罩的例子。
【发明内容】
[0011]从所述现有技术中得出本发明的目的是，说明一种用来清洁包含介质排放孔的容器处理机器的装置，并且说明一种用来清洁这种容器处理机器的方法，借助它们能够有效地清洁容器处理机器并且能够受控地冲去清洁物质残留。
[0012]此目的通过具有权利要求1的特征的装置得以实现，该装置用来清洁包含介质排放孔的容器处理机器。有利的改进方案由从属权利要求得出。
[0013]相应地，建议了一种用来清洁包含介质排放孔的容器处理机器的装置，该装置包含能够紧密地安放在介质排放孔上的封闭元件。按本发明，该封闭元件具有至少一个冲刷孔，用来把在介质排放孔上等候处理的清洁介质偏转到周围的设备区域上。
[0014]通过提供封闭元件能够借助流经内部的设备区域(介质输入导管)的清洁介质来清洁外部的设备区域，该封闭元件具有至少一个冲刷孔，用来把在介质排放孔上等候处理的清洁介质转到周围的设备区域上。换言之，清洁介质不仅用来清洁这些通道，而且还可借助封闭元件中的冲刷孔用来清洁周围的设备区域，该清洁介质用来对容器处理机器中的引导产品的通道进行冲洗、清洁或消毒，并且该清洁介质在介质排放孔(例如填充阀孔)上等候处理。因为封闭元件能够紧密地安放在介质排放孔上，所以引导产品的通道在此还能实施CIP-清洁的已知过程。相应地，还能并行地实施CIP-清洁，其中容器处理机器的内部通道通过CIP-过程来清洁并且尤其能通过相应的清洁回路的封闭元件来封闭，并且同时还能通过冲刷孔例如对绝缘器内壁实施有针对性且受控制地外部清洁。
[0015]所述的装置尤其优选应用在回转式填充机器中，它指连续工作的、具有许多同类填充元件的装置，其中以有规律的间距设置在转子圆周上的填充元件包含介质排放孔。
[0016]相应的介质排放孔在此通常指向下方地设置在相应的填充阀载体上，其中在该填充阀载体上通常还设置迄今已知的系统，该系统用来把封闭元件安放在各自的介质排放孔上。为了进行生产运行，相应的封闭元件从产品路径中摆出来。并且为了清洁该装置，例如通过借助相应驱动器的操纵，使封闭元件紧密地放置在介质排放孔上。
[0017]根据设计方案，用于封闭元件的相应驱动器能够实施升降、摆动或旋转运动，其中还可考虑这样的系统，即在该系统中关于转台旋转轴线进行径向推移。这种封闭系统除了原本的封闭元件以外，还优选包含封闭元件载体，封闭元件通过它与驱动器相连。
[0018]为了尽量满地给各自环绕的设备区域加载冲洗、清洁或消毒介质，以朝处理介质从介质排放孔的常见排出方向呈一定角度地设置封闭元件的至少一个冲刷孔，以实现偏转。尤其优选的是，这样设置多个冲刷孔，即设备区域能够在不同的角度下加载各自的清洁介质。以这种方式，能够在各自的介质排放孔加载清洁介质时使清洁介质穿透封闭元件的冲刷孔受控制地施加到周围的设备区域上。由于冲刷孔是在不同的角度下形成，所以能够借助清洁介质涂抹相应较大的区域。如要通常设置在填充器的填充机构中的介质排放孔在填充器旋转时加载清洁介质，则包围着转子的绝缘体的较大部分亦或整个内表面都相应地能用清洁介质加载。
[0019]通过冲刷孔的相应定向，能够有针对性地清洁设备部件，例如下方的填充阀载体、填充阀底部部件、容器载体、竖立或一起旋转的绝缘体壁板或其它位于各封闭元件周围的设备部件。
[0020]封闭元件优选具有用来紧密地贴靠在介质排放孔上的贴靠区域，其中该贴靠区域尤其优选地具有密封件，用来相对于介质排放孔来密封该贴靠区域。因此，所有在介质排放孔上等候处理的清洁介质要么在常见的CIP-清洁回路中用，要么有针对性地通过冲刷孔来对周围的设备区域进行清洁或消毒。
[0021]为了能在常规的CIP-清洁和建议的、对周围设备部件进行的额外清洁之间进行转换，优选在封闭元件中设置阀门，用来封闭冲刷孔或封闭朝向冲刷孔的引导通道。相应地，通过操纵阀门，可禁止或允许清洁介质从冲刷孔中提出。
[0022]在另一优选的变形方案中，该至少一个冲刷孔设置在可旋转地保持于封闭元件上的冲刷头中，因此由于冲刷孔的旋转能够完整地实现周围区域的加载。该可旋转的冲刷孔优选通过清洁介质的压力置身于旋转之中，例如通过在清洁介质从冲刷孔中排出时产生的后座力，或者通过封闭元件内部的相应螺旋机制。
[0023]在另一优选的变形方案中，借助额外的驱动器来实现冲刷头的旋转，因此特定设备区域能够实现尤其有针对性的加载。
[0024]该封闭元件优选与该驱动器保持有效连接，使得封闭元件通过驱动器要么与介质排放孔处于紧密贴靠状态，以便相应地实施设备清洁，要么为实现生产运行能够从介质排放孔的出口区域中摆出来，以便能使填充产品不受干扰地流入待填充的容器中。
[0025]为了清洁过程结束之后完全清空封闭元件，使得在封闭元件摆出之后封闭元件中不再有清洁介质，则优选在封闭元件的下方区域中(优选在最下点)设置用于残留物清空的孔口，清洁介质能够完全从该孔口中流出。
[0026]在用来处理容器的回转机器(例如回转式填充器)中，其中设置有大量的介质排放孔，能够应用不同的封闭元件，并且不同的封闭元件能够分布在圆周上。例如可设置第一类型的封闭元件，它具有冲刷孔，该冲刷孔借助清洁介质来加载绝缘体的上方区域。并且可设置第二类型的封闭元件，它借助清洁介质来加载绝缘体的下方区域。以这种方式，通过待涂抹的表面的相应划分，清洁介质射束能够以相对较高的压力从每个单个的冲刷孔中排出。
[0027]上述目的还通过一种用来清洁包含介质排放孔的容器处理机器的、具有权利要求15的特征的方法得以实现。有利的改进方案由从属权利要求得出。
[0028]相应地，该用来清洁包含介质排放孔的容器处理机器的方法包含的步骤是:借助封闭元件来封闭介质排放孔，并且对容器处理机器实施CIP-清洁。按本发明，该CIP-清洁介质也用来从外部清洁包围着封闭元件的设备区域。
【专利附图】
【附图说明】
[0029]通过附图的以下描述详细地阐述了本发明的优选的其它实施例和角度。
[0030]图1:在横截面中示意性地示出了用来清洁包含介质排放孔的容器处理机器的装置的第一实施例。
[0031]图2:在第二实施例中示出了用来清洁包含介质排放孔的容器处理机器的装置，其具有旋转的冲刷头。
[0032]参考标记清单
1用来清洁容器处理机器的装置 100容器处理机器
110介质排放孔 120 阀锥 130 阀座 140清洁介质 150 CIP-导管
2封闭元件 20 贴靠区域 22 密封件
24 封闭元件载体 26 驱动器
3冲刷孔 30 引导通道 32 冲刷体 34 中空腔 36残留物清空孔
4阀门
40控制器
X流出方向。
【具体实施方式】
[0033]下面借助附图描述了优选的实施例。在此，相同的、类似的或相同作用的元件在不同附图中标有一致的参考标记，并且在随后的描述中部分地省略这些元件的重复描述，以避免说明书中的冗长。
[0034]图1示出了用来清洁此处示意性示出的容器处理机器100的装置I，其中在此只以填充阀的形式示出了一部分，它具有介质排放孔110。该填充阀的介质排放孔110通常用来把填充产品发送到待填充的容器中。为此设置阀锥120，它能够紧密地容纳在相应的阀座130中。通过阀锥120关于阀座130的抬高和降低，控制了各介质经过介质排放孔110的流动。
[0035]但在图1所示的状态中，容器处理机器100以填充机构的形式处于这样的状态下，即在该状态下阀锥120从阀座130中突出来，并且清洁介质140在介质排放孔110上等候处理。CIP-导管150这样设置在容器处理机器100中，即它一直通到介质排放孔110的设置在阀锥120下方的区域中。在常规的清洁运行中该CIP-导管150的作用是，在介质排放孔110朝外封闭时设置用来实施清洁的流体回路。相应地，清洁介质一方面通过图中未示出的、引导产品的通道流动，另一方面通过示出的CIP-导管150流动。该清洁介质在此要么在产品行进方向上通过相应的引导产口的通道冲洗，然后通过CIP-导管150排出。但也可应用向后冲洗的清洁方法，其中清洁介质通过CIP-导管150输入，然后引导产品的通道逆着常见的产品流动方向借助清洁介质彻底冲刷。其它的通道(未示出)也可以通到介质排放孔Iio的区域中，这些通道例如在填充机构中在不同的灌装工艺中用来引导气体。
[0036]用来清洁容器处理机器100的装置I包含能够紧密地安放在介质排放孔110上的封闭元件2，它具有相应的贴靠区域20，该封闭元件与介质排放孔110的相应的、与之互补的表面在该贴靠区域中接触。为了达到尤其可靠的密封，额外地设置有密封件22，它在所示的实施例中构成为O形环的形式。该封闭元件2保持在封闭元件载体24上，它自身能够借助在此只示意性标出的驱动器26带到图1所示的位置。该驱动器26例如这样实施升降和摆动运动，即封闭元件2能够从完全由产品路径中摆出的位置转移到图1所示的位置，因此封闭元件2紧密地贴靠在介质排放孔110上。通过该紧密的贴靠，相应地完全封闭介质排放孔110，因此清洁介质不可能在介质排放孔110和放置的封闭元件2之间排出来。
[0037]封闭元件2具有多个冲刷孔3，它们用来把清洁介质涂在周围的设备区域上。如果清洁介质在介质排放孔110上等候处理，例如由于它通过引导产品的路径已传输至介质排放孔110，或因此它通过CIP-导管150已传输至介质排放孔110，则该清洁介质能够通过引导通道30朝冲刷孔3引导。然后清洁介质从冲刷孔3中排出，以便能把清洁介质加载到相应的周围的设备区域上。
[0038]在封闭元件2中相应地设置有引导通道30，使得清洁介质能够从介质排放孔110传输至冲刷孔3。在图1所示的实施例中，封闭元件2包含示意性标出的冲刷体32，各自的冲刷孔3设置在该冲刷体中。在承载着封闭元件2的封闭元件载体24和冲刷体32之间设置有中空腔34，它与引导通道30处于流体连接状态，使得在介质排放孔110上等候处理的清洁介质能够通过引导通道30流入中空腔34中，以便随后能够相应地从冲刷孔3中再次排出来。因为清洁介质典型在压力之下在介质排放孔110上等候处理，所以清洁介质能够从冲刷孔3冲刷到周围的设备区域上。
[0039]冲刷体32能够具有任意的、对于各应用情况都最佳的形状或几何形状。通过图1所示的球状或椭圆形结构，能够在周围的设备区域中提供均匀的冲刷画面。但在未示出的方案中，冲刷体32例如也可构成为圆柱形，或具有其它能产生期望冲刷画面的几何形状。
[0040]该冲刷孔3能够作为简单的通穿洞口设置在冲刷体32中。在尤其优选的变形方案中，至少一个冲刷孔3设置有喷嘴，它构造得用来形成预先设定的喷束形状，例如用来形成扁平喷束，因此能够对周围的设备区域进行有针对性的加载。通过相应地调节洞口的几何形状或特制喷嘴的结构，例如可以从下方清洁阀座或者说填充阀座，填充阀底部部件能够以这种方式进行清洁，或者竖立的或一起旋转的绝缘体壁板能够以这种方式加载清洁介质。
[0041]冲刷孔3这样设置在冲刷体32，即清洁介质以填充产品的常见流出方向X从介质排放孔Iio中导出。填充产口在惯常的填充运行时在重力的方向上(即正好朝下)流入待处理(例如待填充)的容器中，在该填充运行时封闭元件2从产品路径中摆出来。没有封闭元件2，清洁介质也能在流出方向X上流出。冲刷孔3在此这样设置在冲刷体32中，即它们在相对于流出方向X呈一定角度的情况下可使清洁介质流出。该角度对于至少两个不同的冲刷孔3来说可以不同。在图1所示的实施例中，不同的冲刷孔3例如这样定向，即通过最上方的冲刷孔3可清洁填充阀的下侧。位于其下方的冲刷孔3呈扇形地这样定向，即在较大的表面上均匀地对周围的设备区域进行加载。
[0042]冲刷孔3的设置分别与不同的清洁情况有关。
[0043]规定，在用来处理容器的回转机器(例如回转式填充器)中应用了不同的封闭元件，并且不同的封闭元件分布在圆周上，在该回转机器中设置有大量的介质排放孔。例如可设置第一种具有冲刷孔的封闭元件，该冲刷孔使绝缘体的上方区域加载清洁介质，并可设置第二种封闭元件，它使绝缘体的下方区域加载清洁介质。以这种方式能够通过待涂抹的表面的相应分布，使清洁介质射束以相对较高的压力从每个单个的冲刷孔中排出。
[0044]在一变形方案中，只有几个封闭元件以建议的形式构成，并且封闭元件的大部分在回转式填充器中是以常规方式构成。因此能进一步降低用于该装置的成本。
[0045]在优选的变形方案中，冲刷体32具有设置在中空腔34的最下方端部上的残留清空孔36，在借助清洁介质进行的处理结束之后位于中空腔34中的清洁介质残留能够通过该残留清空孔流出。以这种方式确保没有清洁介质残留留在冲刷体32中，因此封闭元件2在清洁过程结束之后以卫生方面无缺陷的方式从产品路径中摆出来并且能够行驶至停放位置。
[0046]为了能在容器处理机器100内对引导产品的通道进行的常规的CIP-清洁和建议的、用来给周围设备部件加载清洁装置的方法之间进行来回转换，在引导通道30中设置阀门4。引导通道30能够通过该阀门4关闭或打开，因此在阀门4打开时清洁介质能够从介质排放孔110通过引导通道30流入中空腔34中，然后从冲刷孔3中流出。在阀门4关闭时能够实施常规的CIP-清洁，其中没有清洁介质从冲刷孔3中排出。在所示的实施例中，阀门4通过示意性标出的气动控制器40从关闭位置移动到开启位置，并且从开启位置回到关闭位置。为此，阀门4优选构成为薄膜阀，它通过双重作用的汽缸驱动。
[0047]在引导通道30中应用阀门4除了简单的转换功能以外，还在借助热蒸气或饱和蒸气穿过引导产品的导管对容器处理机器100进行消毒时，局部地闭锁或局部地限定排出孔，如同在现有技术中通过节流阀或遮蔽物已知的那样。在体积流预先设定的情况下，以这种方式能够为蒸气提供达到消毒温度所需的尾水压力(RUckstaudruck)。
[0048]为了实现尤其有效的清洁，容器处理机器100能够首先通过内部的CIP-回路来清洁，其中阀门4完全关闭，以便以这种方式去除大部分产品残留。如果已经灌装了具有块状成份(例如水果颗粒或类似物体)的填充产品，则这一点尤其重要。这些块状物可能会堵塞冲刷孔3。在进行相应的预清洁之后，然后能够并行地通过CIP-清洁回路进行另一内部清洁，在打开阀门4之后通过冲刷孔3给设备区域加载清洁介质来对周围的设备区域进行清洁。随后，必要时也可在更换各自的清洁介质之后，通过再次完全关闭阀门4，无介质排出地继续执行CIP-清洁。最后，还可通过使饱和蒸气穿透各自的系统来实施消毒，并且这样操控阀门4，即它相应地导致引导通道30的局部闭合，因此达到了必要的节流或遮蔽效果，并因此为蒸气提供达到消毒温度所需的尾水压力。
[0049]此外，在例如牛奶进行冷杀菌式灌装时还常见的是，在引导产品的导管消毒(即蒸发)之后，例如通过把热的消毒空气引导穿过各自的介质路径，从内部来干燥各自的容器处理机器I (即尤其是各自的填充器)。冷凝物以这种方式被前述的饱和蒸气消毒驱除，或者在H2O2-消毒之后过氧化物通过热空气分解。在这样吹空填充器中的各引导产品的导管时，该热的消毒空气也用来这样完全吹空封闭元件和冲刷孔，即相应地没有清洁或消毒介质再留在封闭元件中。为此，相应地在该部段中或在整个消毒空气处理期间再次打开阀门4。
[0050]尽管此处的描述是涉及典型的灌装装置，但建议的装置也可用来在冲洗或消毒时来清洁容器处理装置，借助该装置可使容器在填充之前用不同的液态和/或气态介质从内部加载。
[0051]尽管在所示的实施例中各自的封闭元件2借助驱动器放置在各自的介质排放孔110上，但该装置也可应用在下述设备中，即在该设备中各自的封闭元件是手动放置的。
[0052]图2在另一变形方案中示出了一种用来清洁包含介质排放孔110的容器处理机器100的装置I。在此还设置有封闭元件2，它通过密封件22紧密地安放在相应的介质排放孔110中，该密封件设置在相应的贴靠区域20上。也设置有引导通道30，它用来把存在于介质排放孔Iio上的清洁流体引导到相应的中空腔34中，该中空腔设置在承载着封闭元件2的封闭元件载体24和冲刷体32之间。该冲刷体32在所示实施例中可旋转地保持在封闭元件载体24上，并且相应地构成可旋转的冲刷头。该可旋转的冲刷头或可旋转的冲刷体32也具有冲刷孔3，它构造得用来把相应的清洁介质排放到周围的设备区域上。
[0053]可旋转的冲刷头或可旋转的冲刷体32的旋转在所示实施例中通过以下方实现，即冲刷孔3略微正切地设置在旋转方向上，因此在排放清洁介质时产生的后座力会导致冲刷体32的旋转。在备选的实施例中，该旋转也可通过设置额外的驱动器来实现，或通过借助清洁介质运行的螺旋装置(例如在引导通道30中)来实现，其则用来驱动可旋转的冲刷体32。[0054]通过冲刷体32的旋转，可使设备区域在很大程度上无空隙地加载各自的清洁介质，因为不仅通过冲刷体32的旋转，而且通常还通过转台的旋转可涂沫各容器处理机器的较大区域，介质排放孔110通常在该转台上设置在填充机构上。
[0055]就此而言，所有在单个实施例中描述的单个特征都可彼此组合和/或替换，而不会离开本发明的范围。
【权利要求】
1.一种用来清洁包含介质排放孔(110)的容器处理机器(100)的装置(I)，该装置包含能够紧密地安放在介质排放孔(110)上的封闭元件(2)，其特征在于，该封闭元件(2)具有至少一个冲刷孔(3)，用来把在介质排放孔(110)上等候处理的清洁介质偏转到周围的设备区域上。
2.根据权利要求1所述的装置(1)，其特征在于，以朝处理介质从介质排放孔(110)的排出方向(X)呈一定角度地设置冲刷孔(3)。
3.根据权利要求1或2所述的装置(1)，其特征在于，设置至少两个在不同角度下设置的冲刷孔(3)。
4.根据上述权利要求中任一项所述的装置(1)，其特征在于，封闭元件(2)具有用来紧密地贴靠在介质排放孔(110)上的贴靠区域(20 )。
5.根据权利要求4所述的装置(1)，其特征在于，在贴靠区域(20)中设置至少一个密封件(22)，用来在介质排放孔(110)和封闭元件(2)之间形成水密的密封。
6.根据上述权利要求中任一项所述的装置(I)，其特征在于，在封闭元件(2)上设置冲刷体(32)，在该冲刷体中设置该至少一个冲刷孔(3)。
7.根据权利要求6所述的装置(1)，其特征在于，该冲刷体(32)构成为球形、椭圆形、圆柱形或其它任意的几何形状。
8.根据权利要求6和7所述的装置(1)，其特征在于，在冲刷体(32)和封闭元件支架(24)之间设置有中空腔(34)，用来把清洁介质分散在冲刷孔(3)上。`
9.根据上述权利要求中任一项所述的装置(1)，其特征在于，冲刷孔(3)与介质排放孔(110)处于流体连接状态，并且该流体连接能够通过阀门(4)中断或节流。
10.根据上述权利要求中任一项所述的装置(1)，其特征在于，该冲刷孔(3)设置在可旋转地保持于封闭元件(2)上的冲刷头(32)中，其中该冲刷头(32)优选通过从冲刷孔(3)中排出的后座力置身于旋转之中，或者冲刷头(32)能够通过单独的驱动器置身于旋转之中。
11.根据上述权利要求中任一项所述的装置(1)，其特征在于，设置有指向下方的残留物清空孔(36 )，用来清空封闭元件(2)。
12.根据上述权利要求中任一项所述的装置(1)，其特征在于，封闭元件(2)能够通过驱动器(26)移动到封闭位置或灌装位置。
13.一种容器处理机器(100)、优选是填充机器或冲刷机，其具有至少一个介质排放孔(110)，该介质排放孔用来排放用来处理容器的介质，其特征在于，设置根据上述权利要求中任一项所述的装置(I)。
14.根据权利要求13述的容器处理机器(100)，其特征在于，设置至少两种不同类型的封闭元件(2)。
15.一种用来清洁包含介质排放孔(110)的容器处理机器(100)的方法，包含以下步骤: -借助封闭元件(2)来封闭介质排放孔(110); -对容器处理机器(100)实施CIP-清洁； 其特征在于，CIP-清洁介质也用来从外部清洁包围着封闭元件(2)的设备区域。
16.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，CIP-清洁介质通过至少一个设置在封闭元件(2)中的冲刷孔(3)偏转到周围的设备区域上。
17.根据权利要求15或16所述的方法，其特征在于，通过阀门(4)来接通或断开对周围设备区域的加载。
18.根据权利要求15、16或17所述的方法，其特征在于，为了实施借助饱和蒸气的消毒，将设置 在封闭元件(2)中的阀门(4)带到节流位置中。
【文档编号】B67C3/22GK103771314SQ201310483261
【公开日】2014年5月7日 申请日期:2013年10月16日 优先权日:2012年10月17日
【发明者】贝恩德·索比赫 申请人:克朗斯公司