电路板照相底片保护膜压膜机的制作方法

本实用新型涉及一种电路板生产设备，特别涉及一种电路板底片保护膜的压膜机。

背景技术：

印制电路板在生产过程中，需要将照相底片(菲林)上的电路图像通过曝光方式转移至电路板上。现有技术中，电路板底片没有设置保护膜，底片在使用过程中，底片上的图像层存在被划花的问题。为了解决底片上图像层被划花的问题，我们想到了通过在底片上增加一层保护膜，以对图像层进行保护。

技术实现要素：

有鉴于此，本实用新型的目的是提供一种电路板照相底片保护膜压膜机，以解决如何将保护膜压贴到底片上的技术问题。

本实用新型电路板照相底片保护膜压膜机，包括机架、设置在机架上的主动输送辊、平行设置在主动输送滚下方的从动压辊、以及设置在主动输送辊进料侧的底片支撑架，所述机架上还设置有保护膜卷轴组件、废料收卷轴组件、以及垫纸卷轴组件，所述主动输送辊通过带轮和传动带将动力传递给保护膜卷轴组件和废料收卷轴组件，所述保护膜卷轴组件和废料收卷轴组件位于主动输送辊的上方，所述垫纸卷轴组件位于底片支撑架的下方。

进一步，所述保护膜卷轴组件由保护膜卷轴和卷轴支撑装置组成，所述废料收卷轴组件由废料收卷轴和卷轴支撑装置组成，所述垫纸卷轴组件由纸卷轴和卷轴支撑装置组成；各卷轴支撑装置结构相同，均由轴左端支撑装置和轴右端支撑装置组成，所述轴左端支撑装置包括左轴和左螺纹套筒，所述左轴的一端与机架转动配合，左轴的另一端与左螺纹套筒固定连接，所述轴右端支撑装置包括右轴、右螺纹套筒、弹簧、以及限位螺母，所述右转与机架转动配合，右轴的左端与右螺纹套筒固定连接，右轴的右端与限位螺母固定连接，所述弹簧套在右轴上，且弹簧的一端顶在机架上，弹簧的另一端顶在限位螺母上；所述带轮设置在右轴上，且带轮位于右螺纹套筒和机架之间。

进一步，所述机架上还设置有吹扫气管，所述吹扫气管位于底片支撑架的上方。

本实用新型的有益效果：

本实用新型电路板照相底片保护膜压膜机，其通过电机驱动主动输送辊转动，使保护膜、照相底片和垫纸从主动输送辊和从动压辊之间通过，保护膜卷轴上的保护膜在压力作用下粘接在照相底片上，保护膜卷轴上的废料被废料收卷轴收卷，垫纸在压膜过程中对照相底片起支撑保护作用，能避免从动压辊损坏照相底片。本实用新型电路板照相底片保护膜压膜机能快速的保护膜压在照相底片上，压膜质量高。

附图说明

图1为本实施例电路板照相底片保护膜压膜机的立体结构示意图；

图2为卷轴和卷轴支撑装置的组装结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步描述。

如图所示，本实施例电路板照相底片保护膜压膜机，包括机架1、设置在机架上的主动输送辊2、平行设置在主动输送滚下方的从动压辊3、以及设置在主动输送辊进料侧的底片支撑架4，所述机架上还设置有保护膜卷轴组件5、废料收卷轴组件6、以及垫纸卷轴组件7，所述主动输送辊通过带轮8和传动带9将动力传递给保护膜卷轴组件和废料收卷轴组件，所述保护膜卷轴组件和废料收卷轴组件位于主动输送辊的上方，所述垫纸卷轴组件位于底片支撑架的下方。

本实施例电路板照相底片保护膜压膜机，工作时，其通过电机驱动主动输送辊转动，使保护膜、照相底片和垫纸从主动输送辊和从动压辊之间通过，保护膜卷轴上的保护膜在压力作用下粘接在照相底片上，保护膜卷轴上的废料被废料收卷轴收卷，垫纸在压膜过程中对照相底片起支撑保护作用，能避免从动压辊损坏照相底片。本实用新型电路板照相底片保护膜压膜机能快速的保护膜压在照相底片上，压膜质量高。

作为对本实施例的改进，所述保护膜卷轴组件由保护膜卷轴和卷轴支撑装置组成，所述废料收卷轴组件由废料收卷轴和卷轴支撑装置组成，所述垫纸卷轴组件由纸卷轴和卷轴支撑装置组成。各卷轴支撑装置结构相同，均由轴左端支撑装置和轴右端支撑装置组成；所述轴左端支撑装置包括左轴10和左螺纹套筒11，所述左轴的一端与机架转动配合，左轴的另一端与左螺纹套筒固定连接；所述轴右端支撑装置包括右轴12、右螺纹套筒13、弹簧14、以及限位螺母15，所述右转与机架转动配合，右轴的左端与右螺纹套筒固定连接，右轴的右端与限位螺母固定连接，所述弹簧套在右轴上，且弹簧的一端顶在机架上，弹簧的另一端顶在限位螺母上。所述带轮8设置在右轴上，且带轮位于右螺纹套筒和机架之间。

本实施例中，通过螺纹套与卷轴连接，使得卷轴的更换方便简单。并且再工作过程中，由于弹簧的推力作用，使得螺纹套与卷轴之间的螺纹间隙被消除，螺纹套与卷轴能可靠的同步转动。

本实施例中，所述机架上还设置有吹扫气管16，所述吹扫气管位于底片支撑架的上方，将吹扫气管与生产车间的压缩空气源连接，利用吹扫气管排出的气体对照相底片进行吹扫，能清除照相底片上的灰尘，可提高照相底片质量。

最后说明的是，以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例对本实用新型进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本实用新型技术方案的宗旨和范围，其均应涵盖在本实用新型的权利要求范围当中。