薄膜上胶设备张力光电跟踪装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及铜带制备技术领域，尤其是一种薄膜上胶设备张力光电跟踪装置。
【背景技术】
[0002]现有设备在薄膜上胶时将薄膜通过几只辊传输至上胶处上胶，传输过程中薄膜会出现拉力不均匀导致的断裂和拉伸性不一及薄膜跑偏现象，导致上胶后的薄膜厚薄不一，费品率较高。
【发明内容】
[0003]为了克服现有的上述的不足，本发明提供了一种薄膜上胶设备张力光电跟踪装置。
[0004]本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种薄膜上胶设备张力光电跟踪装置，包括机架和安装在机架上的进料棍、若干传输棍，所述任意一根传输棍上增设光电跟踪装置，进料辊一侧设有应力系统。
[0005]本发明的有益效果是，有效防止传输过程中薄膜出现跑偏现象，避免了拉力不均匀导致的断裂和拉伸性不一，导致上胶后的薄膜厚薄不一的状况，大大降低了费品率，提高了生产效率。
【附图说明】
[0006]下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
[0007]图1是本发明的结构示意图。
[0008]图中1.机架，2.进料辊，3.传输辊，4.光电跟踪装置，5.应力系统。
【具体实施方式】
[0009]如图1是本发明的结构示意图，一种薄膜上胶设备张力光电跟踪装置，包括机架1和安装在机架1上的进料棍2、若干传输棍3,所述任意一根传输棍3上增设光电跟踪装置4，进料辊2 —侧设有应力系统5。光电跟踪装置4能够对薄膜进行实时追踪探测，矫正薄膜动向，防止薄膜跑偏，应力系统5给进料辊2施加一个拉力，防止上胶薄膜厚薄不一。
[0010]改进后的上胶设备有效防止传输过程中薄膜出现跑偏现象，避免了拉力不均匀导致的断裂和拉伸性不一，导致上胶后的薄膜厚薄不一的状况，大大降低了费品率，提高了生产效率。
【主权项】
1.一种薄膜上胶设备张力光电跟踪装置，包括机架(1)和安装在机架(1)上的进料辊(2)、若干传输辊(3)，其特征是，所述任意一根传输辊(3)上增设光电跟踪装置(4)，进料辊(2)—侧设有应力系统(5)。
【专利摘要】本发明涉及铜带制备技术领域，尤其是一种薄膜上胶设备张力光电跟踪装置。现有设备在薄膜上胶时将薄膜通过几只辊传输至上胶处上胶，传输过程中薄膜会出现拉力不均匀导致的断裂和拉伸性不一及薄膜跑偏现象，导致上胶后的薄膜厚薄不一，费品率较高。该薄膜上胶设备张力光电跟踪装置包括机架和安装在机架上的进料辊、若干传输辊，所述任意一根传输辊上增设光电跟踪装置，进料辊一侧设有应力系统。改进后的上胶设备有效防止传输过程中薄膜出现跑偏现象，避免了拉力不均匀导致的断裂和拉伸性不一，导致上胶后的薄膜厚薄不一的状况，大大降低了费品率，提高了生产效率。
【IPC分类】B65H26/04
【公开号】CN105460670
【申请号】CN201410457963
【发明人】杨兆峰, 杨位东
【申请人】扬州俊飞铜业科技有限公司
【公开日】2016年4月6日
【申请日】2014年9月11日