专利名称：含浸机之预含浸轮结构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及含浸 机技术领域，尤其是指一种含浸机之预含浸轮结构。
背景技术：
含浸机是制作印刷电路板过程中的重要处理设备之一，利用含浸机可将玻纤布 含浸树脂，然后经过烘烤制成所需的半固化片，具体包括有预含浸、含浸、烘干、冷却
等工序。如图1所示，其显示的是含浸机的具体结构，玻纤布30'首先进入装有树脂的 预含浸槽20'中进行预含浸，该预含浸槽20'中设置有预含浸轮10'，玻纤布30'从预 含浸槽20'出来再进入同样装有树脂的含浸槽40'中进行含浸，该玻纤布30'从含浸槽 40'中出来以后先后经过第一烤箱50'和第二烤箱60'进行烘干，最好再进行冷却而得 到所需半固化片70'。但传统上含浸机使用的预含浸轮10'结构比较单一，如图2，该 预含浸轮10'的轮部11'表面光滑，在玻纤布30'进行预含浸过程中，玻纤布30'的一 部分压于轮部11'表面上，由于轮部11'和玻纤布30'为面与面接触，这就使得与轮部 11'接触的玻纤布30'预含浸效果不佳，甚至有时候无法预含浸。因此，该表面光滑的 预含浸轮10'会使得玻纤布30'预含浸不彻底、质量不稳定。
实用新型内容有鉴于此，本实用新型针对现有技术存在之缺失，其主要目的是提供一种含浸 机之预含浸轮结构，其具有将玻纤布预含浸彻底，提高玻纤布预含浸质量之功能，以克 服现有技术的不足。为实现上述目的，本实用新型采用如下之技术方案一种含浸机之预含浸轮结构，包括有一轮部以及于轮部两端面中心分别延伸出 一转轴，该轮部为圆柱体，并且表面为雾状的粗糙表面。作为一种优选方案，所述雾状为复数个凹槽纵横交错而成。本实用新型采用上述技术方案后，其有益效果在于主要系通过将预含浸轮的 轮部表面设计成雾状结构。相对传统之光滑表面的预含浸轮结构而言，此种表面雾状 的预含浸轮结构使得树脂通过凹槽渗入，玻纤布于预含浸槽内预含浸更加彻底，效果更 佳，进一步提高预含浸的质量。
以下结合附图与具体实施例来对本实用新型进行详细说明
图1是含浸机的结构示意图；图2是传统之预含浸轮结构示意图；图3是本实用新型之实施例的示意图。附图标识说明[0014]10、预含浸轮11、轮部111、凹槽12、转轴10'、预含浸轮11'、轮部20'、预含浸槽30'、玻纤布40'、含浸槽50'、第一烤箱60'、第二烤箱70'、半固化片
具体实施方式
请参照图3所示，其显示出了本实用新型之较佳实施例的具体结构，该预含浸轮10包括有一轮部11，该轮部11为圆柱体，并且于该轮部11的表面上设置有纵横交错 的复数个凹槽111形成雾状的粗糙表面。该轮部11的两端面中心分别延伸出一转轴12。 如图1所示，预含浸轮10置于含浸机的预含浸槽20'内，并且可绕预含浸轮10的中心轴 线转动。本实用新型的设计重点在于，其主要系通过将预含浸轮10的轮部11表面设计成 雾状的粗糙表面结构。相对传统之光滑表面的预含浸轮10'(如图2)结构而言，此种表 面雾状的预含浸轮结构使得树脂通过凹槽111渗入并带起更多的树脂，进而使得玻纤布 30'经过预含浸轮时预含浸更加彻底，效果更佳，进一步提高玻纤布的浸润性。以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型的技术范围 作任何限制，故凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何细微修改、等 同变化与修饰，均仍属于本实用新型技术方案的范围内。
权利要求1.一种含浸机之预含浸轮结构，包括有一轮部以及于轮部两端面中心分别延伸出一 转轴，其特征在于该轮部为圆柱体，并且表面为雾状的粗糙表面。
2.根据权利要求1所述的含浸机之预含浸轮结构，其特征在于所述雾状为复数个 凹槽纵横交错而成。
专利摘要本实用新型涉及一种含浸机之预含浸轮结构，包括有一轮部以及于轮部两端面中心分别延伸出一转轴，该轮部的表面为雾状，该雾状为复数个凹槽纵横交错而成，藉此，以形成一种含浸机之预含浸轮结构。通过将该预含浸轮的轮部表面设计成雾状结构，相对传统之光滑表面的预含浸轮结构而言，此种表面雾状的预含浸轮结构使得树脂通过凹槽渗入，使玻纤布浸润性更好。
文档编号B29C70/54GK201792498SQ20102002667
公开日2011年4月13日 申请日期2010年1月14日 优先权日2010年1月14日
发明者林飞, 聂于旗 申请人:广州宏仁电子工业有限公司