本发明涉及模具技术领域,尤其涉及一种皮膜模具。
背景技术:
皮膜一般采用的是平板硫化机模压成型。由于在模压成型中,模具受到的冲击力大,中心导柱易磨损,容易产生间隙造成产品内圆飞边厚度不均匀且飞边易脱落,形成老化胶;皮膜的壁厚薄,型腔较深,因飞边不均匀影响产品外观且易烫坏产品;中心导柱磨损产生间隙就会溢胶,浪费胶料;中心导柱磨损降低模具的定位精度,产品易单边。
技术实现要素:
基于背景技术中存在的技术问题,本发明提出了一种皮膜模具。
本发明提出的一种皮膜模具,包括上下布置的上模板、下模板;
上模板远离下模板一侧设有上模垫板,上模板与上模垫板之间通过第一螺栓固定成整体结构形成上模,上模板靠近下模板一侧设有上模芯,上模板靠近下模板一侧外沿位置设有至少一个外导柱和至少一个定位滑槽;
下模板远离上模板一侧设有下模垫板,下模板与下模垫板之间通过第二螺栓固定成整体结构形成下模,下模板靠近上模板一侧与上模芯相对应位置设有与上模芯相适配的下模芯,下模板靠近上模板一侧外沿位置设有至少一个外导套和至少一个定位滑块;
在合模状态下,上模板、上模芯、下模板、下模芯之间配合形成型腔,且外导柱与外导套配合连接,定位滑块与定位滑槽配合连接。
优选的,靠近型腔中部位置设有第一撕边槽。
优选的,型腔中位于上模芯与下模芯之间位置设有第二撕边槽。
优选的,靠近型腔外缘位置设有第三撕边槽。
优选的,第三撕边槽外围设有余料槽。
优选的,所述外导柱与所述外导套的数量均为四个,四个外导柱、四个外导套分别呈圆周均布,且四个外导柱与四个外导套一一对应设置。
优选的,所述定位滑块与所述定位滑槽的数量均为四个,四个定位滑块、四个定位滑槽分别呈圆周均布,且四个定位滑块与四个定位滑槽一一对应设置。
本发明提出的皮膜模具,在上模板上沿圆周方向均布设置有四个外导柱,在下模板上与四个外导柱相对应位置处设置有四个外导套,当合模时通过外导柱对下模板进行导向和粗定位;在下模板的四周还均布有四个定位滑块,相应的,在上模板上与定位滑块对应位置处设置有定位滑槽,合模时,通过定位滑块滑入定位滑槽实现模具的精确定位,通过双重定位能够进一步提高橡胶制动皮膜的质量,保证其定位精度,提高了产品的合格率及生产效率;本发明取消了中心导柱定位极大地改善了产品内圆的飞边状态,使飞边容易去除且降低了产品烫坏的几率,且不会产生老化胶,有效防止在生产过程中胶料溢出,节约了胶料。
附图说明
图1为本发明提出的一种皮膜模具的结构示意图;
图2为图1中a处放大结构示意图;
图3为图1中b处放大结构示意图;
图4为图1中c处放大结构示意图;
图5为本发明提出的一种皮膜模具的俯视图。
具体实施方式
如图1-图5所示,图1为本发明提出的一种皮膜模具的结构示意图;图2为图1中a处放大结构示意图;图3为图1中b处放大结构示意图;图4为图1中c处放大结构示意图;图5为本发明提出的一种皮膜模具的俯视图。
参照图1-图5,本发明提出一种皮膜模具,包括上下布置的上模板1、下模板2;
上模板1远离下模板2一侧设有上模垫板3,上模板1与上模垫板3之间通过第一螺栓8固定成整体结构形成上模,上模板1靠近下模板2一侧设有上模芯5,上模板1靠近下模板2一侧外沿位置设有四个呈圆周均布的外导柱6和四个呈圆周均布的定位滑槽17。
下模板2远离上模板1一侧设有下模垫板4,下模板2与下模垫板4之间通过第二螺栓9固定成整体结构形成下模,下模板2靠近上模板1一侧与上模芯5相对应位置设有与上模芯5相适配的下模芯10,下模板2靠近上模板1一侧外沿位置设有四个呈圆周均布的外导套11和四个呈圆周均布的定位滑块7。
在合模状态下,上模板1、上模芯5、下模板2、下模芯10之间配合形成型腔12,且四个外导柱6与四个外导套11配合连接,四个定位滑块7与四个定位滑槽配合17连接。
在具体实施例中,靠近型腔12中部位置设有第一撕边槽13。型腔12中位于上模芯5与下模芯10之间位置设有第二撕边槽14。靠近型腔12外缘位置设有第三撕边槽15,第三撕边槽15外围设有余料槽16。
本发明提出的一种皮膜模具,在上模板1上沿圆周方向均布设置有四个外导柱6,在下模板2上与四个外导柱6相对应位置处设置有四个外导套11,当合模时通过外导柱6对下模板2进行导向和粗定位;在下模板2的四周还均布有四个定位滑块7,相应的,在上模板1上与定位滑块对应位置处设置有定位滑槽17,合模时,通过定位滑块7滑入定位滑槽17实现模具的精确定位,通过双重定位能够进一步提高橡胶制动皮膜的质量,保证其定位精度,提高了产品的合格率及生产效率;本发明取消了中心导柱定位极大地改善了产品内圆的飞边状态,使飞边容易去且降低了产品烫坏的几率,且不会产生老化胶,有效防止在生产过程中胶料溢出,节约了胶料。
以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本发明的保护范围之内。