本实用新型涉及一种锂电池的生产设备，特别是一种涂布机电晕系统。
背景技术：
近来，随着电晕技术的进步，电晕处理在涂布机中的应用也日渐增多。在涂布设备中，作为涂布前预处理的一种方法，它增强了基材对涂料的附着力，使涂布效果得到改善。
然而，在现有的电晕系统中，系统普遍结构复杂，且电晕系统中没有对基材的夹压装置，需要另外在其他装置增加该结构，不仅增加成本，也增大机构的体积，影响机器的紧凑性，进一步会导致进出电晕系统基材的张力不能保证一致，可能对基材造成拉伸，影响基材的加工质量。
有鉴于此，本实用新型的目的在于提供一种新的技术方案以解决现存的技术缺陷。
技术实现要素：
为了克服现有技术的不足，本实用新型提供一种涂布机电晕系统，该种涂布机电晕系统解决了现有技术存在的加工工艺繁多、机构结构复杂、不具有夹压功能、基材的加工质量差等技术缺陷。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：
一种涂布机电晕系统，包括墙板和安装在所述墙板上的主电晕辊、配合所述主电晕辊的胶压辊、电极系统及过辊，还包括展平弧形辊和胶辊，所述胶压辊可配合主电晕辊调节绕过主电晕辊上的基材的张力，所述电极系统可配合主电晕辊对绕过主电晕辊的基材进行电晕处理。
作为上述技术方案的改进，所述主电晕辊与电极系统配合组成为该涂布机电晕系统的电晕装置。
作为上述技术方案的进一步改进，所述电极系统具有两个，分别设置在主电晕辊上部两侧。
作为上述技术方案的进一步改进，所述电极系统可通过驱动汽缸调节其与基材的接触角度。
作为上述技术方案的进一步改进，所述胶压辊可配合主电晕辊夹紧基材并进一步控制基材的张力，胶压辊与主电晕辊共同组成为用于夹紧基材的夹压辊装置。
作为上述技术方案的进一步改进，所述胶压辊由汽缸驱动并控制其与主电晕辊之间的夹紧力。
作为上述技术方案的进一步改进，所述主电晕辊及胶辊均为主动辊，主电晕辊与胶辊配合设置成为一个可使基材绕成S 形的S形辊组件。
作为上述技术方案的进一步改进，所述主电晕辊由伺服电机驱动其运转。
本实用新型的有益效果是：本实用新型提供了一种涂布机电晕系统，该种涂布机电晕系统在整体上结构简单、实施方便、生产成本低；另外，通过设置在墙板上的胶压辊可在基材电晕处理过程中配合主电晕辊对基材进行夹压处理，不仅结构紧凑，更对基材形成“张力隔断”，方便各段基材张力调节成相同的张力，避免基材拉伸，保证基材具有良好的加工质量。
总之，该种涂布机电晕系统解决了现有技术存在的加工工艺繁多、机构结构复杂、不具有夹压功能、基材的加工质量差等技术缺陷。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
以下将结合实施例和附图对本实用新型的构思、具体结构及产生的技术效果进行清楚、完整地描述，以充分地理解本实用新型的目的、特征和效果。显然，所描述的实施例只是本实用新型的一部分实施例，而不是全部实施例，基于本实用新型的实施例，本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下所获得的其他实施例，均属于本实用新型保护的范围。另外，专利中涉及到的所有联接/连接关系，并非单指构件直接相接，而是指可根据具体实施情况，通过添加或减少联接辅件，来组成更优的联接结构。本实用新型创造中的各个技术特征，在不互相矛盾冲突的前提下可以交互组合，参照图1。
一种涂布机电晕系统，包括墙板1和安装在所述墙板1 上的主电晕辊2、配合所述主电晕辊2的胶压辊3、电极系统 4及过辊5，还包括展平弧形辊6和胶辊7，所述胶压辊3可配合主电晕辊2调节绕过主电晕辊2上的基材8的张力，所述电极系统4可配合主电晕辊2对绕过主电晕辊2的基材8进行电晕处理。
优选地，所述主电晕辊2与电极系统4配合组成为该涂布机电晕系统的电晕装置。
优选地，所述电极系统4具有两个，分别设置在主电晕辊 2上部两侧。
优选地，所述电极系统4可通过驱动汽缸调节其与基材8 的接触角度。
优选地，所述胶压辊3可配合主电晕辊2夹紧基材8并进一步控制基材8的张力，胶压辊3与主电晕辊2共同组成为用于夹紧基材8的夹压辊装置。
优选地，所述胶压辊3由汽缸驱动并控制其与主电晕辊2 之间的夹紧力。
优选地，所述主电晕辊2及胶辊7均为主动辊，主电晕辊2与胶辊7配合设置成为一个可使基材绕成S形的S形辊组件。
优选地，所述主电晕辊2由伺服电机驱动其运转。
该种涂布机电晕系统的工作过程：
首先，基材8依次绕设过展平弧形辊6、过辊5、主电晕辊2、胶辊7，所述主电晕辊2及胶辊7为主动辊，其对基材 8起到牵引作用，主电晕辊2与胶辊7设置成为S形辊组件，可确保其对基材8具有良好的牵引作用。在开始工作后，所述胶压辊3在汽缸的驱动作用下配合主电晕辊2对基材8进行夹压作用，对基材8形成张力隔断，方便进出主电晕辊2的基材 8张力的调节；同时，电极系统4在汽缸的驱动作用下调节合适的与基材8的接触角度，配合主电晕辊2对基材表面进行电晕处理。
在基材绕过主电晕辊2前，所述展平弧形辊6对基材8 进行展平处理，以减少进入电晕装置的基材出现“打皱”现象，有助于提升加工质量。
以上是对本实用新型的较佳实施进行了具体说明，但本实用新型创造并不限于所述实施例，熟悉本领域的技术人员在不违背本实用新型精神的前提下还可做出种种的等同变形或替换，这些等同的变形或替换均包含在本申请权利要求所限定的范围内。