一种茯苓高效密闭烘烤房的制作方法

本实用新型属于茯苓加工技术领域，具体为一种茯苓高效密闭烘烤房。

背景技术：

茯苓在加工过程中需要对其进行晾晒烘干内部的水分，传统的做法是将茯苓晾晒在太阳底下晒干，这种方法烘干速度慢，容易弄脏茯苓，同时又容易被雨水淋湿，也有采用烘烤房对其进行烘干的，但是传统的烘干房烘干效率底下，采用柴火烘干的质量较差，采用电力烘干的耗电量大。

技术实现要素：

本实用新型的目的是针对以上问题，提供一种茯苓高效密闭烘烤房，它能实现对茯苓的快速烘干，且耗能小，烘干速度快，效率高。

为实现以上目的，本实用新型采用的技术方案是：一种茯苓高效密闭烘烤房，它包括房体(1)，所述房体(1)内设置有中隔腔(12)；所述中隔腔(12)的底隔板(7)底部均匀设置有电加热片(8)；所述底隔板(7)上方设置有中隔板(6)；所述中隔腔(12)两侧壁设置有风力百叶窗(9)；所述中隔腔(12)两侧壁上位于底隔板(7)位置处设置有一级风机(3)，位于中隔板(6)位置处设置有二级风机(2)；所述房体(1)顶端设置有蒸汽排出筒(10)；所述蒸汽排出筒(10)内部均匀填充有硅酸铝颗粒(11)。

进一步的，所述风力百叶窗(9)的百叶窗叶片(91)一端均连接有从动齿轮(93)；所述从动齿轮(93)与带齿皮带(92)连接；所述带齿皮带(92)两头设置在主动齿轮(94)上，其中一个主动齿轮(94)中心设置有调节旋钮(95)。

进一步的，所述中隔腔(12)顶端设置有吊架(4)；所述吊架(4)上设置有照明灯(5)。

进一步的，所述蒸汽排出筒(10)圆周壁上均匀设置有透气孔。

进一步的，所述中隔板(6)和底隔板(7)均为网孔板。

本实用新型的有益效果：

本实用新型通过电加热片和一级风机、二级风机实现热风的循环烘干，烘干产生的蒸汽通过硅酸铝颗粒吸收后派出到大气中，实现了茯苓的密闭式烘干，采用了中隔板、底隔板实现双层烘干，提高一次性茯苓的烘干数量，同时可自由控制风力百叶窗的开闭度，调整风力循环烘干效果，烘干速度快，耗能低，调节灵活方便。

附图说明

图1为本实用新型整体结构示意图。

图2为图1中A-A剖视示意图。

图3为风力百叶窗侧面结构示意图。

图4为风力百叶窗正面结构示意图。

图中：1、房体；2、二级风机；3、一级风机；4、吊架；5、照明灯；6、中隔板；7、底隔板；8、电加热片；9、风力百叶窗；10、蒸汽排出筒；11、硅酸铝颗粒；12、中隔腔；91、百叶窗叶片；92、带齿皮带；93、从动齿轮；94、主动齿轮；95、调节旋钮。

具体实施方式

为了使本领域技术人员更好地理解本实用新型的技术方案，下面结合附图对本实用新型进行详细描述，本部分的描述仅是示范性和解释性，不应对本实用新型的保护范围有任何的限制作用。

如图1-图4所示，本实用新型的具体结构为：一种茯苓高效密闭烘烤房，它包括房体1，所述房体1内设置有中隔腔12；所述中隔腔12的底隔板7底部均匀设置有电加热片8；所述底隔板7上方设置有中隔板6；所述中隔腔12两侧壁设置有风力百叶窗9；所述中隔腔12两侧壁上位于底隔板7位置处设置有一级风机3，位于中隔板6位置处设置有二级风机2；所述房体1顶端设置有蒸汽排出筒10；所述蒸汽排出筒10内部均匀填充有硅酸铝颗粒11。

优选的，所述风力百叶窗9的百叶窗叶片91一端均连接有从动齿轮93；所述从动齿轮93与带齿皮带92连接；所述带齿皮带92两头设置在主动齿轮94上，其中一个主动齿轮94中心设置有调节旋钮95。

优选的，所述中隔腔12顶端设置有吊架4；所述吊架4上设置有照明灯5。

优选的，所述蒸汽排出筒10圆周壁上均匀设置有透气孔。

优选的，所述中隔板6和底隔板7均为网孔板。

本实用新型具体使用时，将茯苓放置在底隔板7或者中隔板6上，启动一级风机3或二级风机2，风机产生的风力吹向电加热片8，使得热风从底隔板7往上升起，对茯苓进行烘干，带有水蒸气的热风继续上升，多余的水蒸气被蒸汽排出筒10吸收走，而干燥的热风从中隔腔12两侧流出从中隔腔12与房体1之间的间隙中往下流动经风机带动继续流向电加热片8。

需要说明的是，在本文中，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

本文中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述，以上实例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想。以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，由于文字表达的有限性，而客观上存在无限的具体结构，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进、润饰或变化，也可以将上述技术特征以适当的方式进行组合；这些改进润饰、变化或组合，或未经改进将实用新型的构思和技术方案直接应用于其它场合的，均应视为本实用新型的保护范围。