用于调节换热的设备的制作方法

本发明涉及一种用于调节换热的设备，特别是(但并不排他)用于陶瓷工业。

背景技术：

对于陶瓷产品例如瓷砖、砖、瓷器等，使用在窑内部的换热器为公知。

特别是，已知的换热器通常布置在窑的冷却部分中，在这里，陶瓷物品的温度必须降低。

换热器用于从窑炉回收能量，例如为了加热建筑物或供给干燥器等。

使用已知系统的关键方面在于它们的吸热可能对陶瓷产品的形态有负面影响，特别是瓷砖的平面度和瓷器产品的形状规则性。

实际上，突然吸收热量(特别是当以不均匀的方式进行时)可能使得还没有固定的产品形状变化，这可能影响最终产品的质量。

技术实现要素：

因此，在本发明基础上的技术任务是提出一种用于调节换热的设备，该设备克服了现有技术的缺点。

该技术任务通过根据权利要求1生产的设备来实现。

附图说明

通过对如附图中所示的、本发明调节设备的优选(但非排他)实施例的近似和非限定的说明，将更清楚本发明的其它特征和优点，附图中：

图1是辊窑的示意纵剖图，根据本发明的设备应用于该辊窑中；

图2是图1中窑的示意横剖图；以及

图3是图1中的细节k的放大图。

具体实施方式

参考上述附图，1总体表示根据本发明的、用于调节换热的装置。

所提出的设备1特别(但并不是仅仅)用于陶瓷工业。

详细地说，设备1设想与换热器功能配合地工作，该换热器布置在用于烧制陶瓷产品的窑3内，特别是在冷却部分中。

陶瓷窑3(类似于例如附图中所示的陶瓷窑)用于制造陶瓷物品，例如瓷砖、砖、陶瓷等。

也如图1中所示，这些窑3具有由壁确定的细长构造，该壁环绕传送器30封闭，传送器30例如通过辊而支承和传送陶瓷物品。

本发明的换热器2能够布置在任意位置，例如在拱顶下面和传送器30上面，或者在传送器30下面，或者在窑3的壁上、在传送器30旁边等。

实际上，换热器2布置在窑3的壁内部就位，以便能够除去由陶瓷物品辐射的、传输至前述传送器30的顶部上的热量。

在图示实例中，提供有多个换热器2，这些换热器布置在传送器30的上面和下面；不过，这并不是强制的方面，因为例如全部换热器2可以只提供在传送器30的上面或只提供在传送器30的下面等。

实际上，本发明并不限制换热器2的定位。

本发明特别将应用于窑3的第一冷却部分中，在该第一冷却部分中进行快速冷却。

实际上，恰好在该部分中换热器2达到最佳使用效果，因为它是陶瓷产品能够在其中降低温度的部分，根据不同用途，能够从1200-1300℃降低至600-400℃。

在该温度区间中，产品释放的热量的较大部分将通过辐射来发出，较小部分将通过对流来传递。

因为所述换热器2适合吸收辐射热量，因此能够理解，所述设备1有它在前述第一冷却部分中的预计用途。

换热器能够包括多个管2，例如以蛇形方式弯曲，各管主要横过窑3的轴线延伸，或适合该目的的任意其它构造。

在附图所示的实例中，换热管确定了相应换热器2，该换热器有大致平面形状，或者在任意情况下有棱柱形状(具有普通的平面程度)。

在附图所示的特殊形式中，前述管2基本平行于用于使得陶瓷产品前进的前述传送器30。

在这种情况下，换热器2有朝向传送器30表面的第一侧(它与该传送器30表面基本平行)以及面对例如窑3的壁的相对侧。

所述设备1首先包括屏蔽装置10，该屏蔽装置将布置成面对换热器2(或多个换热器2)或至少一个换热器2的至少一部分。

优选是，屏蔽装置10提供于窑3中，插入在传送器30所处的平面(陶瓷物品在该平面上通过)和换热器2之间。

本发明的屏蔽装置10为可变的，因为它们提供有至少一个屏11，该屏11可在换热器2的最大覆盖位置c和至少一个暴露位置之间运动，在该至少一个暴露位置中，换热器2保持至少局部并不由屏11覆盖(见图3)。

优选是，设备1包括多个可运动屏11，更优选是，用于各换热器2的多个屏11。

更准确地说，屏11能够布置在多个暴露位置，包括一个最大暴露e，在该最大暴露中，它们完全或根本不覆盖换热器2。

下文中，为了方便，可以由屏11占据的普通位置称为“操作位置”。

在不同的操作位置中，各屏11以预定程度来覆盖换热器2，即在给定表面上。

实际上，如图1和图2中所示，假定屏蔽装置10布置在传送器30的平面和换热器2之间，它们能够完全或局部“阻挡”由陶瓷产品朝向换热器2辐射的热量。

因此，屏11的各操作位置的特征能够在于换热器2的面积由它覆盖的程度，以传送器30的平面作为参考或“观察点”。

各屏的形状优选是平面形，并能够包括例如由绝缘材料制成的刚性板状折片11。

这种折片11能够有四边形周边，优选是矩形。

特别是，各折片11能够布置成使它的长度横过窑3和(因此)传送器30的纵向延伸方向。

在优选实施例中，各屏11可绕相应旋转轴线a旋转，以便能够布置在它的不同操作位置。

因此，各操作位置是屏11的角度位置，它对应于换热器2的覆盖程度，因此对应于覆盖区域的范围。

在这种情况下，根据给定的屏11的倾斜度(因此根据特殊操作位置)，人们通过换热器2的、与屏11相关联的部分而获得不同的热吸收。

该方面将在本发明的操作说明中进一步介绍。

各屏11能够有旋转限制边缘和相对的自由边缘，旋转轴线a穿过该旋转限制边缘；另外，它能够有平行于旋转轴线a的纵向长度，因此垂直于陶瓷物品沿传送器30的传送方向。

优选是，当屏11从最大覆盖的位置c朝向暴露位置运动时，它们沿与换热器2相反的方向运动，即朝向传送器30的平面。

更详细地说，根据优选方面，各屏11的长度等于或大于相关联的换热器2的宽度。

实际上，当换热器2布置成使得它们的长度沿传送器30的纵向延伸方向时，它们将有横过该方向的宽度；因此，当屏11铰接在横过传送器30(和窑3)的纵向方向的轴上时，为了保证换热器2的有效和完全的侧向覆盖，屏11将优选是相当长(或宽，根据方位)，以便覆盖相关联的换热器2的截面。

换热器2沿它们的长度方向进行覆盖(和暴露)，特别是通过将屏11设置成旋转而进行调节，在本发明的操作说明中将返回介绍。

当换热器2和传送器30的平面平行时，各屏11能够在它的最大暴露位置e中布置成垂直于该平面，而在最大覆盖(或最小暴露)位置c中平行于该相同平面。

优选是，将调节相同换热器2(或它的至少一部分)的覆盖的屏11以这样的方式相互布置，即在相应最大覆盖位置c中，它们将完全覆盖换热器2的前述部分。

特别是，在它们的最大覆盖位置c中，与相同换热器2相关联的屏11能够相互平行，优选是基本共面，以便确定基本连续的覆盖壁，除了在一个屏11和另一个屏之间的可能小狭缝，该小狭缝不会明显影响本发明的设备1的功能。

在这种情况下，覆盖壁平行于传送器30的平面。

在屏11可旋转的优选实施例中，与相同传送器30相关联的这些屏优选是具有共面的轴线，并布置成使得相互距离基本等于在前述限制边缘和相对自由边缘之间的距离。

当屏11使得它们的长度沿旋转轴线a的方向延伸时，在前面段落中识别的距离是屏11自身的宽度。

下面介绍屏蔽装置10的可选和非必须的结构方面。

屏蔽装置10能够包括至少用于各换热器2的支承结构4，该支承结构4提供为用于附接屏11，且该支承结构4能够由换热器2的管穿过。

详细地说，该结构4能够包括一个或多个支承元件41，例如板状元件，优选是垂直设置，该支承元件41有通孔，用于换热器的一排或多排管2通过(见图3)。

实际上，支承元件41除了支承屏11(以及可选地支承后面所述的其它部件)之外，还能够像模板11一样用于定位换热器2的管束。

在图中所示的情况下，管2设置成预定相互距离的两个水平排，一排的管相对于另一排的管交错，原因是吸收效率，这与本发明不相关。

部分如上间接所述，屏的折片11与支承结构4旋转地连接，例如通过固定在单个折片11的一侧上的铰链销12，例如较大的一侧，在平行六面体形状的情况。

更详细地说，在各前述支承元件41中能够形成有引导和连接孔42，该引导和连接孔42开始于元件自身的下边缘，并确定弓形形状的凹入部分，该凹入部分又确定了用于插入销12的引导件。

孔42终止于座，该座用于使销12置于其中，例如为u形。

销11和前述模板11能够由253ma、不锈钢或所谓的“黑钢”或其它具有高耐热性的材料来制造。

所提出的装置1能够包括驱动装置5，例如机动类型，该驱动装置5能够自动地使得屏11运动。

详细地说，驱动装置5能够单独地驱动屏11，或者能够同时驱动多个。

在这两种情况下，驱动装置5将执行屏11在多个操作位置中的运动调节。

驱动装置5能够包括伺服控制器，例如安装在模板11上，或者更复杂的运动系统。

例如，前述销12能够通过棱柱形部分而凸出至模板11外，该棱柱形部分适合与伺服控制器5机械连接。

当使用基于杠杆或链的运动系统时，多个销12能够限制在相同的传动齿轮上，以使得相关联的折片11能够一起驱动。

而且，本发明的设备1能够包括处理单元，例如计算机或plc等，该处理单元设置成根据预定程序来控制驱动装置5，以便调节换热器2的暴露，该预定程序包含在单元自身中并在该单元自身中运行。

下面将介绍本发明的操作。

根据在窑3中制造的陶瓷物品的类型和根据实施本发明的特殊冷却部分以及还根据与行业中的技术处理相关的其它参数，必须在窑3的给定部分中提供合适程度的吸热。

如上所述，假定从瓷砖朝向换热器2的热辐射通过屏11的位置而减少，本发明的设备1能够这样布置不同的屏11，以便获得合适水平的吸热。

为此，给定的换热器2的屏11或者这些屏11的、布置成与换热器2的特定部分相对的部分通过伺服控制器或其它驱动装置5而旋转驱动，以便使它们置于与所希望的吸热相对应的角度位置。

因此，以这种方式，人们避免了过度吸热和吸热不足，该过度吸热可能在陶瓷物品中产生形态缺陷，特别是瓷砖的平面性，该吸热不足将降低换热器2的使用有效性，并将使得冷却处理更长。

总之，根据前述技术生产要求，折片11布置在相应的操作位置，该操作位置包括在最大覆盖位置c和一个最大吸收位置之间，在该最大覆盖位置c中，吸热最小，理想情况为没有吸热，在该最大吸热位置中，换热器2的效率100％利用。因此，相同设备1的多个折片11(这些折片11甚至可以与相同的换热器2相关联)将布置在不同角度位置，这些位置能够根据变化的技术和生产要求而合适地随时间变化，从而使得本发明有极高水平的多功能性和适应性。

一个应用实例是利用前述处理单元不仅控制和调节屏11的位置，还用于初始学习阶段，其中，用于调节屏11的程序通过一系列实验来获得，这些实验用于识别特殊窑3和特殊换热器2的特征参数，本发明与该换热器2在功能上配合。