一种氟化钙烧结用坩埚及结构的制作方法

本实用新型涉及晶体生长领域，特别涉及一种氟化钙烧结用坩埚及结构。

背景技术：

现有技术中，氟化物粉料烧结采用单层坩埚、单温区加热器的方式烧结，为了提高单次烧结产量，加热器高度通常较高，坩埚内顶部和底部温度差异较大，导致当坩埚底部原料熔化时，顶部原料挥发量过大，损失较多。同时单坩埚烧出的块料体积过大，给后期打磨加工造成不便。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种氟化钙烧结用坩埚及结构，增加了单次烧结产量的同时避免原料高温时挥发，烧结后的块料便于打磨及粉碎，有效提高了生产效率。

为解决上述技术问题，本实用新型的实施方式提供了一种氟化钙烧结用坩埚，包括具有一开口的坩埚本体，坩埚本体呈开口宽、底部窄的柱状结构；坩埚本体的开口处设置一卡槽，坩埚本体的底部设置与卡槽形状、位置适配的卡块，或坩埚本体的开口处设置一卡块，坩埚本体的底部设置与卡块形状、位置适配的卡槽。

为解决上述技术问题，本实用新型的实施方式还提供了一种氟化钙烧结用结构，包括如上所述的氟化钙烧结用坩埚。

本实用新型实施方式相对于现有技术而言，通过层叠设置的坩埚本体，且坩埚本体之间的紧密贴合，增加了单次烧结产量的同时避免原料高温时挥发，烧结后的块料便于打磨及粉碎，有效提高了生产效率。

另外，坩埚本体的内径为150～250mm，高100～150mm。

另外，坩埚本体的开口处的卡块的底壁与侧壁呈一钝角，坩埚本体底部的卡槽的底壁与侧壁呈一钝角，且两个钝角的角度相同。

另外，若干个坩埚本体由上而下层叠设置于真空炉内，围绕若干个坩埚本体设置加热器，加热器位于真空炉内，坩埚本体的底部位于相邻的坩埚本体的开口内；最顶端的坩埚本体的开口处盖设一坩埚盖。

另外，坩埚本体为3个。

附图说明

图1是本实用新型第一实施方式中的坩埚本体的截面图；

图2是本实用新型第三实施方式中氟化钙烧结用结构示意图。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本实用新型的各实施方式进行详细的阐述。然而，本领域的普通技术人员可以理解，在本实用新型各实施方式中，为了使读者更好地理解本申请而提出了许多技术细节。但是，即使没有这些技术细节和基于以下各实施方式的种种变化和修改，也可以实现本申请各权利要求所要求保护的技术方案。

本实用新型的第一实施方式涉及一种氟化钙烧结用坩埚，如图1所示，包括具有一开口的坩埚本体1，坩埚本体1呈开口宽、底部窄的柱状结构；坩埚本体1的开口处设置一卡块1-1，坩埚本体的底部设置与卡块1-1形状、位置适配的卡槽1-2。

具体地，坩埚本体的内径为150～250mm，高100～150mm。

优选地，坩埚本体1的开口处的卡块的底壁与侧壁呈一钝角a，坩埚本体1的底部的卡槽的底壁与侧壁呈一钝角b，且两个钝角的角度相同。

本实用新型的第二实施方式涉及一种氟化钙烧结用坩埚，第二实施方式与第一实施方式大致相同，主要区别之处在于：在第一实施方式中，坩埚本体1的开口处设置一卡块1-1，坩埚本体的底部设置与卡块1-1形状、位置适配的卡槽1-2。而在本实用新型第二实施方式中，坩埚本体的开口处设置一卡槽，坩埚的底部设置与卡槽形状、位置适配的卡块。

本实用新型的第三实施方式涉及一种氟化钙烧结用结构，包括如上第一实施方式或第二实施方式中所述的氟化钙烧结用坩埚。如图2所示，若干个坩埚本体1由上而下层叠设置于真空炉内，围绕若干个坩埚本体1设置加热器2，加热器2位于真空炉内，坩埚本体1的底部位于相邻的坩埚本体的开口内；最顶端的坩埚本体1的开口处盖设一坩埚盖3。

具体地，本实施方式中的坩埚本体1可以有3个，3个坩埚本体1自上而下层叠设置，位于最下端的为第一坩埚本体，位于中间位置的为第二坩埚本体，位于最上端的为第三坩埚本体，第一坩埚本体与第二坩埚本体通过第一坩埚本体开口处的卡块1-1与第二坩埚本体底部的卡槽1-2固定在一起，相应地，第二坩埚本体与第三坩埚本体通过第二坩埚本体开口处的卡块1-1与第三坩埚本体底部的卡槽1-2固定在一起，当坩埚本体1多于3个时，以此情况类推。

本领域的普通技术人员可以理解，上述各实施方式是实现本实用新型的具体实施例，而在实际应用中，可以在形式上和细节上对其作各种改变，而不偏离本实用新型的精神和范围。