运入到工艺室10的基板SUB移送。基板干燥部110、120向移送的基板SUB喷射高压的空气，从而执行基板干燥工序。
[0048]在进行基板干燥工序时，通过喷射到基板SUB的高压的空气而将基板SUB上残留的洗净液除去。被高压的空气去除的洗净液的颗粒可通过排气管13而得到排出。已被基板干燥部110、120执行基板干燥工序的基板SUB通过辊子R0L而得到移送，从而通过基板运出部12而运出到外部。
[0049]基板干燥部110、120包括第一基板干燥部110和第二基板干燥部120。第一基板干燥部110布置于基板SUB的上部而将高压的空气喷射于基板SUB的上表面。第二基板干燥部120布置于基板SUB的下部而将高压的空气喷射于基板SUB的下表面。
[0050]第一基板干燥部110包括第一气体供应管111、第一气体移送部112、第二气体移送部113、第一壳体114、第一喷嘴115、加热部116以及蒸发部117。
[0051]以下，将面向基板SUB的移送方向的第一壳体114的侧面定义为正面FS，并将第一壳体114的正面FS的相反侧面定义为第一壳体114的背面BS。
[0052]第一气体供应管111布置为与第一壳体114的背面相面对。第一气体移送部112连接于第一气体供应管111而沿第一方向D1延伸。
[0053]第二气体移送部113被收容于第一壳体114。布置于第一壳体114内的第二气体移送部113朝与第一方向D1交叉的第二方向D2延伸，从而向布置有基板SUB的下方延伸。第二气体移送部113连接于第一气体移送部112。
[0054]第一气体移送部112连接于第二气体移送部113的上部的预定区域。第一气体移送部112布置于第一气体供应管111与第二气体移送部113之间，从而起到连接第一气体供应管111与第二气体移送部113的作用。
[0055]第一喷嘴115连接于第一壳体114的下部。并且，第一喷嘴115连接于第二气体移送部113的下部。第二气体移送部113布置于第一气体移送部112与第一喷嘴115之间，从而起到连接第一气体移送部112与第一喷嘴115的作用。
[0056]第一喷嘴115朝面向基板SUB的移送方向的方向弯折为具有预定的角度，从而布置为使第一喷嘴115的下部朝向基板SUB的上表面。例如，当基板SUB从左侧向右侧得到移送时，第一喷嘴115向左侧弯折为具有预定的角度，从而布置为使第一喷嘴115的下部朝向基板SUB的上表面。
[0057]第一喷嘴115包括第一孔H1。第一孔H1布置为朝向基板SUB的上表面。而且，第一孔H1连接于第二气体移送部113的下部。
[0058]第一气体供应管111产生高压的空气。第一气体移送部112从第一气体供应管111获得高压的空气而提供给第二气体移送部113。并且，第二气体移送部113获得高压的空气而提供给第一喷嘴115。
[0059]S卩，第一气体移送部112和第二气体移送部113提供在第一气体供应管111中产生的高压的空气的移动路径。于是，在第一气体供应管111中产生的高压的空气通过第一气体移送部112和第二气体移送部113而被提供到第一喷嘴115。
[0060]第一喷嘴115的第一孔H1通过第二气体移送部113而获得高压的空气。高压的空气通过第一孔H1而向基板SUB的上表面喷射。借助于向基板SUB喷射的高压的空气，残留在基板SUB的上表面的洗净液被除去。
[0061]蒸发部117布置于第一壳体114的正面FS的下部的预定区域而向与基板SUB的移送方向相反的方向突出。蒸发部117的一侧连接于第一壳体114的正面FS，蒸发部117的另一侧具有倾斜面。而且，蒸发部117的上表面的长度比蒸发部117的下表面的长度更长。加热部116连接于蒸发部117而对蒸发部117进行加热。
[0062]第二基板干燥部120包括第二气体供应管121、第三气体移送部122、第四气体移送部123、第二壳体124以及第二喷嘴125。第二喷嘴125包括第二孔H2。
[0063]除了没有加热部116和蒸发部117以外，第二基板干燥部120的构造实质上与第一基板干燥部110相同。第一基板干燥部110与第二基板干燥部120将基板SUB置于中间而布置，且布置为相互对称。
[0064]第二气体供应管121产生高压的空气。第三气体移送部122连接于第二气体供应管121而从第二气体供应管121获得高压的空气。第四气体移送部123连接于第三气体移送部122而从第三气体移送部122获得高压的空气。第四气体移送部123被收容于第二壳体 124。
[0065]第二喷嘴125连接于第二壳体124的上部。并且，第二喷嘴125的第二孔H2连接于第四气体移送部123的上部而获得高压的空气。第二孔H2向基板SUB的下表面喷射高压的空气。借助于向基板SUB喷射的高压的空气，残留在基板SUB的下表面的洗净液被除去。
[0066]因此，第二基板干燥部120可通过向基板SUB的下表面喷射高压的空气而执行基板干燥工序。
[0067]虚设蒸发部22布置于工艺室10的上部的内侧面的预定区域。虚设蒸发部22布置为重影于高压的空气与基板SUB的上表面之间的接触点。虚设蒸发部22的具体布置区域将在以下详细说明。虚设加热部21连接于虚设蒸发部22而对虚设蒸发部22进行加热。
[0068]被高压的空气所去除的洗净液的一部分不通过排气管13而排出，而是可能作为诸如碎状的水汽(Mist)残留在工艺室10内。
[0069]水汽可以随高压的空气所形成的气流而被吸附于第一基板干燥部110的第一壳体114的正面。当这样的水汽相互结合而形成为更大的水珠时，可顺着第一壳体114的正面FS流下。顺着第一壳体114的正面FS流下的水汽可汇集于蒸发部117。
[0070]加热部116将蒸发部117加热至能够使水汽蒸发的温度。于是，到达蒸发部117的水汽可在蒸发部117中蒸发而被除去。
[0071]而且，水汽可以随高压的空气所形成的气流而移动，从而被吸附于布置在工艺室10的上部的内侧面的预定区域的虚设蒸发部22。虚设加热部21将虚设蒸发部22加热至用能够使水汽蒸发的温度。于是，吸附于虚设蒸发部22的水汽可在虚设蒸发部22中蒸发而被除去。
[0072]水汽蒸发的具体操作将会在下面参照图3而详细说明。
[0073]图2为概略地图示出通过第一基板干燥部和第二基板干燥部执行的基板干燥工序的图。
[0074]在图2中，为了便于说明而只图示出基板SUB、第一壳体114、第一喷嘴115和第二喷嘴125、以及蒸发部117。其他构造已在前面参照图1而进行说明，因此未予图示。
[0075]参照图2，基板SUB沿第一方向D1具有长边，且沿垂直于第一方向D1和第二方向D2的第三方向D3具有短边。
[0076]第一壳体114、第一喷嘴115和第二喷嘴125、以及蒸发部117沿第三方向D3延伸。因此，第一壳体114、第一喷嘴115和第二喷嘴125、以及蒸发部117布置为与基板SUB的短轴平行。虽然没有图示，然而第二壳体124也沿第三方向D3延伸。
[0077]如前所述，第一喷嘴115朝面向基板SUB的移送方向的方向弯折为具有预定的角度而布置为使第一喷嘴115的下部朝向基板SUB的上表面。相同地，第二喷嘴125也向面向基板SUB的移送方向的方向弯折为具有预定的角度而布置为使第二喷嘴125的上部朝向基板SUB的下表面。
[0078]高压的空气AIR通过第一喷嘴115的第一孔H1而向基板SUB的上表面喷射。第二喷嘴125的第二孔H2布置为朝向基板SUB的下表面。于是，高压的空气AIR通过第二喷嘴125的第二孔H2而向基板SUB的下表面喷射。因此，残留在基板SUB的上表面和下表面的洗净液被除去。
[0079]图3为示例性表示当通过第一基板干燥部执行基板干燥工序时水汽的移动流向的图。
[0080]为了便于说明，在图3中将用于通过第一基板干燥部110而执行基板干燥工序的基板SUB的一部分、工艺室10的一部分以及第一基板干燥部110放大而图示。
[0081]参照图3，蒸发部117突出为具有小于从第一壳体114的正面到高压的空气AIR与基板SUB的上表面之间的接触点为止的距离的大小，并连接于第一壳体114的正面。因此，蒸发部117可布置为并不重影于高压的空气AIR与基板SUB的上表面之间的接触点。
[0082]如前所述，虚设蒸发部22布置于工艺室10的上部的内侧面的预定区域。具体而言，虚设蒸发部22可布置为重影于高压的空气AIR与基板SUB的上表面之间的接触点。
[0083]虚设蒸发部22的一侧布置为与作为连接于第一壳体114的正面的蒸发部117的一侧的相反侧的蒸发部117的另一侧以投影方式接触，且相邻于朝上部和下部方向(或说是第二方向D2)延伸的延伸轴EA。虚设蒸发部22可从延伸轴EA朝没有布置蒸发部117的方向延伸预定区域。因此，虚设蒸发部22可布置为不与蒸发部117重影。
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