一种新型铝散热器的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及散热器技术领域，尤其涉及新型铝散热器。
【背景技术】
[0002]在铝散热器领域，设计开发过程中常需要对结构设计进行前期仿真。确保仿真数据在合理范围内后进行生产。结构设计常多样化，但一些元件对散热要求特别高，1°C之差就决定了散热器的使用性能。
[0003]目前焊接工艺不成熟的时候，采用埋铜管的方式制作散热器，但铜管的弯折程度有限，散热性能有所局限。而采用挖型腔结合真空钎焊的工艺，灵活性好，流道结构可以随需设计，但流道设计也考虑加工工艺，目前以直线型腔和螺旋型腔的居多。但是由于有元件安装螺纹孔的干涉、加工工艺和成本的限制、客户对流阻的要求，经常采用直线型腔流道，冷却液在直线腔内通过多次转弯实现散热，而且元件模块上下边缘温度最高，这种结构的温升较大，热阻大。在铝散热器领域，在合适的流阻范围内，能减少热阻，减低温升，是一个很关键的技术问题。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型的目的是提供了一种新型铝散热器，通过在直线流道中增加圆弧过渡，将冷却液引到温度高的区域，有效的解决了电子元件由于安装螺纹孔的影响，边缘温度高的缺点，提高散热效果，而且对流阻只有很小的影响。
[0005]本实用新型采用的技术方案如下:
[0006]一种新型铝散热器，包括散热器本体，所述散热器本体内部设有直线流道，直线流道一端连接进水口，另一端连接出水口，散热器本体上端设有两个上元件安装螺纹孔，下端设有两个下元件安装螺纹孔，直线流道覆盖在上元件安装螺纹孔和下元件安装螺纹孔之间的整个区域内，所述直线流道上靠近上元件安装螺纹孔和下元件安装螺纹孔处分别设有圆弧过渡。
[0007]所述直线流道上靠近上元件安装螺纹孔处的圆弧过渡设置在两个上元件安装螺纹孔之间，靠近下元件安装螺纹处的圆弧过渡设置在两个下元件安装螺纹孔之间。通过圆弧过渡将冷却液引到元件安装螺纹孔的中间，更好的给电子元件散热。
[0008]与已有技术相比，本实用新型的有益效果如下:
[0009]本实用新型的新型铝散热器，通过在直线流道中增加圆弧过渡，将冷却液引到温度高的区域，有效的解决了电子元件由于安装螺纹孔的影响，边缘温升高的缺点，提高散热效果，而且对流阻只有很小的影响。
【附图说明】
[0010]图1为本实用新型的结构示意图。
【具体实施方式】
[0011]下面结合实施例和附图对本实用新型作进一步的描述。
[0012]参见附图1，一种新型铝散热器，包括散热器本体1，所述散热器本体I内部设有直线流道2，直线流道2 —端连接进水口 3，另一端连接出水口 4，散热器本体I上端设有两个上元件安装螺纹孔5，下端设有两个下元件安装螺纹孔6，直线流道I覆盖在上元件安装螺纹孔5和下元件安装螺纹孔6之间的整个区域内，所述直线流道I上靠近上元件安装螺纹孔5和下元件安装螺纹孔6处分别设有圆弧过渡7，所述直线流道上靠近上元件安装螺纹孔处的圆弧过渡设置在两个上元件安装螺纹孔5之间，靠近下元件安装螺纹处的圆弧过渡设置在两个下元件安装螺纹孔6之间，通过圆弧过渡将冷却液引到元件安装螺纹孔的中间，更好的给电子元件散热。本实用新型的新型铝散热器，通过在直线流道中增加圆弧过渡7，将冷却液引到温度高的区域，有效的解决了电子元件由于安装螺纹孔的影响，边缘温升高的缺点，提高散热效果，而且对流阻只有很小的影响。
【主权项】
1.一种新型铝散热器，其特征在于:包括散热器本体，所述散热器本体内部设有直线流道，直线流道一端连接进水口，另一端连接出水口，散热器本体上端设有两个上元件安装螺纹孔，下端设有两个下元件安装螺纹孔，直线流道覆盖在上元件安装螺纹孔和下元件安装螺纹孔之间的整个区域内，所述直线流道上靠近上元件安装螺纹孔和下元件安装螺纹孔处分别设有圆弧过渡。2.根据权利要求1所述的新型铝散热器，其特征在于:所述直线流道上靠近上元件安装螺纹孔处的圆弧过渡设置在两个上元件安装螺纹孔之间，靠近下元件安装螺纹处的圆弧过渡设置在两个下元件安装螺纹孔之间。
【专利摘要】本实用新型公开了一种新型铝散热器，包括散热器本体，所述散热器本体内部设有直线流道，直线流道一端连接进水口，另一端连接出水口，散热器本体上端设有两个上元件安装螺纹孔，下端设有两个下元件安装螺纹孔，直线流道覆盖在上元件安装螺纹孔和下元件安装螺纹孔之间的整个区域内，所述直线流道上靠近上元件安装螺纹孔和下元件安装螺纹孔处分别设有圆弧过渡。本实用新型的新型铝散热器，通过在直线流道中增加圆弧过渡，将冷却液引到温度高的区域，有效的解决了电子元件由于安装螺纹孔的影响，边缘温度高的缺点，提高散热效果，而且对流阻只有很小的影响。
【IPC分类】H05K7/20, F28F21/08
【公开号】CN204881321
【申请号】CN201520656867
【发明人】胡新家, 周光捌
【申请人】安徽合一电气科技有限公司
【公开日】2015年12月16日
【申请日】2015年8月26日