一种硅片脱胶清洗设备的制作方法

本实用新型涉及硅片加工技术领域，具体涉及一种硅片脱胶清洗设备。

背景技术：

多线切割晶棒生产硅片的过程中，对切割好的硅片一般采用传统手工进行脱胶，因脱胶过程中对力度、温度掌握不均匀，且不稳定，易出现硅片崩边、毛边、氧化等现象，产生废片。另外用于对硅片脱胶的水往往是一次性使用，即浪费又不环保。目前市场上也出现了用于硅片脱胶的硅片脱胶机，一般都是采用硅片脱胶剂进行浸泡等方式，其脱胶效率低，脱胶效果不理想，对硅片脱胶剂及水的用量也极大，不能循环使用，造成严重的浪费及污染。

技术实现要素：

针对现有技术中存在的问题，本实用新型提供一种。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是，一种硅片脱胶清洗设备，包括有清洗箱和水箱，清洗箱内设有若干用于垂直放置硅片的硅片架，硅片架上方设有若干朝下安装的喷嘴，喷嘴固定在清洗箱顶部，清洗箱顶部设有连通喷嘴的进水管，清洗箱底部设有回流口，水箱上设有进水口和出水口，回流口连接水箱上的进水口，水箱的出水口通过管道连接进水管，出水口与进水管之间设有高压水泵，水箱内设有恒温加热器。

硅片架上设有若干垂直卡槽，硅片架由水平放置且相互平行的左侧杆、右侧杆及底杆构成，底杆上设有托住硅片底部的凹槽一，左侧杆设有用于顶住硅片左侧的凹槽二，右侧杆设有用于顶住硅片右侧的凹槽三，凹槽一、凹槽二以及凹槽三共同构成与硅片相匹配的垂直卡槽。

清洗箱内设有加热装置。

清洗箱的侧壁设有可开合的箱门，箱门位于硅片架与喷嘴之间，箱门由透明玻璃制成。

进水管内设有过滤网。

本实用新型的工作原理是：打开箱门，将待脱胶的硅片分别放入硅片架上的垂直卡槽内，关闭箱门，启动清洗箱中的加热装置给硅片预热并维持箱内恒温。水箱中装满带有硅片脱胶剂的恒温水溶液，高压水泵将带有脱胶剂的恒温水溶液压送至清洗箱的进水管，经喷嘴形成带有一定冲洗压力的水束，水束持续冲洗硅片直到完成脱胶。

本实用新型的有益效果是，本实用新型的硅片脱胶清洗设备脱胶效果好，脱胶速度快，浪费的水及脱胶剂少，降低了工序成本。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是清洗箱的结构示意图；

图3是硅片架的结构示意图。

具体实施方式

现结合附图对本实用新型作进一步说明。

如图1-3所示，一种硅片脱胶清洗设备，包括有清洗箱1和水箱2，清洗箱1内设有用于垂直放置硅片的硅片架3，硅片架3上方设有若干朝下安装的喷嘴4，喷嘴4固定在清洗箱1顶部，清洗箱1顶部设有连通喷嘴4的进水管5，清洗箱1底部设有回流口6，水箱2上设有进水口7和出水口8，回流口6连接水箱上的进水口7，出水口8通过管道连接进水管5，出水口8与进水管5之间设有高压水泵，水箱2内设有恒温加热器。

硅片架3上设有若干垂直卡槽，硅片架3由水平放置且相互平行的左侧杆9、右侧杆10及底杆构成11，底杆11上设有托住硅片底部的凹槽一12，左侧杆9设有用于顶住硅片左侧的凹槽二13，右侧杆10设有用于顶住硅片右侧的凹槽三14，凹槽一12、凹槽二13以及凹槽三14共同构成与硅片相匹配的垂直卡槽。

清洗箱1内设有加热装置，硅片放置进去后启动加热装置给硅片预热。

清洗箱1的侧壁设有可开合的箱门15，箱门15位于硅片架3与喷嘴4之间，箱门15由透明玻璃制成，方便观察脱胶效果。

进水管5内设有过滤网，将脱胶过程中的大颗粒杂物过滤下来，防止堵塞喷嘴4及损伤硅片。

打开箱门15，将待脱胶的硅片分别放入硅片架3上的垂直卡槽内，关闭箱门15，启动清洗箱4中的加热装置给硅片预热并维持箱内恒温。水箱2中装满带有硅片脱胶剂的恒温水溶液，高压水泵将带有脱胶剂的恒温水溶液压送至清洗箱1的进水管5，经喷嘴4形成带有一定冲刷压力的水束，水束持续冲洗硅片直到完成脱胶。清洗箱1底部的水溶液经回流口6流出，经进水口7回到水箱2。根据场地需要，可以在回流口6与进水口7之间加装水泵。

以上详细描述了本实用新型的较佳具体实施例，应当理解，本领域的普通技术人员无需创造性劳动就可以根据本实用新型的构思做出诸多修改和变化，因此，凡本技术领域中技术人员依本实用新型的构思在现有技术的基础上通过逻辑分析、推理或者有限的实验可以得到的技术方案，皆应在由权利要求书所确定的保护范围内。