一种晶片清洗机水槽的制作方法

本实用新型涉及一种晶片清洗机水槽，属于清洗设备技术领域。

背景技术：

超声波清洗是利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物直接、间接的作用，使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的。现有晶片清洗装置均为QDR水槽，使用超声波进行清洗，水槽作业时将晶片放于水槽底部，程序开始喷淋，但是晶片不旋转，存在清洗死角，比如与卡塞接触部位无法冲洗干净，晶片顶部冲洗洁净度更高；晶片表面洁净度不一致，部分位置脏污聚集，影响洁净良率。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于克服现有晶片清洗机水槽存在的上述缺陷，提出了一种晶片洁净度高，洁净度一致性好的晶片清洗机水槽。

本实用新型是采用以下的技术方案实现的：

一种晶片清洗机水槽，包括不锈钢槽体和总水管，所述槽体内设有放置晶片的花篮，所述槽体顶部安装有若干喷淋管，喷淋管的一端与总水管通过分水管Ⅰ连接，分水管Ⅰ上设有气动阀Ⅰ，所述槽体底部设有不连续镂空底板，底板间隔内安装有滚轴，滚轴连接有驱动装置，所述槽体侧板上滚轴的下部还开有进水口，进水口与总水管之间通过分水管Ⅱ连接，分水管Ⅱ上设有气动阀Ⅱ，所述气动阀Ⅰ、气动阀Ⅱ、气动泵、滚轴均与PLC控制器连接，所述槽体底板开有排水口。

进一步地，所述槽体的左右侧板上开有若干用于安装喷淋管的凹槽。

进一步地，所述槽体的前后侧板开有锯齿状的溢流槽。

进一步地，所述镂空底板的下方还安装有与排水口匹配的气动泵。

进一步地，所述喷淋管上安装有若干喷头，所述喷头为广角喷头。

进一步地，所述驱动装置包括电机和皮带，皮带的一端连接电机，另一端连接滚轴。

本实用新型的有益效果是：

使用广角喷头对晶片进行喷淋，喷淋角度广、力度大，喷淋彻底；进水和排水在PLC控制下实现了快进快排的效果；清洗过程中，滚轴带动晶片转动，杜绝清洁死角；锯齿状溢流槽减少水的排出阻力，使得排水更顺畅。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

图2是本实用新型的俯视图。

图中：1水槽；2喷淋管；3滚轴；4镂空底板；5喷头；6溢流槽；7气动阀Ⅰ；8气动阀Ⅱ；9总水管；10进水口；11排水口；12气动泵。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步说明。

如图1所示，本实用新型所述的一种晶片清洗机水槽1，包括不锈钢槽体和总水管9，所述槽体内设有放置晶片的花篮，所述槽体顶部安装有若干喷淋管2，喷淋管2上安装有若干喷头5，喷头5为广角喷头5，喷淋管2的一端与总水管9通过分水管Ⅰ连接，另一端为封闭状态，分水管Ⅰ上设有气动阀Ⅰ7，所述槽体底部设有不连续镂空底板4，底板间隔内安装有滚轴3，滚轴3连接有驱动装置，驱动装置包括电机和皮带，皮带的一端连接电机，另一端连接滚轴3，所述槽体侧板上滚轴3的下部还开有进水口10，进水口10与总水管9之间通过分水管Ⅱ连接，分水管Ⅱ上设有气动阀Ⅱ8，所述气动阀Ⅰ7、气动阀Ⅱ8、气动泵12、滚轴3均与PLC控制器连接，所述槽体底板开有排水口11。

槽体的左右侧板上开有若干用于安装喷淋管2的凹槽，槽体的前后侧板开有锯齿状的溢流槽6，镂空底板4的下方还安装有与排水口11匹配的气动泵12。

本实用新型的使用过程如下所述：

1、将晶片装入花篮，花篮放置于水槽1内；

2、PLC控制器控制气动阀Ⅰ7打开，总水管9的清洗液进入喷淋管2，喷淋管2的广角喷头5对晶片进行喷淋清洗，清洗液从排水口11流出，一段时间后PLC控制器控制气动阀Ⅰ7关闭；

3、PLC控制器控制气动阀Ⅱ8、滚轴3、气动泵12打开，气动泵12上移将排水口11堵住，清洗液从进水口10进入水槽1，滚轴3转动带动晶片转动进行二次清洗，一段时间后PLC控制器控制气动阀Ⅱ8、滚轴3、气动泵12关闭，气动泵12下移，清洗液从排水口11流出。

当然，上述内容仅为本实用新型的较佳实施例，不能被认为用于限定对本实用新型的实施例范围。本实用新型也并不仅限于上述举例，本技术领域的普通技术人员在本实用新型的实质范围内所做出的均等变化与改进等，均应归属于本实用新型的专利涵盖范围内。