1.一种硅片超声波清洗装置，包括清洗箱(1)，其特征在于：所述清洗箱(1)的顶部设有总水管(2)，所述清洗箱(1)的内侧顶部设有贯穿清洗箱(1)的内侧顶部并延伸至外部的出水管(3)，位于清洗箱(1)外部的出水管(3)与总水管(2)的连接，所述清洗箱(1)的一侧设有蓄水箱(4)，所述蓄水箱(4)的顶部一侧设有水泵(5)，所述水泵(5)的进水端与蓄水箱(4)的出水端连接，所述蓄水箱(4)的顶部另一侧设有PLC控制器(6)，所述清洗箱(1)的另一侧设有排水口(7)，所述清洗箱(1)的内侧左右侧壁中部设有角铁(8)，所述角铁(8)的顶部设有隔板(9)，所述隔板(9)的顶部设有贯穿隔板(9)顶部并延伸至底部的通槽(10)，所述清洗箱(1)的左右侧面之间设有横向齿条(11)，所述横向齿条(11)的侧面设有滑块一(12)，所述滑块一(12)的侧面设竖向齿条(13)，所述滑块一(12)的侧面设有定位板(14)，所述定位板(14)的两端均设有电机一(15)，所述电机一(15)的输出轴设有齿轮一(16)，所述齿轮一(16)与横向齿条(11)相互啮合，所述竖向齿条(13)的侧面设有滑块二(17)，所述滑块二(17)的侧面设有固定板(18)，所述固定板(18)的前侧设有电机二(19)，所述电机二(19)的输出轴设有齿轮二(20)，所述齿轮二(20)与竖向齿条(13)相互啮合，所述固定板(18)的前侧设有超声波清洗装置(21)，PLC控制器(6)的输入端电连接外部电源的输出端，PLC控制器(6)的输出端电连接水泵(5)、电机一(15)、电机二(19)和超声波清洗装置(21)的输入端。
2.根据权利要求1所述的一种硅片超声波清洗装置，其特征在于：所述出水管(3)以矩阵方式均匀分布于清洗箱(1)的顶部，所述通槽(10)以矩阵方式平均分布于隔板(9)的顶部，出水管(3)的出水端与通槽(10)相对应。
3.根据权利要求1所述的一种硅片超声波清洗装置，其特征在于：所述排水口(7)的进水端设有电磁阀，电磁阀的输入端电连接PLC控制器(6)的输出端。
4.根据权利要求1所述的一种硅片超声波清洗装置，其特征在于：所述角铁(8)与隔板(9)滑动连接。
5.根据权利要求1所述的一种硅片超声波清洗装置，其特征在于：所述滑块一(12)的内侧设有通孔一，横向齿条(11)贯穿通孔一与滑块一(12)滑动连接，所述滑块二(17)的内侧设有通孔二，竖向齿条(13)贯穿通孔二与滑块二(17)滑动连接。