技术总结
本实用新型公开了一种硅片超声波清洗装置，包括清洗箱，清洗箱的顶部设有总水管，所述清洗箱的内侧顶部设有贯穿清洗箱的内侧顶部并延伸至外部的出水管，位于清洗箱外部的出水管与总水管的连接，出水管以矩阵方式均匀分布于清洗箱的顶部，清洗箱的一侧设有蓄水箱，蓄水箱的顶部一侧设有水泵，水泵的进水端与蓄水箱的出水端连接，蓄水箱的顶部另一侧设有PLC控制器，清洗箱的另一侧设有排水口，排水口的进水端设有电磁阀，用于控制出水量减少资源浪费，电磁阀的输入端电连接PLC控制器的输出端，可以节约大量的人力，防止清洁液对工人身体造成不良影响，流动的水可以及时将清理出来的残渣带走，防止在清理完成后附着在硅板上。
技术研发人员：陈忠海
受保护的技术使用者：苏州德瑞姆超声科技有限公司
技术研发日：2017.11.27
技术公布日：2018.07.13