1.一种分析仪用清洗装置，其特征在于：包括清洗池，所述清洗池包括内筒体和外筒体，所述内筒体上设有贯穿的中心孔，所述内筒体外套设所述外筒体，所述外筒体上设有注入清洗液的进水口，所述内筒体与外筒体之间设有供清洗液流通的间隙，所述内筒体上设有至少一组的进水孔，每组所述进水孔呈螺旋线布置。
2.根据权利要求1所述的分析仪用清洗装置，其特征在于：所述进水孔有四组，四组所述进水孔均匀分布于内筒体圆周上，各组所述进水孔所沿螺旋线的螺旋升角为55°～65°。
3.根据权利要求1所述的分析仪用清洗装置，其特征在于：所述进水口有两个，两所述进水口相对设置。
4.根据权利要求1～3中任意一项所述的分析仪用清洗装置，其特征在于：所述内筒体包括外径依次减小的第一台阶、第二台阶、第三台阶和第四台阶，所述第一台阶的底部与外筒体的顶部紧贴。
5.根据权利要求4所述的分析仪用清洗装置，其特征在于：所述第二台阶上安装有第一密封圈，所述第四台阶的顶部安装有第二密封圈，所述进水孔设于第三台阶上。
6.根据权利要求4所述的分析仪用清洗装置，其特征在于：所述第四台阶上设有接头。
7.根据权利要求1所述的分析仪用清洗装置，其特征在于：所述内筒体的中心孔顶部设有漏斗形的导向口。