一种机器人制样用自动压片机的清扫组件的制作方法

文档序号:20542680发布日期:2020-04-28 19:50阅读:122来源:国知局
一种机器人制样用自动压片机的清扫组件的制作方法

本实用新型涉及一种机器人制样用自动压片机的清扫组件。自动压片机主要用于xrf分析以及libs煤质分析中用到的粉状样品压片机。清扫装置是避免压片机反复压片过程中与样品直接接触的模具沾染物料,导致交叉污染的装置。



背景技术:

矿石及煤炭定量分析过程之中,常将物料制成粉状样品以提高样品的代表性。x射线荧光分析(xrf)过程中,对于粉状样品常见做法是把粉状样品压制成样片进行分析。激光诱导击穿光谱分析(libs)技术近年来也常用于煤质快速分析之中,与xrf分析类似的是,该技术要求将粉状样品压制成样品片。现有常用技术是由实验人员操作压片机完成压片,清扫等动作。机器人自动检测技术兴起要求有自动化程度更高的压片装置代替人工。而自动压片的过程中由于没有实验员对所用装置进行清扫,常常造成不同样品交叉污染,直接影响测试结果准确性的问题。机器人制样过程中,一种自动压片机清扫装置也就成为实现实验室自动化的当务之急。



技术实现要素:

根据现有机器人制样技术的客观需求,本实用新型提供一种自动压片机清扫组件,其特征是由支板,立板,旋转清扫机构,下限位装置,导向轴,清扫升降气缸,上限位装置组成。

所述的旋转清扫装置由可以旋转的毛刷和固定的风管组成,风管设在外壳之上,毛刷则有的旋转电机带动旋转清扫。

所述的立板和支板其特征是,立板与支板构成的框架内构成了主要的工作空间,支板有一定厚度,支板之上有冲孔用以安装导向轴。立板的特点是设有镂空孔,节省材料的同时不影响整体功能。

所述的导向轴,其特点由两根主要为圆柱状结构组成,安装于支板之上的冲孔内,导向轴在支板的上方部分设有两个直径大于冲孔的圆环,用以限制导向轴向下运动的极限位置,成为下限位装置,是两个限位装置之一。

所述的限位装置其特征是,由下限位装置和上限位装置组成,上限位装置安装于立板一侧,用以限制清扫装置上升的最高位置。

所述的旋转清扫装置由硬毛刷和风管组成,其特征是,毛刷由传动装置带动可以旋转,风管设置与静止的外壳之上,喷出高压风。

所述的升降气缸,其特点是固定在支板之上,下方可动部分连接在旋转清扫装置之上,可控制旋转清扫装置位置的上下。

附图说明

图1为该实用新型的结构示意图

支板,2-立板,3-旋转清扫机构,4-下限位装置,5-导向轴,6-清扫升降气缸,7-上限位装置。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实例中的附图,对本实用新型实例中的技术方案进行清楚、完整地描述。所描述的实例仅仅是本实用新型的一部分实例,而不是全部的实例。基于本实用新型中的实例,本领域其他人员在没有做出创造性改变前提下所获得的所有其他实例,都属于本实用新型保护的范围。

压片完成后模具移动到旋转清扫机构3正下方,清扫升降气缸6将旋转清扫机构3推下,清扫机构向下行程由下限位装置4控制。旋转清扫机构3上的毛刷伸入模具之内,传动机构带动旋转清扫机构3上的毛刷旋转,与此同时旋转清扫机构3上的风管开始吹高压风,将扫下的黏附在模具上的物料吹开。

清扫完成后,清扫升降气缸6带动所连接的旋转清扫装置向上升起,风管停止吹风。升起的行程由上限位装置7限制。



技术特征:

1.一种机器人制样用自动压片机的清扫组件,其特征是,由支板、立板、旋转清扫机构、下限位装置、导向轴、清扫升降气缸和上限位装置组成;所述导向轴由两根主要为圆柱状结构组成,安装于支板之上的冲孔内,导向轴在支板的上方部分设有两个直径大于冲孔的圆环,用以限制导向轴向下运动的极限位置,称为下限位装置,是两个限位装置之一,所述升降气缸,固定在支板之上,下方可动部分连接在旋转清扫装置之上,可控制旋转清扫装置位置的上下。

2.根据权利要求1所述的机器人制样用自动压片机的清扫组件,其特征在于,旋转清扫装置由可以旋转的毛刷和固定的风管组成,风管设在外壳之上,毛刷则有的旋转电机带动旋转清扫。

3.根据权利要求2所述的机器人制样用自动压片机的清扫组件,其特征在于,所述下限位装置设有固定和调节装置,其在导向轴上的上下位置可调。

4.根据权利要求1所述的机器人制样用自动压片机的清扫组件,其特征在于,所述旋转清扫装置由硬毛刷和风管组成,毛刷由传动装置带动可以旋转,风管设置与静止的外壳之上,喷出高压风。

5.根据权利要求4所述的机器人制样用自动压片机的清扫组件,其特征在于,所述毛刷可拆卸可刚换,轴向直径可为10mm-70mm。


技术总结
本实用新型公开了一种机器人制样用自动压片机的清扫组件,包括支板,立板,旋转清扫机构,下限位装置,导向轴,清扫升降气缸,上限位装置组成。本实用新型是用于XRF和LIBS粉状矿物样品分析过程中,自动压片装置的一部分,主要用于压片完成之后模具之上残留黏附样品的清扫,避免下次压片的时候产生交叉污染影响样品分析结果。

技术研发人员:邵曙光;李松;王晓强;李鹏峰;倪琳;王智法
受保护的技术使用者:邵曙光
技术研发日:2019.05.29
技术公布日:2020.04.28
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