玻璃基板清洗装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明属于清洗技术领域，尤其涉及一种玻璃基板清洗装置。
【背景技术】
[0002]液晶显示器(英语:Liquid Crystal Display,缩写:LCD)为平面薄型的显示设备，由一定数量的彩色或黑白像素组成，放置于光源或者反射面前方。液晶显示器功耗低，因此倍受工程师青睐，适用于使用电池的电子设备。
[0003]随着技术的发展，IXD已被广泛使用，因此市场对IXD的生产效率和生产质量的要求也随之提高。玻璃基板是LCD的主要组成部件，其上镀有一层氧化铟锡(ITO)膜，它用于作为LCD的电极，ITO层的洁净度对LCD的良品率和可靠性影响极大，因此，在生产LCD时，需要对玻璃基板进行清洗，清除附于上面的污垢和异物。现有技术对玻璃基板的清洗通常是采用刷洗、超声波和喷淋的方式，这些方式的清洗效果并不佳，而且在清洗过程中还容易擦碰玻璃基板，损坏其ITO层，最终影响LCD的质量。
【发明内容】
[0004]本发明的目的在于克服现有技术之缺陷，提供了一种能够有效清除玻璃基板两面上异物的玻璃基板清洗装置。
[0005]本发明是这样实现的，一种玻璃基板清洗装置，包括:
[0006]清洗箱，其具有空腔，所述空腔内设有隔板，所述隔板将所述空腔分隔为可容纳工作液体的工作槽以及用于容纳从所述工作槽内溢出的工作液体的排液槽，所述隔板上设有用于调节所述工作槽内工作液体液位的溢出孔，所述溢出孔贯通所述工作槽与所述排液槽；
[0007]超声波发生器，其设于所述清洗箱外；
[0008]上振板及下振板，其用于发射超声波使工作液体产生空化气泡，所述上振板及所述下振板均与所述超声波发生器电气连接，所述下振板设于所述工作槽底部，所述上振板设于所述工作槽内且位于所述下振板上方，所述上振板与所述下振板之间的间隙形成容待清洗玻璃基板通过的通道；
[0009]传送机构，其用于传送所述待清洗玻璃基板，所述传送机构设于所述通道内；
[0010]循环补液系统，其用于为所述工作槽提供工作液体，用于回收所述排液槽内的工作液体，所述循环补液系统与所述清洗箱连接。
[0011]进一步地，所述玻璃基板清洗装置还包括用于为所述工作槽补充工作液体且为所述待清洗玻璃基板提供压力流的补液刀，所述补液刀设于所述工作槽内且位于所述上振板的侧面周围，所述补液刀与所述循环补液系统连接且设有射出工作液体流的喷液口，所述喷液口竖直朝下。
[0012]更进一步地，所述工作槽内设有两个所述上振板，两所述上振板成间距并排设置，两所述上振板之间的间隙设有所述补液刀。
[0013]优选地，所述工作槽内设有两个所述上振板，两所述上振板并排设置。
[0014]具体地，所述传送机构包括多个上滚轴及多个下滚轴，多个所述下滚轴成间距平行排列设置且位于所述下振板之上，多个所述上滚轴成间距平行排列设置且位于所述上振板与所述下滚轴之间。
[0015]更具体地，所述玻璃基板清洗装置还包括用于调节所述上振板高度位置的调节件，所述调节件设于所述清洗箱的内壁，所述上振板设于所述调节件上。
[0016]进一步地，所述隔板上设有用于调节所述溢出孔大小和高度的调节板，所述调节板设于所述溢出孔下方。
[0017]更具体地，所述清洗箱的空腔内设有两个所述隔板，两个所述隔板平行相对设置并将所述空腔分隔为一个所述工作槽及两个所述排液槽，两个所述排液槽分别位于所述工作槽两侧。
[0018]具体地，其中一个所述隔板上设有容所述待清洗玻璃基板由所述排液槽进入所述工作槽的入料口，另一个所述隔板上设有容所述待清洗玻璃基板由所述工作槽输出至所述排液槽的出料口，所述入料口与所述出料口相对设置。
[0019]进一步地，所述玻璃基板清洗装置还包括机架，所述清洗箱、所述超声波发生器及所述循环补液系统均设于所述机架上；所述循环补液系统包括储液箱、管道组、过滤器及水泵，所述过滤器及所述水泵均设于所述储液箱外，所述储液箱通过所述管道组与所述清洗箱连接。
[0020]本发明所提供的玻璃基板清洗装置具有以下技术效果:
[0021]本发明借助空化气泡破裂能够瞬间产生巨大能量的原理，通过设置能够使工作液体产生空化气泡流的上振板和下振板，保证从上振板与下振板之间通过的待清洗玻璃基板两面均能受到空化气泡流的冲击，使得玻璃基板表面上的污垢和异物能够有效地被清除。另外，由于本发明采用超声波空化的原理清除污垢和异物，其还具有占用空间小、清除能力强、效率高等优点。上振板和下振板浸泡于工作液体中，其还有利于振板的散热。
【附图说明】
[0022]图1为本发明实施例中玻璃基板清洗装置的内部结构示意图。
【具体实施方式】
[0023]为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
[0024]参见图1，本发明实施例提供了一种玻璃基板清洗装置，包括:
[0025]清洗箱1，其具有空腔，所述空腔内设有隔板11，所述隔板11将所述空腔分隔为可容纳工作液体的工作槽12以及用于容纳从所述工作槽内溢出的工作液体的排液槽13，所述隔板11上设有用于调节所述工作槽12内工作液体液位的溢出孔111，所述溢出孔111贯通所述工作槽12与所述排液槽13 ；
[0026]超声波发生器2，其设于所述清洗箱I外；
[0027]上振板3及下振板4，其用于发射超声波使工作液体产生空化气泡，所述上振板3及所述下振板4均与所述超声波发生器2电气连接，所述下振板4设于所述工作槽12底部，所述上振板3设于所述工作槽12内且位于所述下振板4上方，所述上振板3与所述下振板4之间的间隙形成容待清洗玻璃基板5通过的通道15 ；
[0028]传送机构6，其用于传送所述待清洗玻璃基板5，所述传送机构6设于所述通道15内；
[0029]循环补液系统7，其用于为所述工作槽12提供工作液体，用于回收所述排液槽13内的工作液体，所述循环补液系统7与所述清洗箱I连接。
[0030]清洗玻璃基板时，清洗箱内的工作槽12首先注入工作液体(工作液体可为水或者其他化学液体)，工作液体达到一定高度时(在本发明实施例中，工作液体淹没上振板3及下振板4)，多余的工作液体由溢出孔111流入排液槽13内；上振板3及下振板4发射超声波，使工作液体产生空化气泡；待清洗玻璃基板5镀有氧化铟锡(ITO)膜的一面朝上，通过传送机构6传送通过通道15，待清洗玻璃基板5上下两面均受到空化气泡流的轰击/冲击，空化气泡撞击到待清洗玻璃基板5表面时迅速破裂(急剧崩溃)，瞬间释放出巨大的能量，将待清洗玻璃基板5表面的污垢祛除，从而达到清洗玻璃基板的效果。由于清洗时玻璃基板穿过上振板和下振板所形成的通道15，其犹如穿过隧道，因此本发明亦可形象地称为“隧道式玻璃基板清洗装置”。
[0031]本发明借助空化气泡破裂能够瞬间产生巨大能量的原理，通过设置能够使工作液体产生空化气泡流的上振板3和下振板4，保证从上振板3与下振板4之间通过的待清洗玻璃基板5两面均能受到空化气泡流的冲击，使得玻璃基板表面上的污垢和异物能够有效地被清除。另外，由于本发明采用超声波空化的原理清除污垢和异物，其还具有占用空间小、清除能力强、效率高等优点。上振板和下振板浸泡于工作液体中，其还有利于振板的散热。
[0032]本发明实施例所提供的玻璃基板清洗装置还可以包括用于为所述工作槽12补充工作液体且为所述待清洗玻璃基板5提供压力流的补液刀8，所述补液刀8设于所述工作槽12内且位于所述上振板3的侧面周围，所述补液刀8与所述循环补液系统7连接且设有射出工作液体流的喷液口 81，所述喷液口 81竖直朝下。加设补液刀8，一方面可以为工作槽12补充工作液体，使液位保持在合适的高度，另一方面，补液刀8射出的液体流冲击待清洗玻璃基板5，待清洗玻璃基板5获得紧贴传送机构6的压力，使得它能够更稳定地穿过通道15。
[0033]为了便于对清洗箱I内部进行维护，所述工作槽12内设有两个所述上振板3，两所述上振板3成间距并排设置，两所述上振板3之间的间隙设有所述补液刀8。如图1所示，上振板3的体积较下振板4小，两块上振板3并排后的宽度与下振板4的宽度相当，可以理解，上振板3的重量也较小，这样，在保证待清洗玻璃基板5的两面能够受到平衡的空化气泡流的冲击的同时，还便于上振板3的装卸，便于操作人员对清洗箱I内部的维护。两上振板3之间的间隙也加设补液刀8，使得待清洗玻璃基板5受到的压力更均匀。
[0034]当然，所述工作槽12内也可仅设有两个所述上振板3，两所述上振板3并排设置，而不在它们之间加设补液刀。
[0035]作为本发明关于传送机构6的一种实施方式，