一种清洗液供给装置及清洗液供给方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及基板的制作领域，特别是一种清洗液供给装置及清洗液供给方法。
【背景技术】
[0002]目前，为提高显示面板的良品率，在制造过程中，经常需要对基板进行清洗，以去除基板表面附着的异物。对于大型生产线，清洗基板需要使用大量的清洗液，为节约能源、降低成本，需要对使用完的清洗液进行循环利用。
[0003]但是，清洗液在长时间循环利用后，质量会变得越来越差，不仅在清洗过程中可能会对基板产生损伤，甚至还会使整个清洗装置的水箱残留异物，导致后续即便更换新的清洗液也会受到影响。
[0004]为此，当前亟需一种合理循环利用清洗液的机制。
【发明内容】
[0005]本发明要目的是提供一种在不影响基板清洗效果的前提下，能够循环使用清洗液的技术方案。
[0006]为解决上述目的，一方面，本发明的实施例提供一种清洗液供给装置，包括:
[0007]用于存放清洗液的水箱、输送管路、回收管路、质量检测器、水箱清洁器以及控制器;
[0008]所述水箱的输出端通过所述输送管路与用于清洗基板的清洗室的输入端连接，从而通过该输送管路向清洗室输送清洗液；所述水箱的输入端通过所述回收管路与所述清洗室的输出端连接，从而通过该回收管路回收清洗室使用后的清洗液；
[0009]所述质量检测器用于对所述水箱的清洗液进行质量检测，并生成一检测结果；
[0010]其中，若所述检测结果不符合预设要求，则所述控制器用于关闭所述输送管路以及回收管路，并控制所述水箱清洁器对所述水箱进行清洁。
[0011]其中，所述水箱由透明材料制成；
[0012]所述水箱清洁器包括:
[0013]分解液添加单元，用于向所述水箱添加碱性溶液；
[0014]紫外光照射单元，用于对所述水箱进行紫外光照射，使水箱中的碱性溶液能够分解水箱中的有机残留物。
[0015]其中，所述清洗液供给装置还包括:
[0016]与所述水箱连接的排水管路；
[0017]在所述水箱清洁器对所述水箱进行清洁后，所述水箱中剩余的清洗液从所述排水管路排出。
[0018]其中，所述清洗液供给装置还包括:
[0019]清洗液添加器；
[0020]所述控制器还用于在所述水箱中剩余的清洗液从所述排水管路排出后，控制所述清洗液添加器向水箱添加新的清洗液。
[0021]其中，所述输送管路、回收管路和排水管路均设置有由所述控制器控制的开关阀。
[0022]其中，所述水箱包括:第一缸体、第二缸体、第一活塞、第二活塞、活塞杆以及电机；
[0023]所述第一活塞设置在所述第一缸体内部，形成一存放清洗液的第一腔室，所述第二活塞设置在所述第二缸体内部，形成一存放清洗液的第二腔室；所述第一活塞和所述第二活塞固定在所述活塞杆的两端，所述活塞杆由所述电机驱动，从而能够沿第一腔室和第二腔室的轴向进行滑动；
[0024]其中，所述第一腔室和第二腔室均设置有与所述输送管路连接的输送口，以及与所述回收管路连接的回收口。
[0025]其中，所述清洗液供给装置还包括:
[0026]循环管路；
[0027]所述第一腔室和第二腔室通过所述循环管路连通，所述循环管路上设置有开关阀，所述控制器在控制所述水箱清洁器对所述水箱进行清洁时，开启所述循环管路上的开关阀，并在所述水箱清洁器对所述水箱清洁完成后，关闭所述循环管路上的开关阀。
[0028]其中，所述电机为脉冲式步进电机，由所述控制器控制工作。
[0029]其中，所述清洗液供给装置还包括:
[0030]设置在所述输送管路上的自由基产生器，用于使所述水箱向所述清洗室输送的清洗液产生自由基。
[0031]另一方面，本发明还提供一种清洗液供给方法，包括:
[0032]控制存放有清洗液的水箱向用于清洗基板的清洗室输送清洗液，以及控制所述水箱回收所述清洗室使用后的清洗液；
[0033]对水箱向清洗室输送的清洗液进行质量检测，得到一检测结果；
[0034]若所述检测结果不符合预设要求，则控制水箱停止向所述清洗室输送清洗液，以及回收所述清洗室使用后的清洗液，并控制水箱清洁器对所述水箱进行清洁。
[0035]本发明的上述技术方案的有益效果如下:
[0036]本发明的方案能够对水箱中循环使用的清洗液进行质量检测，若质量不达标，则及时停止清洗液输送到清洗室，从而避免影响基板的清洗效果。此外，在清洗液质量下降后，还能及时清理存放清洗液的水箱，从而保证后续更换新的清洗液时，不会因水箱而影响质量。
【附图说明】
[0037]图1为本发明的清洗液供给装置的结构示意图；
[0038]图2为本发明的清洗液供给装置的详细结构示意图；
[0039]图3为本发明的清洗供给方法的步骤示意图。
【具体实施方式】
[0040]现有的基板清洗装置需要消耗大量的清洗液，因此会存在资源浪费的问题。有鉴于此，本发明提供了一种清洗液供给装置，可循环为基板的清洗室提供清洗液，并保证清洗液的质量，确保在清洗过程中清洗液不会对基板产生损伤。
[0041]为使本发明要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。
[0042]参考图1，本发明实施例的清洗液供给装置包括:
[0043]用于存放清洗液的水箱1、输送管路(水箱I至清洗基板的清洗室5的管路)、回收管路(清洗室5至水箱的管路)、质量检测器2、水箱清洁器3以及控制器4 ;
[0044]水箱I的输出端12通过所述输送管路与清洗室5的输入端51连接，从而通过该输送管路向清洗室5输送清洗液；水箱I的输入端11通过回收管路与清洗室5的输出端52连接，从而通过该回收管路回收清洗室5使用后的清洗液；
[0045]质量检测器2用于对水箱I的清洗液进行质量检测，并生成一检测结果；该检测结果发送至控制器4 ;
[0046]其中，若检测结果不符合预设要求，则控制器4用于关闭输送管路以及回收管路，并控制水箱清洁器3对水箱I进行清洁。
[0047]本发明的实施例能够对水箱中循环使用的清洗液进行质量检测，若质量不达标，则及时停止清洗液输送到清洗室，从而避免影响基板的清洗效果。此外，在清洗液无法使用后，还能及时清理存放清洗液的水箱，从而保证后续更换新的清洗液时，不会因水箱而影响质量。
[0048]具体地，基板上的残留物一般为有机物残留物，因此，当不断循环使用清洗后，水箱内部自然会附着有大量的机物残留物。为此，本发明进一步提供一种去除水箱中有机残留物的方案。
[0049]即，本实施例的水箱由透明材料制成；
[0050]上述水箱清洁器具体包括:分解液添加单元和紫外光照射单元。
[0051]分解液添加单元用于向所述水箱添加碱性溶液，如氢氧化钾溶液，使水箱中的清洗液呈碱性。紫外光照射单元用于对所述水箱进行紫外光照射。当碱性溶液在紫外光照射下，能够分解水箱中的有机残留物。
[0052]下面结合一个实现方式，对本实施例的清洗液供给装置进行详细介绍。
[0053]如图2所示，本发明的清洗液供给装置中，水箱I为双活塞结构，具体包括:
[0054]透明的第一缸体1A、透明的第二缸体1B、第一活塞P1、第二活塞P2、活塞杆R以及电机M ;
[0055]第一活塞Pl设置在所述第一缸体IA内部，形成一存放清洗液的第一腔室IAl。第二活塞P2设置在第二缸体IB内部，形成同样可以存放清洗液的第二腔室IBl ;第一活塞Pl和第二活塞P2固定在活塞杆R的两端，活塞杆R由电机M驱动，从而能够沿第一腔室IAl和第二腔室IBl的轴向进行滑动。
[0056]其中，第一腔室IAl和第二腔IBl室均设置有与输送管路8连接的输送口。在实际应用中，上述电机M可以是脉冲式步进电机。当第一腔室IAl和第二腔IBl向清洗室5输送清洗液前，控制器4先向设置在输送管路8上的质量检测器2获取清洗液的检测结果。若检测结果符合预设要求，则控制器4开启在输送管路8上的开关阀A，之后根据清洗需求控制脉冲式步进电机工作，从而精确驱动活