专利名称：用于低蒸汽压力化学制品的容器的可清洗歧管的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种用于拆卸化学制品输送系统的容器的低死区易于清洁的歧管，并且特别涉及一种用于将高纯度或超高纯度的化学制品输送至使用位置(如半导体制造设施或用于化学沉积的工具)的设备。虽然本发明可具有其它用途，但是其特别适用于半导体的制造。
背景技术：
半导体制造者要求用于制造工艺的化学制品至少具有一高纯度，以避免在半导体装置的制造中产生缺陷。用于集成电路制造的化学制品通常必须具有超高纯度以允许实现满意的生产合格率。由于集成电路的尺寸已减小，因此，保持原始化学制品纯度的要求有所提高。
一种用于集成电路制造的超高纯度的化学制品为四(二甲基氨基)钛(TDMAT)。TDMAT广泛地用于集成电路制造的操作，如化学气相淀积(CVD)，以形成钛和氮化钛膜，以及阻挡层。
集成电路的制造者通常要求TDMAT具有99.99+％，最好为99.999999+％8-9’s+％的纯度。这种高纯度是保持满意的生产合格率所必需的。还需要使用特定的设备来存储高纯度或超高纯度TDMAT并且将所述TDMAT供给至CVD反应腔中。
如TDMAT这样的高纯度或超高纯度化学制品是从一大容积化学制品供给系统输送至一使用点，如半导体制造设施或工具。在美国专利NO.5,590,695(Seigele等人)中披露了一种用于高纯度化学制品的供给系统，其使用了两个截断阀组件76和91，但是不利于迅速、清洁的分离。(相关专利包括美国专利NO.5,465,766；5,562,132；5,607,002；5,711,354；5,878,793以及5,964,254)。该系统包括一个装有一低压排放阀和一载体气体隔离阀的截断阀组件，同时另一个截断阀组件装有一个容器旁通阀以及一个处理隔离罐旁通阀。所述截断阀组件既不是串联的，也不能用于使容器与歧管的分离。
在美国专利NO.5,964,230和美国专利6,138,691中均披露了用于从处理管道中除去低蒸汽压化学制品的溶剂清洗系统。这些系统可能会另外增加清洗的复杂性并且会增大必须处理的材料量。
低死区联接器是已知的，例如可由美国专利NO.6,161,875得知。
在半导体工业中认为TDMAT是一种低蒸汽压力、高纯度化学制品，因此，在工艺管线断开或更换处理容器时会产生特殊的问题，即在所述拆卸之前必须清洁管线。在清洁管线或管道时产生显著的延时在晶片处理设施的产量上是不利的，其中，价格昂贵的工具以及价格昂贵晶片的大批量处理(每一晶片均含有上百条集成电路)均要求进行快速处理并避免用于清洁或更换处理容器的脱机时间过长。
本发明更特别涉及的领域为在需要低蒸汽压力、高纯度化学制品的电子工业以及其它应用中有关过程化学制品(process chemical)的输送。本发明更特别涉及在利用低蒸汽压力、高纯度化学制品进行处理时，对过程化学制品的供给管线、容器和相关设备、特别是在这些过程化学制品供给管线中更换过程化学制品或更换过程化学制品容器期间进行迅速、彻底清洁的设备。
已通过对过程化学制品管线进行排空和气体清洗来用于从供给管线中除去剩余的化学制品。真空抽吸以及惰性气体清洗均能成功地迅速除去高挥发性的化学制品，但是对于低挥发性的化学制品而言则不是有效的。另外，在抽出高毒性材料时，还存在安全性问题。
已建议使用溶剂来除去剩余化学制品，以便在需要拆卸管线以便为了进行再填充或维护而更换容器时，能够从处理管线中除去低蒸气压力的化学制品。但是，溶剂系统结构复杂并且需要一个溶剂源和一个对发挥清洁功能后的污染溶剂进行处理的装置。
如以下更全面所述那样，本发明在清洗和清洁用于低蒸汽压力化学制品的化学制品处理管线中能够克服现有技术中的问题，同时无需加压气体和真空的长清洗周期。
发明内容
本发明涉及于一种用于在高纯度化学制品输送系统中输送低蒸汽压力、高纯度化学制品的可清洗歧管，其包括(a)一用于存储大量所述低蒸汽压力、高纯度化学制品的第一容器，其具有至少两个能够接收或分配所述低蒸汽压力、高纯度化学制品的口；
(b)一用于可拆卸地将所述第一容器连接至所述低蒸汽压力、高纯度化学制品源上的一个点或分配点的第一管道，所述第一管道具有一个第一端和一个第二端，以及一个用于使所述第一管道的所述第一端与所述第一管道的所述第二端分离的第一低死区联接器；(c)一第一截断膜片阀组件，该组件具有第一和第二膜片阀，每一个膜片阀均具有一个膜片且具有一个阀座侧和一个膜片侧，其中，每一膜片阀的阀座侧均与另一个膜片阀的另一个阀座侧并置，每一膜片阀的每一个阀座侧均使低蒸汽压力、高纯度化学制品与所述第一管道的所述第一端保持流动连通，且所述第一膜片阀的所述膜片侧与所述至少两个口中的第一口保持流动连通，所述第二膜片阀的所述膜片侧与一根管道保持流动连通，该管道能够实现从由一推动气体源和一排气源构成的组中选择的功能；(d)一第二截断膜片阀组件，该组件具有第三和第四膜片阀，每一个膜片阀均具有一个膜片且具有一个阀座侧和一个膜片侧，其中，每一膜片阀的阀座侧均与另一个膜片阀的另一个阀座侧并置，每一膜片阀的每一个阀座侧均与所述第一管道的所述第二端保持流动连通，且所述第三膜片阀的所述膜片侧与一根管道保持流动连通，该管道能够实现由一清洗气体源和一真空源构成的组中选择的功能，并且所述第四膜片阀的所述膜片侧与一根管道保持流动连通，该管道能够实现由一推动气体源，一起泡气体源和一用于低真空压力、高纯度化学制品的分配器构成的组中选择的功能；(e)所述第二口与所述第一容器保持流动连通，并能够实现由将推动气体输送至所述第一容器与将低真空压力、高纯度化学制品分配在来自所述第一容器的推动气体中所组成的组中选择的功能。
附图的简要描述
图1为本发明第一实施方案的示意图，其在容器的入口和出口上具有几组截断膜片阀组件。
图2a为用于本发明各实施方案的具有两个膜片阀的截断阀组件的局部剖面图。
图2b为图2a中截断膜片阀组件的等角分解视图，其显示了从块体上拆除的膜片和气动促动器。
图3为用于本发明第一管道的低死区连接器的局部剖面图。
图4为本发明第二实施方案的示意性隔离视图，其仅显示了带有不具有排放功能的两个截断膜片阀组件的容器的一个口。
图5为本发明第三实施方案的示意性隔离视图，其仅显示了带有具有排放功能的两个截断膜片阀组件的容器的一个口。
图6为本发明第四实施方案的示意性隔离视图，其仅显示了带有具有溶剂功能但不具有排放功能的两个截断膜片阀组件的容器的一个口。
图7为本发明第五实施方案的示意性隔离视图，其仅显示了带有具有溶剂功能并具有排放功能的两个截断膜片阀组件的容器的一个口。
具体实施例方式
本发明提供了一种易于清洁和清洗的歧管，其用于向一处理容器或从一处理容器分配或输送低蒸气压力、高纯度化学制品，所述处理容器本身能够将化学制品分配至一个消耗它的处理工具或反应器。本发明的设备特别适于用于半导体工业所使用的工艺化学制品。
虽然本发明的设备适用于低蒸气压力的化学制品，如四(二甲基氨基)钛，但是其也适用于不具有低蒸气压力的化学制品(即具有高蒸气压力的化学制品)，因此其能够用于大批化学制品。
本发明的歧管和化学品输送系统可广泛地用于各种不同的流体，但特别适用于至少具有高纯度的液态化学制品。例如，所述液态化学制品可选自由四乙基原硅酸酯(TEOS)，硼吖嗪，三仲丁醇铝(alumiumtrisec-butoxide)，四氯化碳，三氯乙烷，三氯甲烷，三甲基亚磷酸酯，二氯乙烯，三甲基硼酸酯，二氯甲烷，正丁醇钛，二乙基硅烷，六氟乙酰丙酮-铜(1)三甲基乙烯基硅烷，异丙氧化物，磷酸三乙酯，四氯化硅，乙氧基钽，四(二乙基氨基)钛(TDEAT)，四(二甲基氨基)钛(TDMAT)，双-叔丁氨基硅烷，硼酸三乙酯，四氯化钛，磷酸三甲酯，三甲基原硅酸酯，乙氧基钛，四甲基-环-四硅氧烷，正丙醇钛，三(三甲基甲硅烷氧基)硼，异丁氧基钛，三(三甲基甲硅烷)磷酸酯，1，1，1，5，5，5-六氟-2，4-戊二酮，四甲基硅烷及它们的混合物中选择。
下面参照一个特定的实施方案说明一种用于本发明的化学制品输送系统的可清洗歧管，所述特定的实施例在从处理容器输送低蒸气压力，高纯度化学制品并随后将其输送至一半导体制造处理工具时，用于处理作为所述化学制品的TDMAT。
在鼓泡器中，使液态化学制品夹带在压缩气体，鼓泡器气体或载体气体中，这些气体在液态化学制品保存在处理容器中时，通过一根在化学制品表面之下将加压气体导入液态化学制品内的浸入管在液态化学制品中产生起泡。加压气体能够夹带或蒸发一部分化学制品并且蒸汽经与处理工具连通的出口与加压气体一起排出。
化学制品的输送也可通过蒸汽抽吸实现，其中，对处理容器的出口作用一定真空以便使化学制品在真空条件下蒸发并且经出口排出。利用或无需由从入口导入处理容器内的推动气体产生的正气体压力的助推作用，均可实现这种蒸汽吸引。
也可在向处理工具进行液体输送中使用本发明，其中，处理容器通过加压气体或推动气体在处理容器中化学制品顶部空间或液面上的作用，可以将排出浸入管的液态化学制品输送至处理工具(直接液体喷射或DLI)。
加压气体可以是任意的惰性气体，如氮，氩，氦或稀有气体。
在这些管道脱机及接受清洗或要除去剩余的化学制品时，可利用清洗气体清洗处理管道或管线。
参见图1，一种高纯度化学制品输送系统说明了本发明中一种具有低死区及最小润湿表面面积设备的使用。图1的截断膜片阀组件的结构与图2a和b详细所示的结构相同且具有与图3所示相同的低死区连接物。容器400可用于从化学制品输送系统输出液体并且经浸入管414，经截断膜片阀组件442，含有低死区联接器444的第一导管，第二截断膜片阀组件448以及化学制品分配管446除去化学制品；或者，作为可选择的方案，也可通过管道446，通过截断膜片阀组件448和442，通过口412，下行浸入管414供给推动或鼓泡气体，其中，所述气体鼓泡流过容器400中所装填的液态化学制品注入物流，以便呈蒸汽通过T形孔416，口410，截断膜片阀组件418，含有低死区联接器432，截断膜片阀组件422和管道420来除去。
在这两种情况下，串联截断膜片阀组件418，422，442和448以及低润湿表面区的管道及其辅助低死区联接器444和432允许容器400在联接器432和444处在与歧管的剩余部分分离的时间远远短于过去低蒸汽压力化学制品设备维护所需的时间。
用于容器400的歧管通过在经管道420向使膜片阀AV5打开并使膜片阀AV6关闭的截断膜片阀组件422供给推动气体、如惰性气体(如氦、氮、或非反应性气体)而在液体输出设备中工作。推动气体经设有联接器432的管道到达截断膜片阀组件418，所述截断膜片阀组件418具有关闭的膜片阀AV2以及打开的膜片阀MV1，以允许推动气体进入口410并排出T-形孔416，以便对容器400中液态化学制品水平面上方的顶部空间加压。这样使能够迫使液态化学制品向上流出浸入管414，流过口412，流过打开的膜片阀MV3并通过关闭的膜片阀AV4，经具有联接器444的第一管道进入膜片阀组件448内，流过关闭的膜片阀AV8，由打开的膜片阀AV7流出达到分配点446，并到达一个下游容器或反应器(如用于电子装置的半导体制造的直流喷射炉)。
仅通过使推动气体经管道446，经相同的阀与管道的布局进行的供给反向，便能以相反的方式使容器400的歧管工作来提供蒸汽化学制品，其中，推动气体从浸入管414流出产生鼓泡并且在蒸汽流中夹带液态化学制品，所述蒸汽流随后流出T-形孔416并注过处于与关于上述组件418和422所述相同状态的打开和关闭的阀，但是蒸汽化学制品是经管道420分配的。
由于利用任意一组与低蒸汽压、高纯度化学制品进行润湿表面接触的截断阀，在液态化学制品输出或蒸汽化学制品输出中均能使用这种歧管结构，因此，其适宜于使真空、清洗气体、排气、甚至上溶剂清洗作用于由组件418和相邻组件以及组件442和相邻组件表示的歧管的两侧。
通过打开阀MV3，关闭阀AV4，关闭阀AV7，打开阀AV8，关闭阀AV12，打开阀AV13，关闭截断膜片阀组件456中的阀AV17以及打开阀AV16以利用高压清洗气体源454推动液态化学制品经口412和浸入管414返回容器400内，可对与口412相结合的歧管进行清洁。随后，清洗气体源454保持在高压下达数分钟以便除去几乎所有的化学制品剩余物。另一种选择方案为关闭阀MV3并打开阀AV4，以便推动剩余的化学制品排出管道434，单向阀438以及出口440。随后，将清洗气体源454保持在高压下达数分钟以便除去几乎所有的化学制品剩余物。接着，关闭阀AV4，关闭阀AV16，并打开截断膜片阀组件452中的阀AV12，以便使歧管的润湿表面区处于真空下。可以关闭阀AV12，打开阀AV4，并随后经打开的阀AV17将溶剂458供给至歧管的润湿表面区，同时经出口440除去任何剩余的化学制品和溶剂(在使用溶剂的情况下)。另外，可反复实施清洗和供给真空，以除去溶剂(在使用溶剂的情况下)并保证使歧管的润湿表面区处于清洁状态。这种情况通常是通过监测利用如关于上述真空循环周期所述那样关闭的适当的阀达到系统中真空阈值水平的时间而确定的。
与上述口410相结合的歧管中的润湿表面区要求在连接件432处脱离之前，通过截断膜片阀组件422进行清理。关闭阀AV12，关闭阀AV15并打开阀AV11，以使与口410相结合的歧管接通真空源424。为了对与口410相结合的歧管的润湿表面区进行适当的清洁，可以进行几个周期的清洗及真空处理。为了能够对具有特别低蒸气压力的化学制品进行更彻底地清除，可通过打开阀AV14，AV10，AV6和AV2并关闭阀AV15，AV11，AV5以及MV1供给溶剂，以便使由溶剂源431流出的溶剂流过与口410相结合的歧管并通过出口440除去溶剂和夹带的化学制品。通常，在进行溶剂清洁后，最好利用关于上述清洗和真空操作所述的阀的操作，反复进行几次清洗和真空处理，以实现对使用了溶剂的歧管进行充分清洁。
为了清楚起见，在以下的表1中利用数序列出了图4中的截断膜片阀组件。
表1第一截断膜片阀组件部件NO.442第二截断膜片阀组件部件NO.448第三截断膜片阀组件部件NO.452第四截断膜片阀组件部件NO.456第五截断膜片阀组件部件NO.418第六截断膜片阀组件部件NO.422第七截断膜片阀组件部件NO.426第八截断膜片阀组件部件NO.430为了清楚起见，在以下的表2中利用数序列出了图4中的膜片阀。
表2
第一膜片阀 部件NO.MV3第二膜片阀 部件NO.AV4第三膜片阀 部件NO.AV7第四膜片阀 部件NO.AV8第五膜片阀 部件NO.AV12第六膜片阀 部件NO.AV13第七膜片阀 部件NO.AV16第八膜片阀 部件NO.AV17第九膜片阀 部件NO.MV1第十膜片阀 部件NO.AV2第十一膜片阀部件NO.AV5第十二膜片阀部件NO.AV6第十三膜片阀部件NO.AV11第十四膜片阀部件NO.AV10第十五膜片阀部件NO.AV14第十六膜片阀部件NO.AV15图2a显示了第一截断膜片阀组件14的更详细结构，其结构与第二截断膜片阀组件20相同(因此未在附图中单独详细显示)。图2a为第一截断膜片阀组件14的局部剖面图，其显示了液态低蒸气压力、高纯度化学制品或第二管道12与第一膜片阀75保持流动连通，所述第一膜片阀75包括膜片74a，该膜片包括一具有凸起侧和凹入侧的柔性金属片，其包括阀的阀座侧以及阀座78a，以及一促动器，该促动器与所示用于阀77的促动器相似。管道12通过孔12a与阀75连通。膜片的膜片侧包括在关闭条件下的在膜片74a的凹面，芯体88的底部以及阀座78a表面之间的剖面为三角形的区域。阀座78a接合膜片74a的凹入侧并允许液态低蒸气压力、高纯度TDMAT在膜片与阀座78a分离时，能够通过阀到达短通道76，随后到达与第二截断阀组件20相连的管道16，并且最终在分配点110处进行化学制品的分配。膜片74a可由任意装置，如手动促动器，电子螺线管，液压驱动或最好为所说明的气动促动器(如所说明那样用于截断膜片阀组件14的其它膜片)驱动。
通过管道18以及包括膜片74、阀座78、促动器联接器70、促动器电枢80、液压促动器68、偏压弹簧82、能够通过电枢80和气动源86对阀驱动输送气动压力的波纹管或活塞84的第二膜片阀77向第一管道16提供清洗气以及可加压的气体。通过源86以及经孔83与波纹管84连通的电枢80中的同轴通道向波纹管84提供气动气体。通过锁定螺母72使气动促动器与膜片接合。第二膜片阀77具有其膜片74的膜片侧以及一阀座侧，正如膜片阀75一样。阀75具有与阀77所述那样相似的促动器结构。
本发明的膜片阀的阀座侧能够存留低蒸汽压液态化学制品的死区或容积非常小。另外，使膜片阀75和77在它们的阀座侧彼此并置并且经在截断膜片阀组件14底座的整体块穿孔伸出的非常短的通道76与管道16相连。由于这两个阀具有这种理想的结构，因此，在无需辅助手段，如溶剂的情况下，通过作用顺序加压气体和真空便能清洗第一管道16。与在为了维护或更换容器10而拆卸管道之前，需要几个小时至几天的时间才能使管道中的剩余化学制品达到规定水平的现有技术的系统相比，利用顺序加压气体和真空、以较短间隔(如几分钟)便能实现清洁。
膜片阀的阀座侧包括这样的阀部分，该阀部分通过短通道(如76)与公共管道(如16)直接连通，并且在阀关闭时一直连接至具有膜片凹面的阀座的密封面。膜片阀的膜片侧包括与孔(如12a)连通并且仍在膜片的凹入侧之下的阀座的密封面的另一侧。可以看到膜片阀的膜片侧构成一环状、大致V形剖面空间，该空间可能会被化学制品润湿并构成难以有效、迅速清除所述化学制品的区域。因此，本发明通过使公共管道或第一管道16直接与第一截断阀组件的膜片阀的阀座侧连通，并通过使膜片阀经一非常短的连接件或管道76彼此并置，便能够提供低死区阀结构，其通过在无需使用溶剂或无需延长清洗的情况下施加顺序、反复进行的加压气体和真空作用，便能容易地清洁。
气动促动器68具有一个用于阀动作的加压气体源86。阀77通常是关闭的阀，其通过在导流板84上工作的弹簧82以及按压在膜片77上以接合阀座78的促动器电枢80被偏压至关闭位置。加压空气经一根通过弹簧82中央的同轴管到达促动器电枢80中的一个孔83，该孔在导流板84与弹簧82相反的那一侧。空气压力作用于导流板和弹簧上，以便通过电枢80使膜片77打开并允许化学制品流过阀。这仅说明了几种气动促动器工作方式中的一种方式，并且气动促动器的工作并不是本发明的一个方面，可考虑采用利用气动进行驱动的任何已知方法和设备，并且在实际中可使用非气动驱动，如手动或螺线管驱动。阀75同样设有与68，70，72和86相似的未示出的阀驱动设备。
图2b显示了图2a中截断膜片阀组件的分解透视图，此时显示的是用于阀75的驱动促动器68a。如对作为芯体88的一个阀所图示，膜片阀的位置由单块体材料穿孔形成，所述材料如为陶瓷、塑料(如特氟隆)或其它适当的材料，但最好为如电抛光不锈钢这样的金属。第二管道12的孔12a图示在阀中管道的膜片侧连接。阀座78a给出了阀座78a密封面的阀座侧以及如图所示，从其芯体位置88拆卸出口的膜片74a。气动促动器68a如图所示，具有其气动气体源连接件86a。化学制品源或第二管道12，加压气体/清洗气体源或第三管道18以及至化学制品分配处的公共或第一管道16如图所示，分别从截断膜片阀组件14的整体块伸出。
第二截断膜片阀组件20与图2a所示的第一截断膜片阀组件14相似，由于其是与第一截断膜片阀组件相关的，在这种情况下，对第二截断阀组件20而言，管道16对应于对第一管道16所图示的结构，管道112对应于第二管道12的图示的结构，管道110对应于对第三管道18所示的结构。
在图3中显示了第一死区连接件24。第一管道16的密封面90以一环状锐缘94结束，该锐缘以管道16的密封面89的方向、沿轴向由密封面垂挂，所述管道还具有一个从其密封面垂挂下来的环状锐缘96。这些锐缘94和96均与一环形密封垫片92咬合，所述密封垫片最好采用相对较软的金属以与一个上密封件一起形成低死区连接。压合接头100通过螺纹与环98啮合，以便迫使相应的锐缘与环形软金属垫片92形成密封接合。
图4～7显示了用于控制具有至少两个口的低蒸汽压力、高纯度化学制品容器的歧管的独立部分。为了易于论述，仅描述了以具有化学制品润湿表面为条件的歧管的部分，但应理解容器的第二部分也具有适当的歧管装置。
参见图4，经口510，经在第一截断膜片阀组件541中的第一膜片阀V1，绕过关闭第二膜片阀V2并且经过具有与图3所示结构相似的低死区连接件516的第一管道，如具有一个与组件514相邻的第一端以及一个与组件520相邻的第二端的第一管道，能够由未示出的容器移出化学制品。所述化学制品通过第二膜片阀组件520，通过关闭的第三膜片阀V3并由打开的第四膜片阀V4流出，流至一根能够将化学制品分配至使用或存储点的管道518。
为了清洁润湿表面区以在连接件516处脱离容器，打开第三膜片阀V3，关闭第四膜片阀V4，从源524流出并通过管道522的清洗气体使剩余的化学制品通过口510向下返回至容器内。接着，关闭第一膜片阀V1，打开第二膜片阀V2，以便从管道526以及连接件530除去任何其它的化学制品，进而经一真空源532排出。来自源524的清洗气体在高压下保持开启数分钟，通过打开V2或V1，能够除去化学品残余物。随后，并闭的第三膜片阀V3，并且使歧管的润湿表面区处于由源532产生的真空作用下。通常需要几个快速的清洗和真空循环来实现适当水平的清洁，其通常是通过设定从开始对歧管的润湿表面区实施真空直至达到设定的真空水平所需的时间来确定的。清洗润湿表面所需的常规总体时间远远短于60分钟。为了有助于除去低蒸汽压力化学制品，如通常在本领域已知采用的那样，由适当的加热装置512加热几个截断膜片阀组件或对这些组件进行热跟踪(heat tracing)。
图5显示了一种用于未示出容器的类似的歧管，其中，设有分立的真空源和排气源。经未示出容器的口610除去化学制品。所述化学制品通过第一截断膜片阀组件614中打开的第一膜片阀V1，通过关闭的第二膜片阀V2并通过与图3类似的含有低死区连接件616的第一管道，如具有与第一膜片阀组件614相邻的第一端以及与第二膜片阀组件620相邻的第二端的第一管道。化学制品绕过关闭的第三膜片阀V3并经打开的第四膜片阀V4排出，以便通过一根管道618被分配至一存储或下游使用点。
为了清洁歧管的润湿表面区，关闭膜片阀V4并打开阀V7，以允许清洗气体源624绕过关闭的阀V5并且通过管道622以及打开的阀V3，以便推动剩余的化学制品通过打开的第一膜片阀V1、经口160返回进入容器内。接着，关闭膜片阀V1并且打开膜片阀V2，以允许清洗气体通过管道626，单向阀628，低死区连接件630并且与在流动的清洗气体中夹带的任何剩余的化学制品一起排出出口632。来自源624的清洗气体在高压下保持开启达数分钟，通过打开V2或V1，可除去化学制品残余物。随后，通过关闭膜片阀V2和清洗气体阀V7并打开阀V5，将真空施加在歧管的润湿表面区，以使从膜片阀V1至阀V5的流动通道处于真空源623的影响下。使清洗气体和真空交替循环通过歧管的润湿表面区，直至确定已除去低蒸汽压、高纯度化学制品达到可接受的水平，该水平通常通过确定当实施真空后，在可接受的时间内在歧管的润湿表面区实现真空水平，从而证明不会发生进一步的化学制品的废气排放。清洗润湿表面所需的常规总体时间远小于60分钟。为了进一步促进从歧管的润湿表面区除去低蒸汽压力、高纯度化学制品，可通过工业上熟知的在612处所示适当的加热跟踪或加热室加热截断膜片阀组件。
图6说明了本发明的另一实施方案。用于未示出的容器的歧管从口710延伸至控制液态化学制品分配的管道718的第四膜片阀V4。通过真空管道726，溶剂/清洗管道722以及辅助设备使歧管运行。从未示出的容器、经口710，经第一截断阀组件714中打开的第一膜片阀V1除去化学制品。化学制品通过关闭的第二膜片阀V2以及第一膜片阀组件714和第二膜片阀组件720之间的第一管道，其中第一管道由与图3中类似的低死区连接件716分为一个与组件714相邻的第一端以及一个与组件720相邻的第二端。液态化学制品绕过关增长的第三膜片阀V3并流出打开的第四膜片阀V4，流至一根能够将化学制品分配至存储或使用点的管道718。通过由在第二口处与容器相连接的歧管装置施加作用在容器中化学制品顶部空间的推动气体压力，能够分配化学制品。
为了清洁歧管的润湿表面区，关闭第四膜片阀V4，使推动气体停止流动，并且打开阀V7，以允许清洗气体从管道724流出以使歧管润湿表面区中的剩余化学制品经口710返回容器内。接着，关闭第一膜片阀V1并打开第二膜片阀V2，以允许清洗气体将任何剩余化学制品经管道726和低死区连接件730排放至真空源732。来自源724的清洗气体在高压下保持开启达数分钟，通过打开V2或V1，可除去化学品残余物。通过阀V7的适当打开和关闭，可交替和同时施加清洗气体和真空。在进行几个清洗和真空周期后，如果剩余的化学制品仍保留在歧管的润湿表面区内，则应随后通过关闭阀V7，打开阀V6并保持阀V2打开，向歧管的润湿表面区供给溶剂，以便利用从溶剂源725发出的用于除去剩余化学制品的溶剂清洗歧管的润湿表面区。经过排出/真空源732也可处置溶剂和化学物，所述排出/真空源可包括未示出的适当的消除物(abatement)。在溶剂清洗后，使歧管再受几个周期的清洗气体和真空循环处理。当除去了所有的化学制品时，在低死区连接件730和716处可安全地分离歧管，以便换容器或维持整个歧管的任意部件。为了进一步促进从歧管的润湿表面区除去低蒸汽压、高纯度化学制品，可以通过本领域熟知的如712所示的适当加热跟踪或加热室加热截断膜片阀组件。
图7显示了用于未示出的低蒸汽压、高纯度化学制品容器的另一种歧管设计。通过图1所示的推动气体迫使液态化学制品排出容器，其中所述化学制品通过容器口810，通过第一截断膜片阀组件814中打开的第一膜片阀V1，通过关闭的第二膜片阀V2并通过连接组件814以及第二截断膜片阀组件820的第一管道。如图3所示那样，通过一低死区连接件816将第一管道分为一个与组件814相邻的第一端和一个与组件820相邻的第二端。液态化学制品通过关闭的第三膜片阀V3并且经打开的第四膜片阀V4排至分配管818，以便将化学制品分配至存储或使用点，如CVD炉。
当希望中断化学制品的分配并且为了更换或维护而从歧管上拆下容器时，应关闭第四膜片阀V4并且打开第三膜片阀V3和阀V7，以从管道824将清洗气体导入歧管的润湿表面区，从而迫使剩余的化学制品经口810返回容器内。随后，关闭第一膜片阀V1并打开第二膜片阀V2，以迫使任何剩余化学制品通过排放管道826，单向阀828，低死区连接件830并由排出管道832排出至适当的消除装置(abatement)或容器。来自源824的清洗气体在高压下保持开启达数分钟，通过打开V2或V1，可除去剩余化学制品。随后关闭V7并关闭阀V2，同时打开真空阀V5以使歧管的润湿表面区处于真空源823的影响下，以便进一步除去任何剩余化学制品。这种清洗和真空处理通常是通过几个循环周期实现的。如果化学制品难以清除，则可以关闭阀V5，并且可以通过溶剂管道825和打开的阀V6供给溶剂，其中，溶剂夹带歧管的润湿表面区的剩余的化学制品并且通过打开的阀V2排出以便经排放管道832排出。在溶剂处理后，通常实施几个循环周期清洗气体和真空处理，以清洁剩余化学制品的管线。随后，除了从阀V7流出清洗空气的细流以外，关闭所有的阀，同时，在低死区连接件816处断开管一管道并在低死区连接件830处断开排放管道，以更换容器或进行管道维护，同时不必担心大气组分会形成化学污染，腐蚀或产生有毒的副产品。为了进一步促进从歧管的润湿表面区除去低蒸汽区、高纯度化学制品，可以通过本领域熟知的如812所示的适当加热跟踪或加热室加热截断膜片阀组件。
虽然在未描述容器或其它容器的口或歧管的情况下，已通过局部示意图描述了图4～7的设备，但是应理解图4～7的设备可设想采用图1所示的其它歧管装置。特别的是，通过如图1那样供给的推动气体，经一根浸入管510，610，710或810迫使液态化学制品排出容器。但是，对于图4～7的设备而言，还可设想通过第二截断膜片阀组件的第四膜片阀V4向图4～7中的每一个设备供给推动气体以便将气泡通入未示出的容器内并且从第二口和根据图1中对右手侧歧管所图示构型的歧管除去包括夹带有化学制品的推动气体的蒸汽。
在图1和4～7中，以新月形或弯月形说明了膜片阀，以便能够根据对图2a中方位的描述说明膜片自身以及其膜片侧和其阀座侧的布置。因此，在图1和4～7中的膜片阀的凹面代表了具有一低死区和最小润湿表面区的膜片阀的阀座侧，而图1和4～7中膜片阀的凸侧代表了膜片阀的膜片侧，其具有较大的可能死区和更大的可能润湿表面区，如参照以上图2a所作的描述那样。
与现有技术相比，本发明在通过使用由一低死区连接件连接的两个截断膜片阀组件的组合，由化学制品容器产生的低蒸汽压力、高纯度化学制品分配中提供了独特和意想不到的改进，其中，膜片阀在截断膜片阀组件中具有彼此面对的阀座侧，以便在更换或维护容器时，能提供用于化学制品清洗的最小润湿表面区。利用本发明设备进行的清除已证明干燥时间小于一个小时，而在现有技术中则需要几天。这样便允许电子装置制造者能够将更换或维护的时间降至最小并且使被设计成能使昂贵设备的使用率达到最大，其中所述昂贵设备在可能每个厂要花费超过10亿美金来建造和运行的制造中用于生产电子装置。
虽然已参照几个最佳实施例对本发明进行了说明，但是本发明的整个保护范围应由以下的权利要求确定。
权利要求
1.一种用于在高纯度化学制品输送系统中输送低蒸汽压力、高纯度化学制品的可清洗歧管，其包括(a)一用于存储大量所述低蒸汽压力、高纯度化学制品的第一容器，其具有至少两个能够接收或分配所述低蒸汽压力、高纯度化学制品的口；(b)一用于可拆卸地将所述第一容器连接至所述低蒸汽压力、高纯度化学制品源上的一个点或分配点的第一管道，所述第一管道具有一个第一端和一个第二端，以及一个用于使所述第一管道的所述第一端与所述第一管道的所述第二端分离的第一低死区联接器；(c)一第一截断膜片阀组件，该组件具有第一和第二膜片阀，每一个膜片阀均具有一个膜片且具有一个阀座侧和一个膜片侧，其中，每一膜片阀的阀座侧均与另一个膜片阀的另一个阀座侧并置，每一膜片阀的每一个阀座侧均使低蒸汽压力、高纯度化学制品与所述第一管道的所述第一端保持流动连通，且所述第一膜片阀的所述膜片侧与所述至少两个口中的第一口保持流动连通，所述第二膜片阀的所述阀座侧与一根管道保持流动连通，该管道能够实现从由一推动气体源，一清洗气体源和一排气源构成的组中选择的功能；(d)一第二截断膜片阀组件，该组件具有第三和第四膜片阀，每一个膜片阀均具有一个膜片且具有一个阀座侧和一个膜片侧，其中，每一膜片阀的阀座侧均与另一个膜片阀的另一个阀座侧并置，每一膜片阀的每一个阀座侧均与所述第一管道的所述第二端保持流动连通，且所述第三膜片阀的所述膜片侧与一根管道保持流动连通，该管道能够实现由一清洗气体源和一真空源构成的组中选择的功能，并且所述第四膜片阀的所述膜片侧与一根管道保持流动连通，该管道能够实现由一推动气体源，一起泡气体源和一用于低真空压力、高纯度化学制品的分配器构成的组中选择的功能；(e)所述第二口与所述第一容器保持流动连通，并能够实现选自由将推动气体输送至所述第一容器与从所述第一容器分配推动气体中的低真空压力、高纯度化学制品组成的组中的功能。
2.根据权利要求1所述的歧管，其中所述第二膜片阀的所述膜片侧与一用于高压清洗气体源的管道保持流动连通，所述高压清洗气体用于从润湿表面清洗剩余的低挥发性化学制品以便经容器口或排出口排出或通过真空排除。
3.根据权利要求2所述的歧管，其中所述第三膜片阀的所述膜片侧与一用于真空源的管道保持流动连通。
4.根据权利要求3所述的歧管，其中所述第四膜片阀的所述膜片侧与一用于低蒸汽压力、高纯度化学制品分配的管道保持流动连通。
5.根据权利要求1所述的歧管，其中所述第二膜片阀的所述膜片侧与一用于排气和真空源的管道保持流动连通。
6.根据权利要求5所述的歧管，其中所述第三膜片阀的所述膜片侧与一用于清洗气体的管道保持流动连通。
7.根据权利要求1所述的歧管，其中所述第二膜片阀的所述膜片侧与一用于排气源的管道保持流动连通。
8.根据权利要求7所述的歧管，其中所述第三膜片阀的所述膜片侧与一用于清洗气体和真空的管道保持流动连通。
9.根据权利要求8所述的歧管，其中所述第三膜片并的所述膜片侧与一个同一真空阀源保持流动连通的阀以及一个同一清洗气体源保持流动连通的阀保持流动连通。
10.根据权利要求1所述的歧管，其中所述第三膜片阀的所述膜片侧与一个同一溶剂源保持流动连通的阀以及一个同一清洗气体源保持流动连通的阀保持流动连通。
11.根据权利要求1所述的歧管，其中所述第二膜片阀的所述膜片侧与一用于排气源的管道保持流动连通，而所述第三膜片阀的所述膜片侧与一个同溶剂源保持流动连通的阀，一个与真空源保持流动连通的阀以及一个与清洗气体源保持流动连通的阀均保持流动连通。
12.根据权利要求1所述的歧管，其中所述第一和第二截断膜片阀组件具有一个加热器。
13.一种用于在高纯度化学制品输送系统中输送低蒸汽压力、高纯度化学制品的可清洗歧管，其包括(a)一用于存储大量所述低蒸汽压力、高纯度化学制品的第一容器，其具有至少两个能够接收或分配所述低蒸汽压力、高纯度化学制品的口；(b)一用于可拆卸地将所述第一容器连接至所述低蒸汽压力、高纯度化学制品源上的一个点或分配点的第一管道，所述第一管道具有一个第一端和一个第二端，以及一个用于使所述第一管道的所述第一端与所述第一管道的所述第二端分离的第一低死区联接器；(c)一第一截断膜片阀组件，该组件具有第一和第二膜片阀，每一个膜片阀均具有一个膜片且具有一个阀座侧和一个膜片侧，其中，每一膜片阀的阀座侧均与另一个膜片阀的另一个阀座侧并置，每一膜片阀的每一阀座侧均使低蒸汽压力、高纯度化学制品与所述第一管道的所述第一端保持流动连通，且所述第一膜片阀的所述膜片侧与所述至少两个口中的第一口保持流动连通，所述第二膜片阀的所述阀座侧与一根同一排气和真空源保持流动连通的第二管道保持流动连通，所述第二管道具有一个用于脱离所述第二管道的第一端和第二端的第二低死区联接器；(d)一第二截断膜片阀组件，该组件具有第三和第四膜片阀，每一个膜片阀均具有一个膜片且具有一个阀座侧和一个膜片侧，其中，每一膜片阀的阀座侧均与另一个膜片阀的另一个阀座侧并置，每一膜片阀的阀座侧均与所述第一管道的所述第二端保持流动连通，且所述第三膜片阀的所述膜片侧与一清洗气体源保持流动连通，且所述第四膜片阀的所述膜片侧与一用于低蒸汽压力、高纯度化学制品的分配器保持流动连通；(e)所述第二口与所述第一容器保持流动连通并能够将推动气体输送至所述第一容器。
14.根据权利要求13所述的歧管，其中所述第一和第二截断膜片阀组件具有一个加热器。
15.一种用于在高纯度化学制品输送系统中输送低蒸汽压力、高纯度化学制品的可清洗歧管，其包括(a)一用于存储大量所述低蒸汽压力、高纯度化学制品的第一容器，其具有至少两个能够接收或分配所述低蒸汽压力、高纯度化学制品的口；(b)一用于可拆卸地将所述第一容器连接至所述低蒸汽压力、高纯度化学制品源上的一个点或分配点的第一管道，所述第一管道具有一个第一端和一个第二端，以及一个用于使所述第一管道的所述第一端与所述第一管道的所述第二端分离的第一低死区联接器；(c)一第一截断膜片阀组件，该组件具有第一和第二膜片阀，每一个膜片阀均具有一个膜片且具有一个阀座侧和一个膜片侧，其中，每一膜片阀的阀座侧均与另一个膜片阀的另一个阀座侧并置，每一膜片阀的每一阀座侧均使低蒸汽压力、高纯度化学制品与所述第一管道的所述第一端保持流动连通，且所述第一膜片阀的所述膜片侧与所述至少两个口中的第一口保持流动连通，所述第二膜片阀的所述阀座侧与一根同一排气源保持流动连通的第二管道保持流动连通，所述第二管道具有一个用于脱离所述第二管道的第一端和第二端的第二低死区联接器；(d)一第二截断膜片阀组件，该组件具有第三和第四膜片阀，每一个膜片阀均具有一个膜片且具有一个阀座侧和一个膜片侧，其中，每一膜片阀的阀座侧均与另一个膜片阀的另一个阀座侧并置，每一膜片阀的阀座侧均与所述第一管道的所述第二端保持流动连通，且所述第三膜片阀的所述膜片侧与一清洗气体源和一真空源保持流动连通，且所述第四膜片阀的所述膜片侧保持与一用于低蒸汽压力、高纯度化学制品的分配器保持流动连通；(e)所述第二口与所述第一容器保持流动连通并能够将推动气体输送至所述第一容器。
16.根据权利要求15所述的歧管，其中所述第一和第二截断膜片阀组件具有一个加热器。
17.一种用于在高纯度化学制品输送系统中输送低蒸汽压力、高纯度化学制品的可清洗歧管，其包括(a)一用于存储大量所述低蒸汽压力、高纯度化学制品的第一容器，其具有至少两个能够接收或分配所述低蒸汽压力、高纯度化学制品的口；(b)一用于可拆卸地将所述第一容器连接至所述低蒸汽压力、高纯度化学制品源上的一个点或分配点的第一管道，所述第一管道具有一个第一端和一个第二端，以及一个用于使所述第一管道的所述第一端与所述第一管道的所述第二端分离的第一低死区联接器；(c)一第一截断膜片阀组件，该组件具有第一和第二膜片阀，每一个膜片阀均具有一个膜片且具有一个阀座侧和一个膜片侧，其中，每一膜片阀的阀座侧均与另一个膜片阀的另一个阀座侧并置，每一膜片阀的每一阀座侧均使低蒸汽压力、高纯度化学制品与所述第一管道的所述第一端保持流动连通，且所述第一膜片阀的所述膜片侧与所述至少两个口中的第一口保持流动连通，所述第二膜片阀的所述膜片侧与一同一排气源保持流动连通的第二管道保持流动连通，所述第二管道具有一个用于脱离所述第二管道的第一端和第二端的第二低死区联接器；(d)一第二截断膜片阀组件，该组件具有第三和第四膜片阀，每一个膜片阀均具有一个膜片且具有一个阀座侧和一个膜片侧，其中，每一膜片阀的阀座侧均与另一个膜片阀的另一个阀座侧并置，每一膜片阀的每一阀座侧均与所述第一管道的所述第二端保持流动连通，且所述第三膜片阀的所述膜片侧与一清洗气体源和一溶剂源保持流动连通，且所述第四膜片阀的所述膜片侧保持与一用于低蒸汽压力、高纯度化学制品的分配器保持流动连通；(e)所述第二口与所述第一容器保持流动连通并能够将推动气体输送至所述第一容器。
18.根据权利要求17所述的歧管，其中所述第一和第二截断膜片阀组件具有一个加热器。
19.一种用于在高纯度化学制品输送系统中输送低蒸汽压力、高纯度化学制品的可清洗歧管，其包括(a)一用于存储大量所述低蒸汽压力、高纯度化学制品的第一容器，其具有至少两个能够接收或分配所述低蒸汽压力、高纯度化学制品的口；(b)一用于可拆卸地将所述第一容器连接至所述低蒸汽压力、高纯度化学制品源上的一个点或分配点的第一管道，所述第一管道具有一个第一端和一个第二端，以及一个用于使所述第一管道的所述第一端与所述第一管道的所述第二端分离的第一低死区联接器；(c)一第一截断膜片阀组件，该组件具有第一和第二膜片阀，每一个膜片阀均具有一个膜片且具有一个阀座侧和一个膜片侧，其中，每一膜片阀的阀座侧均与另一个膜片阀的另一个阀座侧并置，每一膜片阀的每一阀座侧均使低蒸汽压力、高纯度化学制品与所述第一管道的所述第一端保持流动连通，且所述第一膜片阀的所述膜片侧与所述至少两个口中的第一口保持流动连通，所述第二膜片阀的所述阀座侧与一个同一排气源保持流动连通的第二管道保持流动连通，所述第二管道具有一个用于脱离所述第二管道的第一端和第二端的第二低死区联接器；(d)一第二截断膜片阀组件，该组件具有第三和第四膜片阀，每一个膜片阀均具有一个膜片且具有一个阀座侧和一个膜片侧，其中，每一膜片阀的阀座侧均与另一个膜片阀的另一个阀座侧并置，每一膜片阀的每一阀座侧均与所述第一管道的所述第二端保持流动连通，且所述第三膜片阀的所述膜片侧与一清洗气体源，一溶剂源和一真空源保持流动连通，且所述第四膜片阀的所述膜片侧保持与一用于低蒸汽压力、高纯度化学制品的分配器保持流动连通；(e)所述第二口与所述第一容器保持流动连通并能够将推动气体输送至所述第一容器。
20.根据权利要求19所述的歧管，其中所述第一和第二截断膜片阀组件具有一个加热器。
21.一种用于在高纯度化学制品输送系统中输送低蒸汽压力、高纯度化学制品的可清洗歧管，其包括(a)一用于存储大量所述低蒸汽压力、高纯度化学制品的第一容器，其具有至少两个能够接收或分配所述低蒸汽压力、高纯度化学制品的口；(b)一用于可拆卸地将所述第一容器连接至所述低蒸汽压力、高纯度化学制品源上的一个点或分配点的第一管道，所述第一管道具有一个第一端和一个第二端，以及一个用于使所述第一管道的所述第一端与所述第一管道的所述第二端分离的第一低死区联接器；(c)一第一截断膜片阀组件，该组件具有第一和第二膜片阀，每一个膜片阀均具有一个膜片且具有一个阀座侧和一个膜片侧，其中，每一膜片阀的阀座侧均与另一个膜片阀的另一个阀座侧并置，每一膜片阀的每一阀座侧均使低蒸汽压力、高纯度化学制品与所述第一管道的所述第一端保持流动连通，且所述第一膜片阀的所述膜片侧均所述至少两个口中的第一口保持流动连通，所述第二膜片阀的所述膜片侧与一根同一排气源保持流动连通的第二管道保持流动连通，所述第二管道具有一个用于脱离所述第二管道的第一端和第二端的第二低死区联接器；(d)一第二截断膜片阀组件，该组件具有第三和第四膜片阀，每一个膜片阀均具有一个膜片且具有一个阀座侧和一个膜片侧，其中，每一膜片阀的阀座侧均与另一个膜片阀的另一个阀座侧并置，每一膜片阀的每一阀座侧均与所述第一管道的所述第二端保持流动连通，且所述第三膜片阀的所述膜片侧与一根管道保持流动连通，且所述导管的功能可从由用于低蒸汽压力、高纯度化学制品的分配以及起泡气体源构成的组中选择，且所述第四膜片阀的所述膜片侧保持与清洗气体源、溶剂源和真空源流动连通；(e)一第三截断膜片阀组件，该组件具有第五和第六膜片阀，每一个膜片阀均具有一个膜片且具有一个阀座侧和一个膜片侧，其中，每一膜片阀的阀座侧均与另一个膜片阀的另一个阀座侧并置，每一膜片阀的每一阀侧均与所述第四膜片阀的所述膜片侧保持流动连通，且所述第五膜片阀的所述膜片侧与一真空源保持流动连通，且所述第六膜片阀的所述膜片侧与一第四截断膜片阀组件保持流动连通；(f)所述第四截断膜片阀组件具有第七和第八膜片阀，每一个膜片阀均具有一个膜片且具有一个阀座侧和一个膜片侧，其中，每一膜片阀的阀座侧均与另一个膜片阀的另一个阀座侧并置，每一膜片阀的每一阀座侧均与所述第三截断膜片阀组件保持流动连通，且所述第七膜片阀的所述膜片侧与一清洗气体源保持流动连通，且所述第八膜片阀的所述膜片侧与一溶剂源保持流动连通；(g)所述第二口与所述第一容器和第五截断膜片阀组件保持流动连通；(h)所述第五截断膜片阀组件具有第九和第十膜片阀，每一个膜片阀均具有一个膜片且具有一个阀座侧和一个膜片侧，其中，每一膜片阀的阀座侧均与另一个膜片阀的另一个阀座侧并置，每一膜片阀的每一阀座侧均使低蒸汽压力、高纯度化学制品与所述第一管道的所述第一端保持流动连通，且所述第九膜片阀的所述膜片侧与所述第二口保持流动连通，所述第十膜片阀的所述膜片侧与一排气源保持流动连通，所述第二管道具有一个用于脱离所述第二管道的第一和第二端的第二低死联接器；(i)一第六截断膜片阀组件，该组件具有第十一和第十二膜片阀，每一个膜片阀均具有一个膜片且具有一个阀座侧和一个膜片侧，其中，每一膜片阀的阀座侧均与另一个膜片阀的另一个阀座侧并置，每一膜片阀的每一阀座侧均与所述第二管道的所述第二端保持流动连通，且所述第十一膜片阀的所述膜片侧与一根管道保持流动连通，所述管道的功能可从由用于低蒸汽压力、高纯度化学制品分配和推动气体源构成的组中选择，且所述第十二膜片阀的所述膜片侧与一第七截断膜片阀组件保持流动连通；(j)所述第七截断膜片阀组件具有第十三和第十四膜片阀，每一个膜片阀均具有一个膜片且具有一个阀座侧和一个膜片侧，其中，每一膜片阀的阀座侧均与另一个膜片阀的另一个阀座侧并置，每一膜片阀的每一阀座侧均与所述第十二膜片阀的所述膜片侧保持流动连通，且所述第十三膜片阀的所述膜片侧与一真空源保持流动连通，且所述第十四膜片阀的所述膜片侧与第八截断膜片阀组件保持流动连通；(k)所述第八截断膜片阀组件具有第十五和第十六膜片阀，每一个膜片阀均具有一个膜片且具有一个阀座侧和一个膜片侧，其中，每一膜片阀的阀座侧均与另一个膜片阀的另一个阀座侧并置，每一膜片阀的每一阀座侧均与所述第七膜片阀组件保持流动连通，且所述第十五膜片阀的所述膜片侧与溶剂源保持流动连通，且所述第十六膜片阀的所述膜片侧与一清洗气体源保持流动连通；(1)一个在所述第一容器中的所述第二口上的T形端。
22.根据权利要求21所述的歧管，其中所述截断膜片阀组件具有一个加热器。
全文摘要
一种歧管包括一个具有两个口的空器；一根将容器连接至一化学制品源/分配器的管道，其具有第一端和第二端以及一个用于端部的联接器；第一截断阀，其具有两个膜片阀，每一个阀均具有一个阀座侧以及一个膜片侧，每一个阀座侧均面对另一个阀座侧，并且与管道的第一端相连，一个膜片阀与一第一口连接，另一膜片侧与排出口相连；一第二截断阀，其具有两个膜片阀，每一个阀均具有一个阀座侧以及一个膜片侧，其中，每一个阀座侧均面对另一个阀座侧，并且每一阀座侧均与管道的第二端相连，一个阀的膜片侧与清洗口相连，并且另一阀的膜片侧与推动气体或化学制品的排出口相连。
文档编号B01J4/00GK1473655SQ03136860
公开日2004年2月11日 申请日期2003年5月23日 优先权日2002年5月23日
发明者C·M·比特彻尔, M·C·马丁内斯, T·A·斯泰德, G·维范科, D·J·斯尔瓦, C M 比特彻尔, 斯尔瓦, 斯泰德, 犊, 马丁内斯 申请人:气体产品与化学公司