专利名称：耐高温高压萃取池的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种萃取池，尤其涉及一种耐高温高压萃取池。
背景技术：
专利号为U. S. Pat. No. 5647976的美国专利公开了一种耐高温高压萃取池，该萃取池主 要由萃取池体、密封件和端帽组成，萃取池体的两端具有与密封件相密封的凸台，端帽上也 具有与密封件相密封的凸台，该结构的缺陷是萃取池体上的凸台和端帽上的凸台与密封件之 间的密封不是很可靠，此外，由于装卸或清洗萃取池时容易损坏凸台，凸台被损坏后就不能 与密封件达到密封效果，从而导致萃取液泄漏，萃取池不可用。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种结构简单、密封可靠性高的耐高温高压萃取池。 为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案
一种耐高温高压萃取池，包括压帽、密封垫、萃取池体、定位密封环，萃取池体内设有 流体通道，定位密封环内设有流体通道，所述定位密封环的下端面沿圆周设有密封环凸台， 所述萃取池体的上、下端面沿圆周分别设有池体凸台，所述密封垫的上、下端面沿圆周分别 设有上凹槽和下凹槽，所述密封环凸台与上凹槽接触密封，所述池体凸台与下凹槽接触密封; 在密封垫和定位密封环的外圆周设有固定圈；压帽上部与定位密封环相固定，下部与萃取池
体相连。
本发明耐高温高压萃取池，其中所述萃取池体的上、下端面在池体凸台的外部沿圆周分 别设有池体导向凸台，在密封垫下部与固定圈下部之间设有与池体导向凸台相配合的池体导 向槽，所述池体导向凸台比池体凸台高。
本发明耐高温高压萃取池，其中所述定位密封环的下端面在密封环凸台的外部沿圆周设 有密封环导向凸台，在密封垫上部与固定圈上部之间设有与密封环导向凸台相配合的池体导 向槽，所述密封环导向凸台比密封环凸台高。
本发明耐高温高压萃取池，其中所述上凹槽和下凹槽的纵截面为v形，纵截面为v形的上凹槽具有第一上密封面和第二上密封面，纵截面为V形的下凹槽具有第一下密封面和第二 下密封面；所述池体凸台的纵截面为矩形，纵截面为矩形的池体凸台具有第一池体密封面和 第二池体密封面，第一池体密封面与第一下密封面接触密封，第二池体密封面与第二下密封 面接触密封;所述密封环凸台的纵截面为矩形，纵截面为矩形的密封环凸台具有第一密封环 密封面和第二密封环密封面，第一密封环密封面与第一上密封面接触密封，第二密封环密封 面与第二上密封面接触密封。
本发明耐高温高压萃取池，其中所述上凹槽和下凹槽的纵截面为等腰梯形，纵截面为等 腰梯形的上凹槽具有第三上密封面和第四上密封面，纵截面为等腰梯形的下凹槽具有第三下 密封面和第四下密封面；所述池体凸台的纵截面为矩形，纵截面为矩形的池体凸台具有第一 池体密封面和第二池体密封面，第一池体密封面与第三下密封面接触密封，第二池体密封面 与第四下密封面接触密封；所述密封环凸台的纵截面为矩形，纵截面为矩形的密封环凸台具 有第一密封环密封面和第二密封环密封面，第一密封环密封面与第三上密封面接触密封，第 二密封环密封面与第四上密封面接触密封。
本发明耐高温高压萃取池，其中所述上凹槽和下凹槽的纵截面设为V形，V形尖角处设 为矩形。
本发明耐高温高压萃取池，其中所述池体凸台的纵截面设为矩形，矩形的左上角和右上 角设为圆角；所述密封环凸台的纵截面设为矩形，矩形的左下角和右下角设为圆角。 本发明耐高温高压萃取池，其中所述定位密封环上设有0型密封圈。
本发明耐高温高压萃取池，其中所述定位密封环上设有固定螺母，固定螺母与固定圈上 部通过螺纹相连。
本发明耐高温高压萃取池，其中所述定位密封环上的流体通道的下部设有过滤片，过滤 片位于密封垫的顶部。
本发明耐高温高压萃取池结构简单，在密封垫的上、下端面沿圆周分别设有上凹槽和下 凹槽，定位密封环的下端面沿圆周设有密封环凸台，萃取池体的上、下端面沿圆周分别设有 池体凸台，密封环凸台与上凹槽接触密封，池体凸台与下凹槽接触密封，密封可靠性高。
图1为本发明耐高温高压萃取池的结构示意图； 图2为图1中A处放大图；图3为密封定位环的结构示意图4为萃取池体的结构示意图5为密封垫的第一种实施例的结构示意图6为图4中B处放大图7为第一种实施例的密封垫与萃取池体和定位密封环连接的结构示意图； 图8为密封垫的第二种实施例的结构示意图； 图9为密封垫的第三种实施例的结构示意图。
具体实施例方式
如图1和图2所示， 一种耐高温高压萃取池，包括压帽1、密封垫2、萃取池体3和定 位密封环4，萃取池体3内设有流体通道31，定位密封环4内设有流体通道41，定位密封环 4的下端面沿圆周设有密封环凸台5，萃取池体3的上、下端面沿圆周分别设有池体凸台6， 密封垫2的上、下端面沿圆周分别设有上凹槽7和下凹槽8，密封环凸台5与上凹槽7接触 密封，池体凸台6与下凹槽8接触密封。在密封垫2和定位密封环4的外圆周设有固定圈9。 定位密封环上设有固定螺母26，固定螺母26与固定圈9上部通过螺纹相连。压帽l上部与 定位密封环4通过螺栓相固定，下部与萃取池体3通过螺纹相连。定位密封环4上设有0型 密封圈29，用于与流体管道28连接时的密封。定位密封环4内的流体通道41的下部设有过 滤片27，过滤片27位于密封垫2的顶部，密封垫2对过滤片27起到支撑作用。
如图3所示，本发明密封环凸台5的纵截面可设计为矩形，纵截面为矩形的密封环凸台 5具有第一密封环密封面20和第二密封环密封面21。也可将密封环凸台5的纵截面设计为 矩形，并将矩形的左下角和右下角设为圆角。这种形式的密封环凸台5不仅密封可靠性高， 而且容易加工。
如图4和图6所示，本发明池体凸台6的纵截面可设计为矩形，纵截面为矩形的池体凸 台6具有第一池体密封面18和第二池体密封面19。也可将池体凸台6的纵截面设计为矩形， 并将矩形的左上角和右上角设为圆角。这种形式的池体凸台6不仅密封可靠性高，而且容易 加工。
如图5所示，在密封垫2的第一种实施例中，上凹槽7和下凹槽8的纵截面设计为V形， 纵截面为V形的上凹槽71具有第一上密封面14和第二上密封面15，纵截面为V形的下凹槽 81具有第一下密封面16和第二下密封面17。如图7所示，第一池体密封面18与第一下密封面16接触密封，第二池体密封面19与第二下密封面17接触密封，形成两条密封线，密 封性好，当第一池体密封面18或第二池体密封面19有损伤时，仍能达到密封效果。第一密 封环密封面20与第一上密封面14接触密封，第二密封环密封面21与第二上密封面15接触 密封，形成两条密封线，密封性好，当第一密封环密封面20或第二密封环密封面21有损伤 时，仍能达到密封效果。
如图8所示，在密封垫2的第二种实施例中，上凹槽7和下凹槽8的纵截面为等腰梯形， 纵截面为等腰梯形的上凹槽72具有第三上密封面22和第四上密封面23，纵截面为等腰梯形 的下凹槽82具有第三下密封面24和第四下密封面25。如图2所示，第一池体密封面18与 第三下密封面24接触密封，第二池体密封面19与第四下密封面25接触密封，形成两条密 封线，密封性好。第一密封环密封面20与第三上密封面22接触密封，第二密封环密封面21 与第四上密封面23接触密封，形成两条密封线，密封性好。
如图9所示，在密封垫2的第三种实施例中，上凹槽7和下凹槽8的纵截面设计为V形， 并将V形尖角处设为矩形。
如图4所示，萃取池体3的上、下端面在池体凸台6的外部沿圆周分别设有池体导向凸 台10，在密封垫2下部与固定圈9下部之间设有与池体导向凸台lO相配合的池体导向槽ll (见图2)，并将池体导向凸台10设计成高于池体凸台6。当将萃取池体3与其他组件安装 在一起时，将池体导向凸台10对准池体导向槽11安装，可准确地将池体凸台6压入下凹槽 8内，使池体凸台6与下凹槽8接触密封，避免了安装时由于找不准安装位置而对池体凸台 6造成损伤，同时也使装卸更加方便。此外，高于池体凸台6的池体导向凸台IO对池体凸台 6起到保护作用，避免了装卸或清洗萃取池时相互碰撞而损坏池体凸台6，延长了萃取池的 使用寿命。如图3所示，定位密封环4的下端面在密封环凸台5的外部沿圆周设有密封环导 向凸台12，在密封垫2上部与固定圈9上部之间设有与密封环导向凸台12相配合的密封环 导向槽13 (见图2)，并将密封环导向凸台12设计成高于密封环凸台5。当将定位密封环4 与密封垫2安装在一起时，将密封环导向凸台12对准密封环导向槽13安装，可准确地将密 封环凸台5压入上凹槽7内，使密封环凸台5与上凹槽7接触密封，避免了安装时由于找不 准安装位置而对密封环凸台5造成损伤，同时也使装卸更加方便。此外，高于密封环凸台5 的密封环导向凸台12对密封环凸台5起到保护作用，避免装卸或清洗萃取池时相互碰撞而 损坏密封环凸台5，延长了萃取池的使用寿命。本发明耐高温高压萃取池的安装过程如下先将过滤片27放在定位密封环4上的流体 通道41的下部，然后将定位密封环4与密封垫2装在一起，再将固定螺母26固定在定位密 封环4上，将固定圈9通过螺纹与固定螺母26固定，然后将压帽1上部通过螺栓与定位密 封环4固定，最后将萃取池体3两端分别与两端的压帽1通过螺纹连接，并将定位密封环4、 密封垫2、萃取池体3压成一体。安装好的萃取池密封可靠性好，可承受高温高压。
以上所述的实施例仅仅是对本发明的优选实施方式进行描述，并非对本发明的范围进行 限定，在不脱离本发明设计精神的前提下，本领域普通技术人员对本发明的技术方案作出的 各种变形和改进，均应落入本发明权利要求书确定的保护范围内。
权利要求
1、一种耐高温高压萃取池，包括压帽(1)、密封垫(2)、萃取池体(3)，萃取池体(3)内设有流体通道(31)，其特征在于还包括定位密封环(4)，定位密封环(4)内设有流体通道(41)，所述定位密封环(4)的下端面沿圆周设有密封环凸台(5)，所述萃取池体(3)的上、下端面沿圆周分别设有池体凸台(6)，所述密封垫(2)的上、下端面沿圆周分别设有上凹槽(7)和下凹槽(8)，所述密封环凸台(5)与上凹槽(7)接触密封，所述池体凸台(6)与下凹槽(8)接触密封；在密封垫(2)和定位密封环(4)的外圆周设有固定圈(9)；压帽(1)上部与定位密封环(4)相固定，下部与萃取池体(3)相连。
2、 根据权利要求1所述的耐高温高压萃取池，其特征在于所述萃取池体(3)的上、下端面在池体凸台(6)的外部沿圆周分别设有池体导向凸台(10)，在密封垫(2)下部与固定圈(9)下部之间设有与池体导向凸台(10)相配合的池体导向槽(11);所述池体导向凸台(10)比池体凸台(6)高。
3、 根据权利要求2所述的耐高温高压萃取池，其特征在于所述定位密封环(4)的下端面在密封环凸台(5)的外部沿圆周设有密封环导向凸台(12)，在密封垫(2)上部与固定圈(9)上部之间设有与密封环导向凸台(12)相配合的密封环导向槽(13);所述密封环导向凸台(12)比密封环凸台(5)高。
4、 根据权利要求3所述的耐高温高压萃取池，其特征在于所述上凹槽(7)和下凹槽(8)的纵截面为V形，纵截面为V形的上凹槽(71)具有第一上密封面(14)和第二上密封面(15)，纵截面为V形的下凹槽(81)具有第一下密封面(16)和第二下密封面(17);所述池体凸台(6)的纵截面为矩形，纵截面为矩形的池体凸台(6)具有第一池体密封面(18)和第二池体密封面(19)，第一池体密封面(18)与第一下密封面(16)接触密封，第二池体密封面(19)与第二下密封面(17)接触密封；所述密封环凸台(5)的纵截面为矩形，纵截面为矩形的密封环凸台(5)具有第一密封环密封面(20)和第二密封环密封面(21)，第一密封环密封面(20)与第一上密封面(14)接触密封，第二密封环密封面(21)与第二上密封面(15)接触密封。
5、 根据权利要求3所述的耐高温高压萃取池，其特征在于所述上凹槽(7)和下凹槽(8)的纵截面为等腰梯形，纵截面为等腰梯形的上凹槽(72)具有第三上密封面(22)和第四上密封面(23)，纵截面为等腰梯形的下凹槽(82)具有第三下密封面(24)和第四下 密封面(25);所述池体凸台(6)的纵截面为矩形，纵截面为矩形的池体凸台(6)具有第 一池体密封面(18)和第二池体密封面(19)，第一池体密封面(18)与第三下密封面(24) 接触密封，第二池体密封面(19)与第四下密封面(25)接触密封；所述密封环凸台(5) 的纵截面为矩形，纵截面为矩形的密封环凸台(5)具有第一密封环密封面(20)和第二密 封环密封面(21)，第一密封环密封面(20)与第三上密封面(22)接触密封，第二密封环 密封面(21)与第四上密封面(23)接触密封。
6、 根据权利要求3所述的耐高温高压萃取池，其特征在于所述上凹槽(7)和下凹槽 (8)的纵截面设为V形，V形尖角处设为矩形。
7、 根据权利要求3或6所述的耐高温高压萃取池，其特征在于所述池体凸台(6)的 纵截面设为矩形，矩形的左上角和右上角设为圆角；所述密封环凸台(5)的纵截面设为矩 形，矩形的左下角和右下角设为圆角。
8、 根据权利要求4或5所述的耐高温高压萃取池，其特征在于所述定位密封环(4) 上设有0型密封圈(29)。
9、 根据权利要求8所述的耐高温高压萃取池，其特征在于所述定位密封环(4)上设 有固定螺母(26)，固定螺母(26)与固定圈(9)上部通过螺纹相连。
10、 根据权利要求9所述的耐高温高压萃取池，其特征在于所述定位密封环(4)上 的流体通道(41)的下部设有过滤片(27)，过滤片(27)位于密封垫(2)的顶部。
全文摘要
一种耐高温高压萃取池，包括压帽、密封垫、萃取池体、定位密封环，萃取池体内设有流体通道，定位密封环内设有流体通道，所述定位密封环的下端面沿圆周设有密封环凸台，所述萃取池体的上、下端面沿圆周分别设有池体凸台，所述密封垫的上、下端面沿圆周分别设有上凹槽和下凹槽，所述密封环凸台与上凹槽接触密封，所述池体凸台与下凹槽接触密封；在密封垫和定位密封环的外圆周设有固定圈；压帽上部与定位密封环相固定，下部与萃取池体相连。本发明耐高温高压萃取池结构简单、密封可靠性高。
文档编号B01D11/00GK101468261SQ20081011951
公开日2009年7月1日 申请日期2008年9月2日 优先权日2008年9月2日
发明者史俊稳, 叶建平, 裴晓华, 顾爱平 申请人:北京吉天仪器有限公司