专利名称：气体分布器的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种沸腾炉式三氯氢硅反应器内的气体分布器。
背景技术：
沸腾炉式三氯氢硅反应器内的气体分布器有对进料气流的分布作用，特别是对加 大进料气对硅粉层的冲击范围、提高气体与硅粉的接触面积作用明显。气体分布器由喷板 和喷嘴构成。沸腾炉内以往的气体分布器由喷板3和喷嘴4组成，喷嘴4由喷嘴螺纹8固定在 喷板3上。喷嘴4中有氯化氢通道5，喷板上堆积硅粉6，氯化氢通道5包括喷嘴下端的气 体进口 7、喷嘴侧上端的气体出口 9。在喷板3上每四个喷嘴按正方形分布(见图5)，喷嘴 气体出口 9与气体进口 7间呈90°的夹角(见图4)。该气体分布器工作时，气体由气体进口 7顶端进入后，由氯化氢通道5上行，从喷 嘴气体出口 9顶端出来，对喷板上喷嘴周围堆积的硅粉6进行吹动。由于喷嘴气体出口 9与 气体进口 7垂直，喷嘴气体出口方向以下的硅粉很难吹动，容易形成死角，从而使硅粉堆积 形成死硅粉，降低了硅粉的使用率，三氯氢硅的产量低；而且容易造成硅粉堆积堵塞喷嘴， 检修工作量大，检修频繁。
发明内容本实用新型的目的是针对上述现状，旨在提供一种能有效冲动硅粉，避免死角形 成的气体分布器。本实用新型目的的实现方式为，气体分布器，由喷板和喷嘴组成，喷嘴由喷嘴 螺纹固定在喷板上，喷嘴中有氯化氢通道，喷板上堆积硅粉，氯化氢通道下端有气体进 口、上端有气体出口，在喷板上每三个喷嘴按正三角形分布，喷嘴气体出口与气体进口呈 40° -50°的夹角。本实用新型经在喷板上每三个喷嘴按正三角形分布设计，喷嘴气体出口 9与气体 进口 7间呈40° -50°的夹角的改进后有以下显著效果1、能更加有效分布气体，有效冲动硅粉，避免死角的形成；2、加大气体与硅粉的有效接触面积，提高硅粉的使用率；3、减少硅粉在气体分布器周围的总停留时间，减少硅粉在喷板上的堆积量，有效 减少喷嘴的堵塞次数，减少检修工作量；4、气体与硅粉充分反应，传热效果更佳，反应温度稳定，减少副产品四氯化硅的生 成。经生产证明，采用本实用新型，半成品含量能达到90%。
图1为本实用新型结构示意图，[0014]图2为实用新型喷嘴结构示意图，图3为实用新型喷嘴在喷板上的分布图，图4为现有喷嘴结构示意图，图5为现有喷嘴在喷板上的分布图。
具体实施方式
参照图1、2、3，本实用新型气体分布器由喷板3和喷嘴4组成，喷嘴4由喷嘴螺纹 8固定在喷板3上。喷嘴4中有氯化氢通道5，喷板上堆积硅粉6，氯化氢通道5下端有气体 进口 7、上端有气体出口 9。在喷板3上每三个喷嘴按正三角形分布(见图3)，喷嘴气体出 口 9与气体进口 7呈40° -50°的夹角(见图2)。喷嘴气体出口 9与氯化氢通道5间呈40°、42°、45°、48°或50°的夹角。本实用新型工作时，气体由气体进口 7顶端进入后，由氯化氢通道5上行，从喷嘴 气体出口 9顶端出来，对喷板上喷嘴周围堆积的硅粉6进行吹动。由于喷嘴气体出口 9与 气体进口 7间呈40° -50°的夹角，方便吹动喷嘴气体出口方向以下的硅粉，不会形成硅粉 死角，减少了硅粉在气体分布器周围的总停留时间，减少了硅粉在喷板上的堆积量，有效减 少了喷嘴的堵塞次数，减少了检修工作量。在喷板上每三个喷嘴按正三角形分布，加大气体与硅粉的有效接触面积，更能有 效冲动硅粉，提高硅粉的使用率，使气体与硅粉充分反应，传热效果更佳，使之反应温度稳 定，减少副产品四氯化硅的生成。经生产证明，采用本实用新型，半成品含量能达到90%。
权利要求1.气体分布器，由喷板和喷嘴组成，喷嘴由喷嘴螺纹固定在喷板上，喷嘴中有氯化氢通 道，喷板上堆积硅粉，其特征在于在氯化氢通道下端有气体进口、上端有气体出口，在喷板 上每三个喷嘴按正三角形分布，喷嘴气体出口与气体进口呈40° -50°的夹角。
专利摘要本实用新型涉及一种沸腾炉式三氯氢硅反应器内的气体分布器。由喷板和喷嘴组成，喷嘴中有氯化氢通道，喷板上堆积硅粉，在喷板上每三个喷嘴按正三角形分布，喷嘴气体出口与氯化氢通道间呈40°-50°的夹角。本实用新型喷嘴在喷板上按正三角形分布，喷嘴气体出口与氯化氢通道间呈40°-50°的夹角，能更加有效分布气体，有效冲动硅粉，避免死角的形成；加大气体与硅粉的有效接触面积，提高硅粉的使用率；减少硅粉在气体分布器周围的总停留时间，减少硅粉在喷板上的堆积量，有效减少喷嘴的堵塞次数，减少检修工作量；气体与硅粉充分反应，传热效果更佳，反应温度稳定，减少副产品四氯化硅的生成。经生产证明，采用本实用新型，半成品含量能达到90％。
文档编号B01J8/24GK201906597SQ20102065367
公开日2011年7月27日 申请日期2010年12月8日 优先权日2010年12月8日
发明者徐智, 杨霖, 石明胜, 罗涛, 闵运豪 申请人:湖北江钻天祥化工有限公司