专利名称：一种核微孔膜的生产方法
技术领域：
本发明涉及一种核微孔膜的生产方法。
背景技术：
目前，核微孔膜用于防伪和过滤用途，受到市场欢迎，特别是用于防伪，其不可仿制和容易被消费者识别，更是高端客户的选择，所以市场需求快速增长。核微孔膜的生产过程是通过核反应堆产生的裂变粒子或者串列式重离子加速器产生的高能粒子去轰击(辐照)高分子材料膜，损伤其分子链，被损伤分子链的部分会形成不同于原材料的酸碱特性，然后将这种辐照轰击后的被损伤的高分子链置于碱液(或者酸液)中会被溶解(蚀刻)，从而形成密度为每平方厘米数十万至数千万个、孔径为微米级的微孔膜。核微孔膜进行防伪加密的生产过程目前采用的方法是在辐照后对不需要形成加密信息位置的高分子薄膜涂胶，从而在蚀刻时，只在没有涂胶的部位形成微孔，形成加密信息。该种方法生产核微孔膜具有以下缺点1)由于在蚀刻前涂胶，并且采用的是一种抗蚀刻(耐酸碱)胶水，在后续的生产过程中容易反粘，使不需要形成微孔位置的高分子薄膜上的胶水被粘走，从而在进行蚀刻反应时该位置出现微孔，破坏加密信息的完整性。2)胶水会粘连在高分子薄膜的背面，从而堵塞构成加密信息的微孔，同样破坏加密信息的完整性。3) 由于不需要形成加密信息位置的胶水被粘走，出现微孔，从而使微孔数量增加，膜的机械强度降低，易脆，废品率高，增加生产难度，影响生产效率。
发明内容
本发明的目的在于提供一种核微孔膜的生产方法，采用该方法生产核微孔膜，微孔膜的加密信息不易破坏，完整性好。为达到上述目的，本发明采用如下技术方案—种核微孔膜的生产方法，其特征在于包括如下步骤(一 )辐照对高分子薄膜进行辐照；( 二)蚀刻将辐照后的高分子薄膜放在酸液(或碱液)中蚀刻形成微孔；(三)涂布堵孔对不需要形成微孔位置的高分子薄膜进行涂布堵孔，形成具有完整加密信息的微孔膜。进一步的，所述涂布过程中使用的涂料为高强度涂料。进一步的，所述涂布过程中使用的涂料为光油树脂。再进一步的，所述辐照过程中使用的高分子薄膜为单层PET膜。更进一步的，所述辐照过程中所使用的高分子薄膜为一层PET膜和一层保护膜复合形成的双层膜，则在涂胶完成后增加步骤(四)剥离所述保护膜。或者，所述辐照过程中所使用的高分子薄膜为一层PET膜和一层保护膜复合形成的双层膜，则在蚀刻后涂胶前先剥离所述保护膜。
所述保护膜采用抗酸碱蚀刻材料制作。本发明与现有技术相比，具有以下优点1)在蚀刻后对不需要形成微孔位置的高分子薄膜进行涂布高强度堵孔涂料，堵塞该位置的微孔，形成的微孔膜加密信息不会被破坏，完整性好。2)由于渗入微孔的涂料的分子力作用，使微孔膜的机械强度增加。3)蚀刻后涂胶降低了废品率，便于后续工序的高速生产，提高了生产效率。
图1是应用本发明的核微孔膜的防伪标签的结构示意图。
具体实施例方式实施例一一种核微孔膜的生产方法，包括如下步骤(一 )辐照对高分子薄膜进行辐照，所使用的高分子薄膜为单层PET膜；( 二)蚀刻将辐照后的高分子薄膜放在酸液(或碱液)中进行双面满版蚀刻形成微孔；(三)涂布堵孔使用光油树脂对不需要形成微孔位置的高分子薄膜进行涂布堵孔，形成具有完整加密信息的微孔膜。实施例二一种核微孔膜的生产方法，包括如下步骤(一 )辐照对高分子薄膜进行辐照，所使用的高分子薄膜为单层PET膜；(二)复合将单层辐照后PET膜复合保护膜。( 二)蚀刻将辐照和复合后的高分子薄膜放在酸液(或碱液)中进行单面满版蚀刻形成微孔；(三)涂布堵孔使用光油树脂对不需要形成微孔位置的高分子薄膜进行涂布堵孔，形成具有完整加密信息的微孔膜。实施例三一种核微孔膜的生产方法，包括如下步骤(一)辐照对高分子薄膜进行辐照，所使用的高分子薄膜为一层PET膜和一层保护膜复合形成的双层膜；( 二)蚀刻将辐照后的复合膜放在酸液(或碱液)中进行单面满版蚀刻，在PET 膜上形成微孔；(三)涂布堵孔使用光油树脂对不需要形成微孔位置的PET膜进行涂布堵孔，形成具有完整加密信息的微孔膜。(四)剥离将保护膜剥离。本方法中的保护膜采用抗酸碱蚀刻材料制作。实施例四一种核微孔膜的生产方法，包括如下步骤(一)辐照对高分子薄膜进行辐照，所使用的高分子薄膜为一层PET膜和一层保护膜复合形成的双层膜；( 二)蚀刻将辐照后的复合膜放在酸液(或碱液)中进行单面满版蚀刻，在PET 膜上形成微孔；(三)剥离将保护膜剥离；(四)涂布堵孔使用光油树脂对不需要形成微孔位置的PET膜进行涂布堵孔，形成具有完整加密信息的微孔膜。本方法中的保护膜采用抗酸碱蚀刻材料制作。采用本发明生产方法制作的微孔膜，由于涂胶时涂料从微孔的一面进入，从而会出现微孔堵塞的深度不够，形成半深度微孔；或者微孔堵塞过量，在另一面形成突起。为解决该问题，可在生产使用时，将胶水涂布在需要防伪标签或者包装的表面，然后将微孔膜贴合。此时胶水会将半深度的微孔或者突起部分填平，涂布胶水厚度一般应在1 1. 5μ，既不会对形成加密信息的微孔产生破坏，又刚好填平了需要堵塞的微孔，从而获得很好的外观效果。如图1所示，一种应用本发明的核微孔膜的防伪标签，由基材层6、胶水层3及核微孔膜组成，胶水层3位于基材层1和核微孔膜之间，核微孔膜包括基层膜1，基层膜1上形成有若干微孔，基层膜局部位置上覆盖有涂层2，所述涂层2具有凸起部2-1嵌入基层膜1上被覆盖位置的微孔4，而基层膜1上没有被覆盖位置的微孔5为通孔。
权利要求
1.一种核微孔膜的生产方法，其特征在于包括如下步骤(一)辐照对高分子薄膜进行辐照；(二)蚀刻将辐照后的高分子薄膜放在酸液(或碱液)中蚀刻形成微孔；(三)涂布堵孔对不需要形成微孔位置的高分子薄膜进行涂布堵孔，形成具有完整加密信息的微孔膜。
2.根据权利要求1所述的一种核微孔膜的生产方法，其特征在于所述涂布过程中使用的涂料为高强度涂料。
3.根据权利要求1所述的一种核微孔膜的生产方法，其特征在于所述涂布过程中使用的涂料为光油树脂。
4.根据权利要求1至3任所述的一种核微孔膜的生产方法，其特征在于所述辐照过程中使用的高分子薄膜为单层PET膜。
5.根据权利要求1至3任一所述的一种核微孔膜的生产方法，其特征在于当所述辐照过程中所使用的高分子薄膜为一层PET膜和一层保护膜复合形成的双层膜时，则在涂布堵孔完成后增加步骤(四)剥离所述保护膜。
6.根据权利要求5所述的一种核微孔膜的生产方法，其特征在于所述保护膜采用抗酸碱蚀刻材料制作。
7.根据权利要求1至3任一所述的一种核微孔膜的生产方法，其特征在于当所述辐照过程中所使用的高分子薄膜为一层PET膜和一层保护膜复合形成的双层膜时，则在蚀刻后涂布堵孔前先剥离所述保护膜。
8.根据权利要求7所述的一种核微孔膜的生产方法，其特征在于所述保护膜采用抗酸碱蚀刻材料制作。
全文摘要
本发明提供一种核微孔膜的生产方法其特征在于包括如下步骤(一)辐照对高分子薄膜进行辐照；(二)蚀刻将辐照后的高分子薄膜放在酸液(或碱液)中蚀刻形成微孔；(三)涂布堵孔对不需要形成加密信息位置的高分子薄膜进行涂布堵孔，形成具有完整加密信息的微孔膜。本发明与现有技术相比，具有以下优点1)在蚀刻后对不需要形成加密信息位置的高分子薄膜进行涂布高强度堵孔涂料，堵塞该位置的微孔，形成的微孔膜加密信息不会被破坏，完整性好。2)由于渗入微孔的涂料的分子力作用，使微孔膜的机械强度增加。3)蚀刻后涂胶降低了废品率，便于后续工序的高速生产，提高了生产效率。
文档编号B01D67/00GK102188909SQ20111011268
公开日2011年9月21日 申请日期2011年5月3日 优先权日2011年5月3日
发明者凌红旗, 崔清臣, 晏光明, 黄海龙 申请人:中山国安火炬科技发展有限公司