一种液封坩埚的制作方法

文档序号:4932389阅读:135来源:国知局
一种液封坩埚的制作方法
【专利摘要】一种液封坩埚,包括坩埚体和坩埚盖,所述坩埚体外壁设有开口向上的环形凹槽,所述坩埚盖卡于凹槽内。本实用新型所提供的液封坩埚通过在坩埚体外壁设置凹槽,将坩埚盖倒扣于凹槽内,并在凹槽内加入液封剂,实现对坩埚内化学反应物的密封,阻止化学反应物的挥发;液封剂与化学反应物没有直接接触,从而保证了化学反应物的纯净。
【专利说明】一种液封坩埚
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及实验设备领域,具体涉及一种液封坩埚。
【背景技术】
[0002]在一些在反应物具有较大蒸气压的化合反应中,一般采用液封剂来阻止反应物的挥发,通常是把液封剂直接加在反应物的上面,这样虽然防止反应过程中的挥发,但是,t匕较容易引入杂质,特别是液封剂。同时在反应后,连接液封剂的部分物料因过多杂质而不能用,造成物料的浪费。

【发明内容】

[0003]本实用新型旨在克服现有技术的上述不足,提供一种不引入杂质,方便使用的液封坩埚。
[0004]本实用新型是通过以下技术方案实现的:
[0005]一种液封坩埚,包括坩埚体和坩埚盖,所述坩埚体外壁设有开口向上的环形凹槽,所述坩埚盖卡于凹槽内。
[0006]所述凹槽外圈侧壁高度低于坩埚体外壁高度。
[0007]所述凹槽位于坩埚体上部。
[0008]本实用新型在使用时,往坩埚体内加入化学反应物,然后将坩埚盖盖上,坩埚盖的边缘卡在凹槽内,同时凹槽内加入液封剂,实现对坩埚内化学反应物的密封,阻止化学反应物的挥发;化学反应完成后再从坩埚内取出化学反应物,由于液封剂与化学反应物没有直接接触,从而保证了化学反应物的纯净。
【专利附图】

【附图说明】
[0009]图1是本实用新型整体结构示意图。
[0010]图中:1-坩埚体,2-坩埚盖,3-凹槽,4-外圈侧壁,5-坩埚体外壁。
【具体实施方式】
[0011]为了便于本领域技术人员的理解,下面结合附图对本实用新型作进一步的描述。
[0012]如图1所示,一种液封坩埚,包括坩埚体I和坩埚盖2,所述坩埚体I外壁5设有开口向上的环形凹槽3,所述坩埚盖2卡于凹槽3内。
[0013]所述凹槽3的外圈侧壁4高度低于坩埚体外壁5高度,确保液封剂进入坩埚体I内部。
[0014]所述凹3位于坩埚体I上部。
[0015]本实用新型在使用时,往坩埚体I内加入化学反应物,然后将坩埚盖2盖上,坩埚盖2的边缘倒扣卡在凹槽3内,同时凹槽3内加入液封剂,实现对坩埚内化学反应物的密封,阻止化学反应物的挥发;化学反应完成后再从坩埚内取出化学反应物,由于液封剂与化学反应物没有直接接触,从而保证了化学反应物的纯净。
[0016]以上内容是结合具体的优选方式对本实用新型所作的进一步详细说明,不应认定本实用新型的具体实施只局限于以上说明。对于本【技术领域】的技术人员而言,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以作出若干简单推演或替换,均应视为由本实用新型所提交的权利要求确定的保护范围之内。
【权利要求】
1.一种液封坩埚,包括坩埚体(I)和坩埚盖(2),其特征在于:所述坩埚体(I)的外壁上设有开口向上的环形凹槽(3),所述坩埚盖(2)卡于凹槽(3)内。
2.根据权利要求1所述的液封坩埚,其特征在于:所述凹槽(3)的外圈侧壁(4)高度低于坩埚体外壁(5)高度。
3.根据权利要求2所述的液封坩埚,其特征在于:所述凹槽(3)位于坩埚体(I)上部。
【文档编号】B01L3/04GK203470019SQ201320609915
【公开日】2014年3月12日 申请日期:2013年9月30日 优先权日:2013年9月30日
【发明者】文崇斌 申请人:清远先导材料有限公司
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