一种真空密封坩埚的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种用于真空实验领域的坩祸，尤其是一种工作于真空环境中能够进行真空密封和高温加热的金属坩祸。
【背景技术】
[0002]坩祸是化学仪器的重要组成部分，它是熔化和精炼金属液体以及固液加热、反应的容器，是保证化学反应顺利进行的基础。现有坩祸一般为敞口设计，不能够满足一些特殊环境和要求。
[0003]在真空中性束注入实验中的铯馈入系统，要求用坩祸加热液体单质铯，铯蒸发形成蒸汽，通过管道进入离子源所在真空室内。坩祸工作在真空环境内，要求一定的真空密封，使得坩祸内腔与外部真空环境隔绝开来，同时又要能够随时给坩祸进行铯单质添加。而现有坩祸并不能完成上面的要求。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型的目的是提供一种真空密封坩祸，以解决现有的坩祸无法在高温加热时保证真空密封的问题。
[0005]为了达到上述目的，本实用新型采用的技术方案为:
[0006]一种真空密封；t甘祸，其特征在于:包括有樹祸体和甘祸盖，樹祸体口部和樹祸盖之间压装有密封圈；樹祸体口部和樹祸盖均设为刀口法兰结构，且二者刀口相对；樹祸体口部和坩祸盖对合后通过螺栓紧固挤压，二者刀口分别切入所述密封圈进行真空密封；包括有气体引出管，所述气体引出管从坩祸盖插入引向坩祸体口部。
[0007]一种真空密封坩祸，其特征在于:所述坩祸体为圆柱状结构，坩祸体口部设有一体的刀口法兰结构。
[0008]一种真空密封坩祸，其特征在于:所述密封圈为金属密封圈。
[0009]一种真空密封坩祸，其特征在于:所述气体引出管上安装有流量计、计量阀或关闭阀。
[0010]坩祸体和坩祸盖通过螺栓紧固挤压，上下两个刀口切入无氧铜密封圈进行真空密封，使得整个坩祸能够进行高温加热的同时也能够进行真空密封。同时，在引出管口可以根据自己的需要，安装流量计、计量阀、关闭阀等，来控制蒸汽的开关、流速等。
[0011]本实用新型优点为:
[0012]本实用新型把金属坩祸与刀口法兰结构相结合，实现高温加热中高真空密封，工作运行稳定可控。本实用新型结构简单，工作稳定可靠，成本较低，加工方便，安装简洁，可在真空环境中对不同物质进行高温加热。
【附图说明】
[0013]图1为本实用新型的整体组装图
[0014]图2为本实用新型的结构示意图
[0015]图3为本实用新型剖面示意图
[0016]图4为本发密封结构放大示意图
[0017]附图标记说明:1_坩祸体，2-密封圈，3-坩祸盖，4-引出管，5-刀口密封结构。
【具体实施方式】
[0018]下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步的详细说明
[0019]参见附图:
[0020]一种真空密封；t甘祸，包括有；t甘祸体I和；t甘祸盖3，；t甘祸体I 口部和樹祸盖3之间压装有密封圈2 ;樹祸体I 口部和樹祸盖3均设为刀口法兰结构，且二者刀口相对；樹祸体I口部和坩祸盖3对合后通过螺栓紧固挤压，二者刀口分别切入所述密封圈2进行真空密封；包括有气体引出管4，所述气体引出管4从坩祸盖3插入引向坩祸体I 口部。
[0021]坩祸体I下半部分为金属圆柱，内部有腔，用来盛放被加热物。通过立式加热炉对圆柱体外壁进行加热，从而加热腔内物体。坩祸体上半部分为一体式的CF刀口法兰结构，刀口切压密封圈。
[0022]本实例中坩祸体为304不锈钢，边沿部分有6个均匀分布的贯穿螺纹孔，密封圈为无氧铜密封圈。坩祸盖3为CF刀口法兰盘，刀口规格与坩祸体的一致，本实例中坩祸盖的材料也是304不锈钢，祸盖边沿有6个均匀分布的通孔。4是不锈钢引出管，引出管的直径要根据坩祸体内腔的直径来定，本实例中4为外径6mm，内径5mm的304不锈钢管。
[0023]在中性束注入实验的铯注入系统中，该坩祸处于真空环境中，将铯单质注入坩祸体的内腔中，放好密封圈，对好坩祸盖，对称的装上6个螺栓，通过紧固螺栓使得上下刀口切入无氧铜密封圈，切面与刀口紧贴挤压，隔绝外部真空。然后通过立式筒状加热炉对锅体四壁加热，加热到三四百度后，内部铯单质源源不断地形成蒸汽通过引出管进入离子源真空室。当铯单质加热完后，拧下螺栓，褪下盖子，进行铯单质添加，然后更换密封圈，重新紧固螺栓，然后继续进行试验。
[0024]实际使用过程中，本坩祸非常适合在较高的真空环境中进行高温加热，工作稳定可靠且安装拆卸方便。
[0025]以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡未脱离本实用新型的实施或变更，均包含在本实用新型的专利保护范围内。
【主权项】
1.一种真空密封坩祸，其特征在于:包括有坩祸体和坩祸盖，坩祸体口部和坩祸盖之间压装有密封圈；樹祸体口部和樹祸盖均设为刀口法兰结构，且二者刀口相对；樹祸体口部和坩祸盖对合后通过螺栓紧固挤压，二者刀口分别切入所述密封圈进行真空密封；包括有气体引出管，所述气体引出管从坩祸盖插入引向坩祸体口部。
2.根据权利要求1所述的一种真空密封坩祸，其特征在于:所述坩祸体为圆柱状结构，坩祸体口部设有一体的刀口法兰结构。
3.根据权利要求1所述的一种真空密封坩祸，其特征在于:所述密封圈为金属密封圈。
4.根据权利要求1所述的一种真空密封坩祸，其特征在于:所述气体引出管上安装有流量计、计量阀或关闭阀。
【专利摘要】本实用新型公开了一种真空密封坩埚，包括有坩埚体和坩埚盖，坩埚体口部和坩埚盖之间压装有密封圈；坩埚体口部和坩埚盖均设为刀口法兰结构，且二者刀口相对；坩埚体口部和坩埚盖对合后通过螺栓紧固挤压，二者刀口分别切入所述密封圈进行真空密封；包括有气体引出管，所述气体引出管从坩埚盖插入引向坩埚体口部。本实用新型把金属坩埚与刀口法兰结构相结合，实现高温加热中高真空密封，工作运行稳定可控。本实用新型结构简单，工作稳定可靠，成本较低，加工方便，安装简洁，可在真空环境中对不同物质进行高温加热。
【IPC分类】B01L3-04
【公开号】CN204429328
【申请号】CN201520010200
【发明人】邑伟, 杨思皓, 崔 奎, 谢远来, 梁立振, 顾玉明, 胡纯栋, 黄稳, 程斌, 马长城
【申请人】中国科学院等离子体物理研究所
【公开日】2015年7月1日
【申请日】2015年1月7日