从进料混合物中分离挥发性硅氧烷的方法与流程

背景技术：
：多种反应形成作为所需材料或副产物的挥发性硅氧烷。所需产物的纯化需要从挥发性硅氧烷和其他反应产物的混合物中分离挥发性硅氧烷。然而，从混合物中除去挥发性硅氧烷可涉及使混合物的组分发生降解的苛刻的温度条件，例如使用釜汽提或刮膜蒸发器。技术实现要素：在多种实施例中，本发明提供从液体混合物中除去挥发性硅氧烷的方法。该方法包括使第一疏水膜的第一侧与液体进料混合物接触。液体进料混合物包含聚合物和至少一种挥发性硅氧烷。该方法还包括使膜的第二侧与扫描介质接触。扫描介质包含扫描气体、扫描液体和真空中的至少一者。第一侧与进料混合物以及第二侧与扫描介质的接触在膜的第二侧上产生渗透混合物并在膜的第一侧上产生渗余混合物。渗透混合物富含挥发性硅氧烷。渗余混合物贫乏挥发性硅氧烷。在多种实施例中，本发明提供从液体混合物中除去挥发性硅氧烷的方法。该方法包括使第一疏水膜的第一侧与包含聚合物和至少一种挥发性硅氧烷的液体进料混合物接触。进料混合物不含有机聚硅氧烷乳液。第一疏水膜包括厚度为约1μm至约300μm的致密有机硅(silicone)膜。液体进料混合物的温度为约-40℃至约250℃。该方法还包括使膜的第二侧与包含扫描气体、扫描液体和真空中的至少一者的扫描介质接触，以在膜的第二侧上产生渗透混合物并在膜的第一侧上产生渗余混合物。与液体进料混合物相比，渗透混合物富含挥发性硅氧烷，而渗余混合物少约40重量％至约99重量％的挥发性硅氧烷。在多种实施例中，本发明提供用于从液体混合物中分离挥发性硅氧烷的系统。该系统包括第一疏水膜。该系统包括包含聚合物和至少一种挥发性硅氧烷的液体进料混合物，该液体进料混合物接触第一疏水膜的第一侧。该系统包括包含扫描气体、扫描液体和真空中的至少一者的扫描介质，该扫描介质接触膜的第二侧。该系统包括在膜的第二侧上的渗透混合物，该渗透混合物通过使第一侧与进料混合物以及使第二侧与扫描介质接触而形成，其中该渗透混合物富含挥发性硅氧烷。该系统包括在膜的第一侧上的渗余混合物，该渗余混合物通过使第一侧与进料混合物以及使第二侧与扫描介质接触而形成，其中该渗余混合物贫乏挥发性硅氧烷。多种实施例提供优于其他分离方法的某些优点，其中一些是令人惊讶且出人意料的。扫描介质诸如气体、液体和真空中的至少一者可使希望通过膜分离的挥发性硅氧烷组分的通量提高。在多种实施例中，本发明的方法可用于从液体进料混合物中有效除去挥发性硅氧烷，包括环硅氧烷和线性硅氧烷。与对挥发性硅氧烷进行汽提的常规方法相比，在多种实施例中，本发明的方法可通过控制诸如模块温度、进料压力、渗透压力、扫描液体温度和进料混合物流量之类的参数而在相对温和的条件下进行，从而使混合物的降解比包括更苛刻温度的其他方法少。在一些实施例中，通过使用无孔或致密膜，与具有贯穿膜的孔的多孔或微孔膜相比，扫描液体的泄漏更少，且膜的堵塞可以更少，从而提供所需的维护更少且具有优异分离能力(包括更高的效率和更大的分离程度)的耐堵塞耐泄漏的膜系统。在多种实施例中，该膜工艺的小占地面积和模块化提供比需要更多活动件的分批操作例如釜汽提、旋转蒸发器以及连续或半连续操作例如刮膜蒸发器更大的体积效率或可靠性。在一些实施例中，通过使用致密的无支撑膜，在多孔载体中不存在孔有助于减少沾污并降低来自载体孔中的被吸收物的冷凝的传质阻力。在多种实施例中，本发明的方法可以比其他工艺更温和的加工条件以及更高的效率中的至少一者从混合物中除去挥发性硅氧烷，例如，使用更少的能量、使用更短的时间或采用更低的成本。附图说明附图以举例的方式而非限制的方式大体示出了本文献中讨论的多种实施例。图1示出了根据多种实施例的用于孔侧汽提的中空纤维模块。图2示出了根据多种实施例的用于壳侧汽提的模块设置的示意图。图3示出了根据多种实施例的具有流体扫描的壳侧汽提模块的示意图。具体实施方式现在将详细参考本发明所公开的主题的某些实施例，其例子在附图中部分地示出。尽管本发明所公开的主题将结合列举的权利要求进行说明，但应当理解，示例性的主题并不旨在将权利要求仅限制在本发明所公开的主题。以范围形式表达的值应当以灵活的方式理解为不仅包括明确列举出的作为范围限值的数值，而且还包括涵盖在该范围内的所有的单个数值或子区间，犹如每个数值和子区间被明确列举出。例如，“约0.1％至约5％”或“约0.1％至5％”的范围应当理解为不仅包括约0.1％至约5％，还包括在所指范围内的单个值(如，1％、2％、3％和4％)和子区间(如，0.1％至0.5％、1.1％至2.2％、3.3％至4.4％)。除非另外指明，否则表述“约X至Y”与“约X至约Y”具有相同的含义。同样，除非另外指明，否则表述“约X、Y，或约Z”与“约X、约Y，或约Z”具有相同的含义。在本文件中，术语“一”、“一个”或“该”用于包括一个或不止一个，除非上下文明确地另外指明。术语“或”用于指代非排他性的“或”，除非另外指明。陈述“A和B中的至少一者”具有与“A、B或A和B”相同的含义。另外，应当理解本文所用的措辞或术语仅用于说明的目的而并非旨在限制，除非另外指明。段落标题的任何使用旨在有助于文件的阅读而不应理解为限制；与段落标题相关的信息可出现在特定段落之内或之外。此外，在本文件中涉及的全部出版物、专利和专利文件均以引用方式全文并入本文，如同单独以引用方式并入。如果在本文件和以引用的方式并入的那些文件之间有不一致的用法，则在所并入的文件中的用法应当被视为对本文件的补充；对于不可调和的矛盾，以本文件的用法为准。在本文所述的制造方法中，除了在明确述及时间顺序或操作顺序时外，其步骤可以任何顺序进行而不偏离本发明的原理。此外，指定的步骤可同时进行，除非有明确的权利要求语言述及它们单独进行。例如，进行X的要求保护步骤和进行Y的要求保护步骤可在单个操作内同时进行，并且所产生的方法将在要求保护的方法的字面范围内。本文所述化合物内的所选取代基以递归程度呈现。在该语境中，“递归取代基”是指某取代基可引用其自身的另一实例，或引用自身引用第一取代基的另一取代基。递归取代基是所公开的主题的预期方面。由于此类取代基的递归性，因此在理论上，在任何给定的主张中可以存在大量取代基。有机化学领域的普通技术人员将理解此类取代基的总数由预期化合物的所需性质合理地限制。此类性质以举例而非限制的方式包括诸如分子量、溶解度之类的物理性质和诸如易合成性之类的实用性质。递归取代基可调用自身任何合适的次数，例如约1次、约2次、3、4、5、6、7、8、9、10、15、20、30、50、100、200、300、400、500、750、1000、1500、2000、3000、4000、5000、10,000、15,000、20,000、30,000、50,000、100,000、200,000、500,000、750,000或约1,000,000次或更多次。如本文所用，术语“约”可允许值或范围具有一定程度的波动，例如在所述值或所述范围的极限的10％内、5％内或1％内。如本文所用，术语“基本上”是指大多数或主要地，就像至少约50％、60％、70％、80％、90％、95％、96％、97％、98％、99％、99.5％、99.9％、99.99％或至少约99.999％或更多。如本文所用，术语“有机基团”是指但不限于任何含碳官能团。例如，含氧基团，例如烷氧基基团、芳氧基基团、芳烷氧基基团、氧代基(羰基)基团、羧基基团(包括羧酸、羧酸盐和羧酸酯)；含硫基团，例如烷基和芳基硫化物基团；以及其他含杂原子的基团。有机基团的非限制性例子包括OR、OOR、OC(O)N(R)2、CN、CF3、OCF3、R、C(O)、亚甲基二氧基、亚乙基二氧基、N(R)2、SR、SOR、SO2R、SO2N(R)2、SO3R、C(O)R、C(O)C(O)R、C(O)CH2C(O)R、C(S)R、C(O)OR、OC(O)R、C(O)N(R)2、OC(O)N(R)2、C(S)N(R)2、(CH2)0-2N(R)C(O)R、(CH2)0-2N(R)N(R)2、N(R)N(R)C(O)R、N(R)N(R)C(O)OR、N(R)N(R)CON(R)2、N(R)SO2R、N(R)SO2N(R)2、N(R)C(O)OR、N(R)C(O)R、N(R)C(S)R、N(R)C(O)N(R)2、N(R)C(S)N(R)2、N(COR)COR、N(OR)R、C(＝NH)N(R)2、C(O)N(OR)R或C(＝NOR)R，其中R可以是氢(在包括其他碳原子的例子中)或基于碳的部分，并且其中基于碳的部分自身可被进一步取代。如本文所用，术语“取代的”是指这样的如本文所述的有机基团或分子，在其中，其中所含的一个或多个氢原子被一个或多个非氢原子所代替。如本文所用，术语“官能团”或“取代基”是指可取代到或取代到分子上或有机基团上的基团。取代基或官能团的例子包括但不限于：卤素(如，F、Cl、Br和I)；诸如羟基基团、烷氧基基团、芳氧基基团、芳烷氧基基团、氧代基(羰基)基团、羧基基团(包括羧酸、羧酸盐和羧酸酯)之类的基团中的氧原子；诸如硫醇基团、烷基硫化物和芳基硫化物基团、亚砜基团、砜基团、磺酰基基团和磺酰胺基团之类的基团中的硫原子；诸如胺、羟胺、腈、硝基基团、N-氧化物、酰肼、叠氮化物和烯胺之类的基团中的氮原子；以及多种其他基团中的其他杂原子。可键合到被取代的碳(或其他)原子的取代基J的非限制性例子包括F、Cl、Br、I、OR、OC(O)N(R)2、CN、NO、NO2、ONO2、叠氮基、CF3、OCF3、R、O(氧代基)、S(硫代基)、C(O)、S(O)、亚甲基二氧基、亚乙基二氧基、N(R)2、SR、SOR、SO2R、SO2N(R)2、SO3R、C(O)R、C(O)C(O)R、C(O)CH2C(O)R、C(S)R、C(O)OR、OC(O)R、C(O)N(R)2、OC(O)N(R)2、C(S)N(R)2、(CH2)0-2N(R)C(O)R、(CH2)0-2N(R)N(R)2、N(R)N(R)C(O)R、N(R)N(R)C(O)OR、N(R)N(R)CON(R)2、N(R)SO2R、N(R)SO2N(R)2、N(R)C(O)OR、N(R)C(O)R、N(R)C(S)R、N(R)C(O)N(R)2、N(R)C(S)N(R)2、N(COR)COR、N(OR)R、C(＝NH)N(R)2、C(O)N(OR)R或C(＝NOR)R，其中R可以是氢或基于碳的部分，并且其中基于碳的部分自身可被进一步取代；例如，其中R可以是氢、烷基、酰基、环烷基、芳基、芳烷基、杂环基、杂芳基或杂芳基烷基，其中任何烷基、酰基、环烷基、芳基、芳烷基、杂环基、杂芳基或杂芳基烷基或R可以独立地被J单取代或多取代；或其中键合到一个氮原子或键合到相邻氮原子的两个R基团可与所述氮原子一起形成杂环基，该杂环基可被J单取代或独立地多取代。如本文所用，术语“烷基”是指具有1至40个碳原子、1至约20个碳原子、1至12个碳原子或在一些实施例中1至8个碳原子的直链和支链烷基基团和环烷基基团。直链烷基基团的例子包括具有1至8个碳原子的那些，例如甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正己基、正庚基和正辛基基团。支链烷基基团的例子包括但不限于异丙基、异丁基、仲丁基、叔丁基、新戊基、异戊基和2,2-二甲基丙基基团。如本文所用，术语“烷基”涵盖正烷基、异烷基和反异烷基基团以及烷基的其他支链形式。代表性的取代烷基基团可由本文所列的任何基团例如氨基、羟基、氰基、羧基、硝基、硫基、烷氧基和卤素基团取代一次或多次。如本文所用，术语“烯基”是指如本文所定义的直链和支链以及环状的烷基基团，不同的是在两个碳原子之间存在至少一个双键。因此，烯基基团具有2至40个碳原子、或2至约20个碳原子、或2至12个碳原子或在一些实施例中2至8个碳原子。例子包括但不限于乙烯基、-CH＝CH(CH3)、-CH＝C(CH3)2、-C(CH3)＝CH2、-C(CH3)＝CH(CH3)、-C(CH2CH3)＝CH2、环己烯基、环戊烯基、环己二烯基、丁二烯基、戊二烯基和己二烯基等。如本文所用，术语“树脂”是指包含至少一个硅氧烷单体的任何粘度的聚硅氧烷材料，所述至少一个硅氧烷单体通过Si-O-Si键键合到三个或四个其他硅氧烷单体。在一个例子中，聚硅氧烷材料包含如本文所定义的T基团或Q基团。如本文所用，术语“辐射”是指穿过介质或空间的高能粒子。辐射的例子为可见光、红外线、微波、无线电波、超低频波、极低频波、热辐射(热)和黑体辐射。如本文所用，术语“固化”是指暴露于任何形式的辐射、加热或允许发生会导致硬化或粘度增加的物理或化学反应。如本文所用关于膜的术语“致密”是指液体材料在不发生相变以形成气相的情况下不能通过膜。致密膜可以为基本上无孔的。如本文所用，术语“孔”是指固体物体中任何大小或形状的凹陷、狭缝或孔洞。孔可贯穿物体。孔可与其他孔相交。除非另外指明，否则如本文所用关于膜的术语“无孔”是指膜基本上不具有可形成贯穿膜的厚度的从一个主要侧到另一个主要侧的路径的孔。如本文所用，术语“自支撑”或“无支撑”是指膜的两个主要侧中每一者上的大部分表面积不接触基材的膜，无论基材是多孔的或不是多孔的。在一些实施例中，“自支撑”或“无支撑”的膜可在两个主要侧上100％不受支撑。“自支撑”或“无支撑”的膜可在膜的任一主要侧或两个主要侧上的边缘处或少部分(如，小于约50％)表面积处受支撑。如本文所用，术语“受支撑”是指两个主要侧中至少一者上的大部分表面积接触基材的膜，无论基材是多孔的或不是多孔的。在一些实施例中，“受支撑”的膜可在至少一个侧上100％受支撑。“受支撑”的膜可支撑在膜的任一主要侧或两个主要侧上的大部分(如，大于约50％)表面积处任何合适的位置处。如本文所用，术语“富含”是指例如液体、气体或溶质的量或浓度增加。例如，如果通过例如气体A的选择性渗透通过膜来向混合物中添加气体A，或例如通过气体B的选择性渗透通过膜来从混合物取走气体B而增加气体A的浓度或量，则可使气体A和B的混合物富含气体A。当第一气体组分穿过膜进入另一侧上的流体中时，该流体将富含第一气体组分，而该流体与渗透过膜的气体的组合可称为渗透物。如本文所用，术语“贫乏”是指减少例如液体、气体或溶质的量或浓度。例如，如果通过例如气体B的选择性渗透通过膜来从混合物取走气体B或例如通过气体A的选择性渗透通过膜来向混合物中增加气体A而减小气体B的浓度或量，则可使气体A和B的混合物贫乏气体B。如本文所用，术语“选择性”或“理想的选择性”是指在相同温度(除非另外指明，否则假定为室温)下测得的快速渗透气体的渗透性相对于缓慢渗透气体的渗透性的比率。如本文所用，术语“渗透性”是指物质X通过膜的渗透系数(Px)，其中qmx＝Px*A*Δpx*(1/δ)，其中qmx为物质X通过膜的体积流量，A为物质X流动通过的膜的一个主要侧的表面积，Δpx为整个膜上物质X的分压的压差，并且δ为膜的厚度。Px还可表示为V·δ/(A·t·Δp)，其中Px为气体X在膜中的渗透性，V为渗透通过膜的气体X的体积，δ为膜的厚度，A为膜的面积，t为时间，Δp为气体X在渗余侧和渗透侧的压差。如本文所用，术语“巴勒”是指渗透性的单位，其中1巴勒＝10-11(cm3气体)cmcm-2s-1mmHg-1或10-10(cm3气体)cmcm-2s-1cmHg-1，其中“cm3气体”表示在标准温度和压力下将占据一个立方厘米的气体的量。如本文所用的相对于膜的术语“总表面积”是指膜暴露于进料混合物的那侧的总表面积。如本文所用，术语“空气”是指气体混合物，其组成大约与从大气中(通常在地平面)采集的气体的天然组成相同。在一些例子中，空气采集自周围环境。空气的组成包含约78％氮气、21％氧气、1％氩气和0.04％二氧化碳以及少量其他气体。如本文所用，术语“室温”是指环境温度，其可例如介于约15℃和约28℃之间。如本文所用，术语“气体”包括气相材料。如本文所用，术语“吸收”是指溶解或携带所吸收的组分。例如，流体可作为溶解气体中的至少一种以及作为任何合适大小的气泡吸收气体，以便允许在流体中转运气体。吸收过程可包括任何适用的机理，例如化学相互作用(如化学吸附)、物理相互作用(如物理吸附)、本体相互作用、表面相互作用(如吸附)或其组合。如本文所用，术语“解吸”是指逐出所吸收的组分。从液体混合物中分离挥发性硅氧烷的方法。多种实施例提供从液体混合物中分离挥发性硅氧烷的方法。该方法可包括使第一疏水膜的第一侧与包含聚合物和至少一种挥发性硅氧烷的液体进料混合物接触。该方法还可以包括使膜的第二侧与包含扫描气体、扫描液体和真空中的至少一者的扫描介质接触。进料混合物与膜的第一侧的接触以及扫描介质与膜的第二侧的接触可在膜的第二侧上产生渗透混合物并在膜的第一侧上产生渗余混合物，其中渗透混合物富含挥发性硅氧烷，而渗余混合物贫乏挥发性硅氧烷。在多种实施例中，该方法提供比已知方法例如釜汽提和刮膜蒸发器更节能、便利和温和的除去挥发性硅氧烷的方式。在一个实施例中，膜是致密有机硅中空纤维膜，并且进料流体是有机聚硅氧烷聚合物与挥发性线性或环硅氧烷的混合物。在一些实施例中，该方法可在比大体积汽提操作中更低的温度或真空度下使挥发性组分有效减少。在一些实施例中，可将诸如有机硅流体之类的扫描介质用于扫描中空纤维膜模块的壳侧或孔侧以从另一种液体中除去挥发性硅氧烷。然后可通过使用第二模块或解吸模块使扫描液体再生以供再次使用。在一些实施例中，然后可使用比吸收过程中所用的温度更高的温度(任选不使用真空泵)从有机硅扫描流体解吸挥发性组分。在包括吸收和解吸的一些实施例中，吸收可在较冷的扫描流体温度和较低的扫描流体压力中的至少一者下进行，而在解吸过程中，使用较高的扫描流体温度和较高的扫描流体压力中的至少一者。在一些实施例中，使扫描流体再循环以供再吸收，而不解吸(例如，多次通过)。在一些实施例中，含有吸收的挥发性硅氧烷的扫描流体不再生，而是送往另一过程或加以储存以供将来使用。在一些实施例中，该方法可用于汽提开环平衡产物，或可用于从多种废料流中回收环硅氧烷。该方法可从液体进料混合物中分离一种或不止一种挥发性硅氧烷。移除可包括降低进料混合物中的挥发性硅氧烷的浓度，或者移除包括从进料混合物中除去基本上所有的挥发性硅氧烷。在一些实施例中，除去一种挥发性硅氧烷的基本上全部，而仅除去另一种挥发性硅氧烷的一部分。在一些实施例中，一种挥发性硅氧烷的浓度可降低第一量，而另一种挥发性硅氧烷的浓度可降低与第一量相同或不同的第二量。该方法可从进料混合物中除去任何合适量的所述一种或多种挥发性硅氧烷。在一些例子中，渗余混合物与液体进料混合物相比少约1重量％至约99.9重量％、约40重量％至约99重量％、约70重量％至约95重量％、或约1重量％或更少、2重量％、3、4、5、10、15、20、25、30、35、40、45、50、55、60、65、70、71、72、73、74、75、76、77、78、79、80、81、82、83、84、85、86、87、88、89、90、91、92、93、94、95、96、97、98、99、99.5重量％或约99.9重量％或更多的所述一种或多种挥发性硅氧烷。本发明提供与扫描介质相结合使用膜的方法。扫描介质可接触膜的渗透侧以有助于清除穿过膜渗入渗透侧的一些或基本上全部的一种或多种挥发性硅氧烷，从而有助于维持第一组分跨膜传质的强驱动力。在膜的一侧上的液体进料混合物以及在膜的另一侧上的扫描介质可相对于彼此具有任何合适的流动构型。进料混合物和扫描介质相对于彼此的移动可降低紧邻膜的挥发性硅氧烷的浓度，这可增加挥发性硅氧烷跨过膜的传递速率。通过相对于彼此移动进料混合物和扫描介质，在给定的时间接触膜的进料混合物和扫描介质的量可增大或最大化，这可通过增加或优化挥发性硅氧烷跨过膜的传递而改善膜的分离性能。在一些例子中，进料混合物和扫描介质以相似的方向流动。在其他例子中，进料混合物和扫描介质以反向流或交错流中的至少一者流动。流动构型可以包括多种流型，例如约10、20、30、40、50、60、70、80或90％的进料混合物和扫描介质可具有交错流，而另外约90、80、70、60、50、40、30、20或10％的进料混合物和扫描介质具有反向流、类似的流动方向(例如，并流)或相对于彼此的径向流动方向(例如，孔流沿着长度方向，而扫描流沿着径向方向)。流型的任何合适的组合均包含在本发明的实施例内。膜一侧上进料混合物的流量和膜另一侧上扫描介质的流量可独立地变化以便为膜系统提供任何合适的进料混合物与扫描介质流量比。可存在最佳的进料混合物与扫描介质流量比范围以实现给定的膜系统、构造和操作条件的所需分离。当将扫描液体用于帮助从进料混合物中除去挥发性硅氧烷时，最佳的进料混合物与扫描液体流量比可与将挥发性硅氧烷从进料混合物移入扫描介质中的过程的最佳比不同。进料混合物可以按任何合适的方式接触膜(例如，一个或多个膜)。在一些实施例中，可使进料混合物以一定的压力接触膜，以使得在跨过膜的所述至少一种挥发性硅氧烷的分压中存在正梯度以驱动所述至少一种挥发性硅氧烷渗透进入膜的渗透侧。在一个例子中，使进料混物在大约环境压力下接触膜。在另一个例子中，进料混合物/渗余侧和渗透侧均保持在接近环境压力，但引向渗透侧的扫描流体或气体的压力和流量使得挥发性硅氧烷的正分压梯度得以维持。在另一个例子中，使进料混合物接触膜以使得在膜的第一侧与第二侧之间存在压差。该压差可使得进料混合物的压力(在膜的第一侧上)大于膜第二侧的压力。在一个例子中，压差因进料混合物的压力高于环境压力而引起；在此类例子中，进料混合物的压力可使用任何合适的装置例如泵升到环境压力以上。在另一个例子中，该压差因膜第二侧的压力处于环境压力或低于环境压力而引起；在此类例子中，膜第二侧的压力可使用任何合适的装置例如鼓风机或真空泵而降低到环境压力以下。在其他例子中，在膜第二侧低于环境压力以及在膜第一侧高于环境压力的组合有助于跨过膜的压差。在一些实施例中，在膜的第一侧上高于环境压力可通过以下方式实现：向膜的第一侧泵送进料混合物，并限制渗余混合物从膜的离开路径。从进料混合物中分离一种或多种挥发性硅氧烷的方法包括使膜的第二侧与扫描介质接触。膜的第二侧与扫描介质以及膜的第一侧与进料混合物的接触在膜的第二侧上产生渗透混合物并在膜的第一侧上产生渗余混合物。渗透混合物富含挥发性硅氧烷；扫描介质在接触膜之后与接触膜之前的浓度相比在其中具有更高浓度或更高量的挥发性硅氧烷中的至少一者；渗余混合物贫乏挥发性硅氧烷；进料混合物在接触膜之后与接触膜之前(作为进料混合物)的挥发性硅氧烷的浓度或量相比在其中具有更低浓度或更低量的挥发性硅氧烷中的至少一者。在一些实施例中，可调节进料混合物的温度以提供所需的分离程度，这取决于扫描介质和膜的性质。进料混合物的温度可以是任何合适的温度，例如约室温至约150℃、约-40℃至约250℃、约30℃至约150℃、约40℃至约110℃、约50℃至约90℃、或约室温、或约-40℃或更低、或约-35℃、-30、-25、-20、-15、-10、-5、0、5、10、15、20、25、30、35、40、45、50、55、60、65、70、75、80、85、90、95、100、105、110、115、120、125、130、135、140、145、150、155、160、170、180、190、200、210、220、230、240℃或约250℃或更高。在一些实施例中，扫描介质可在有利的温度和压力下引向膜的第二侧，以实现所述一种或多种挥发性硅氧烷从流体进入扫描介质的更快的传递，例如，以增大所述一种或多种挥发性硅氧烷的跨膜通量。扫描介质在接触期间可处于任何合适的温度，例如约-60℃至约150℃、约-30℃至约150℃、约-20℃至约150℃、约-10℃至约150℃、约0℃至约150℃、约10℃至约150℃、约20℃至约150℃、约10℃至约110℃、约10℃至约90℃、或约-60℃或更低、或约-55℃、-50、-45、-40、-35、-30、-25、-20、-15、-10、-5、0、5、10、15、20、25、30、40、50、55、60、65、70、75、80、85、90、95、100、105、110、115、120、125、130、135、140、145℃或约150℃或更高。进料混合物可在与膜的第一侧接触期间具有任何合适的压力。例如，进料混合物的压力可以为0.01巴至约100,000巴、或约0.5巴至约5巴、或约0.01巴或更低、0.05、0.1、0.2、0.4、0.6、0.8、1.0、1.2、1.4、1.6、1.8、2、2.5、3、3.5、4、4.5、5、6、7、8、9、10、12、14、16、18、20、25、30、40、50、75、100、150、200、250、500、750、1,000、1,500、2,500、5,000、10,000、50,000或约100,000巴或更高。扫描介质可在与膜的第一侧接触期间具有任何合适的压力。例如，扫描介质的压力可以为约0.000,01巴至约100巴、或约0.001巴至约10巴、或约0.000,01巴或更低、约0.000,1巴、0.001、0.01、0.1、0.2、0.4、0.6、0.8、1.0、1.2、1.4、1.6、1.8、2、2.5、3、3.5、4、4.5、5、6、7、8、9、10、12、14、16、18、20、25、30、40、50、75或约100巴或更高。进料混合物与扫描介质之间的压差可以是任何合适的压差，以使得可如本文所述执行所述方法。例如，进料混合物与扫描介质之间的压差可以为约0、约0.000,01巴至约100,000巴、或约0.01巴至约10,000巴、或约0.000,01巴或更低、约0.000,1巴、0.001、0.01、0.1、0.2、0.4、0.6、0.8、1.0、1.2、1.4、1.6、1.8、2、2.5、3、3.5、4、4.5、5、6、7、8、9、10、12、14、16、18、20、25、30、40、50、75、100、150、200、250、500、750、1,000、1,500、2,500、5,000、10,000、50,000或约100,000巴或更高。在一些例子中，如果让膜的第二侧的挥发性硅氧烷组分的浓度达到一定水平，则可降低挥发性硅氧烷组分从进料混合物的分离速率。可对进料混合物和扫描介质的流量进行调节而使得所述一种或多种挥发性硅氧烷发生高效且有效的分离。例如，进料混合物的流量可以为约0.001L/min至约100,000L/min、约0.1L/min至约100L/min、或约0.001L/min或更低、0.01L/min、0.1、1、2、4、6、8、10、15、20、25、50、75、100、150、200、250、500、750、1,000、1,500、2,500、5,000、7,500、10,000、15,000、20,000、25,000、50,000、75,000或约100,000L/min或更高。扫描介质的流量可以为0.001L/min至约100,000L/min、约0.1L/min至约100L/min、或约0.001L/min或更低、0.01L/min、0.1、1、2、4、6、8、10、15、20、25、50、75、100、150、200、250、500、750、1,000、1,500、2,500、5,000、7,500、10,000、15,000、20,000、25,000、50,000、75,000或约100,000L/min或更高。在一些实施例中，用于从进料混合物中除去挥发性硅氧烷的方法还可以包括：通过降低渗透混合物中所述一种或多种挥发性硅氧烷的浓度或量中的至少一者，从通过接触而产生的渗透混合物中除去所述一种或多种挥发性硅氧烷。因此，本发明可以提供以下组合：使用扫描介质从进料混合物中除去至少一种挥发性硅氧烷，以及例如通过使用第二膜或经由另一种合适的手段从用过的扫描介质中除去所述至少一种挥发性硅氧烷。该方法还可以包括使恢复的扫描介质渗透物再循环而与膜的第二侧接触，从而允许再次使用扫描介质，例如通过使解吸的渗透混合物再循环而与第一疏水膜的第二侧接触。这种再使用可提高所述一种或多种挥发性硅氧烷从进料混合物的分离效率，并可进行多个循环(例如，约2、3、4、5、10、100、1000个或更多个循环)。使所述一种或多种挥发性硅氧烷解吸可包括使第二疏水膜的第一侧与渗透混合物接触并使第二疏水膜的第二侧与扫描介质接触。用在第二过程中的扫描介质可以与用在第一过程中的扫描介质相同或不同。在一些实施例中，不循环利用扫描介质。进料混合物和挥发性硅氧烷。液体进料混合物可以是至少包含至少一种挥发性硅氧烷和至少一种聚合物的任何合适的进料混合物。进料混合物可以是通过形成聚合物的一种或多种化学反应形成的组合物，其中所述一种或多种挥发性硅氧烷中的至少一种是所需的产物，或其中所述一种或多种挥发性硅氧烷中的至少一种是副产物。进料混合物可包含一种聚合物或不止一种聚合物。聚合物可以是任何合适的聚合物，例如包含硅的聚合物，例如聚硅氧烷，例如有机聚硅氧烷。聚合物可以是本文所述的任何包含硅的聚合物。进料混合物可包含一种或多种有机聚硅氧烷。有机聚硅氧烷可具有直链的、支链的、环状的或树脂的结构。有机聚硅氧烷可为均聚物或共聚物。有机聚硅氧烷化合物可为二硅氧烷、三硅氧烷或聚硅氧烷。在一些实施例中，聚合物为烷基取代的、芳基取代的、卤代烷基取代的、卤代芳基取代的或H取代的有机聚硅氧烷，例如聚二甲基硅氧烷、聚甲基氢硅氧烷、聚甲基乙烯基硅氧烷、聚甲基苯基硅氧烷、聚二苯基硅氧烷以及它们的共聚物。有机聚硅氧烷可以被任何合适的有机官能团或取代基取代，或被有机聚合物或有机低聚物取代，如有机硅-有机共聚物的多种结构。在多种实施例中，有机聚硅氧烷可包括下式的化合物Rx3SiO(Rx2SiO)αSiRx3或(Rx3SiO1/2)w(Rx3SiO2/2)x(Rx3SiO3/2)y(SiO4/2)z。变量α的平均值可以为约零或更大，且最多为约1,000,000。0≤w<0.95、0≤x<1、0≤y<1、0≤z<0.95且w+x+y+z≈1。各Rx独立地为一价官能团，例如-H、取代或未取代的(C1-C20)烷基(例如，甲基、乙基、丙基、戊基、辛基、十一烷基、十八烷基)、取代或未取代的(C6-C20)芳基(如，苯基、甲苯基、二甲苯基、苄基、2-苯乙基)、取代或未取代的(C2-C20)烯基、卤素、(C1-20)烷氧基、乙烯基、烯丙基、己烯基、取代或未取代的(C2-C20)炔基、卤素取代的(C1-20)烷基或(C6-C20)芳基(如，三氟丙基)、羟基、烷氧基、杂芳基、取代和未取代的环烷基。各Rx也可以为有机基团，或式Ry-Q的基团，其中Q包括有机基团，例如羧基、卤素、取代或未取代的胺(伯胺、仲胺或叔胺)、乙烯基、烯丙基、酸酐、巯基、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、丙烯酰胺、低聚醚、聚醚、异氰酸酯、环氧基、环环氧基(cycloepoxy)、羟基、卤素、羧酸根、酸酐、异氰酸酯、硫化物和天然存在的或生物来源的基团(如，糖、肽、纤维素)、离子基团(如，铵)、氰基(C1-C20)烷基(如，氰乙基基团、氰丙基)以及夹杂有选自-O-、-NH-和-S-的0、1、2或3个基团或以它们封端的取代或未取代的(C1-C20)烃基。变量Ry独立地为二价间隔基团，该间隔基团为1至12个碳原子的取代或未取代的亚烷基基团或式(R9O)p的基团，其中R9为二价有机基团，例如1至12个碳原子的亚烷基基团，下标p为从1至50范围内的整数，并且各R9O可以相同或不同。在一些例子中，Ry为亚甲基、亚乙基或亚丙基。变量Rx也可以独立地包括其他有机官能团，例如缩水甘油基、胺、醚、氰酸酯、异氰基、酯、烷氧基、酰氧基、羧酸、羧酸盐、琥珀酸根、酸酐、巯基、硫化物、酮肟、叠氮化物、膦酸根、膦、经掩蔽的异氰基、羟基以及它们的组合。变量Rx也可包括环烷基基团，包括但不限于环己基基团。变量Rx可以是烷氧基聚(氧化烯基)基团，例如丙氧基聚(氧乙烯)、丙氧基聚(氧丙烯)、丙氧基-聚(氧丙烯)-共-聚(氧乙烯)、它们的卤素取代的形式以及它们的组合。变量Rx可包括卤代烃基，包括但不限于3,3,3-三氟丙基、3-氯丙基、二氯苯基和6,6,6,5,5,4,4,3,3-九氟己基基团以及它们的组合。变量Rx可包括咔唑基团，例如3-(N-咔唑基)丙基；芳基氨基官能团，例如4-(N,N-二苯基氨基)苯基-3-丙基；以及卤代烃基团，例如3,3,3-三氟丙基、3-氯丙基、二氯苯基和6,6,6,5,5,4,4,3,3-九氟己基。在一些例子中，有机聚硅氧烷可以是二甲基乙烯基封端的二甲基硅氧烷、二甲基乙烯基化和三甲基化的二氧化硅、四甲基四乙烯基环四硅氧烷、二甲基乙烯基甲硅烷氧基封端的聚二甲基硅氧烷、三甲基甲硅烷氧基封端的聚二甲基硅氧烷-聚甲基乙烯基硅氧烷共聚物、二甲基乙烯基甲硅烷氧基封端的聚二甲基硅氧烷-聚甲基乙烯基硅氧烷共聚物或四甲基二乙烯基二硅氧烷。在一些例子中，前述列表中结构的乙烯基基团可被烯丙基、己烯基、丙烯酸基、甲基丙烯酸基或其他硅氢加成反应性或自由基可聚合的不饱和基团(例如丙烯酰氧基丙基基团和甲基丙烯酰氧基丙基基团)取代。在一些例子中，有机聚硅氧烷可包括主要含有CH2＝CH(CH3)2SiO1/2单元、(CH3)3SiO1/2单元和SiO4/2单元的有机聚硅氧烷树脂，或者可以是PhSi(OSiMe2Vi)3、Si(OSiMe2Vi)4、MeSi(OSiMe2Vi)3或Ph2Si(OSiMe2Vi)2。在一些例子中，有机聚硅氧烷可包括低聚的二甲基硅氧烷(D)-甲基乙烯基硅氧烷(DVi)二醇。在一些实施例中，有机聚硅氧烷可以是有机氢硅氧烷，例如1,1,3,3-四甲基二硅氧烷、1,1,3,3-四苯基二硅氧烷、苯基三(二甲基甲硅烷氧基)硅烷、1,3,5-三甲基环三硅氧烷、三甲基甲硅烷氧基封端的聚(甲基氢硅氧烷)、三甲基甲硅烷氧基封端的聚(二甲基硅氧烷/甲基氢硅氧烷)、二甲基氢甲硅烷氧基封端的聚(甲基氢硅氧烷)、甲基氢甲硅烷氧基封端的聚二甲基硅氧烷或二甲基氢甲硅烷氧基封端的聚(二甲基硅氧烷/甲基氢硅氧烷)。在另一个实施例中，有机聚硅氧烷包括通过使具有聚合物主链的有机化合物与有机聚硅氧烷化合物共聚而形成的化合物，以使得每个共聚物平均存在至少一个可自由基聚合的基团。合适的有机化合物包括但不限于基于烃的聚合物例如聚异丁烯、聚丁二烯、聚异戊二烯、聚烯烃例如聚乙烯、聚丙烯和聚乙烯-聚丙烯共聚物、聚苯乙烯、苯乙烯-丁二烯和丙烯腈-丁二烯-苯乙烯、聚丙烯酸酯、聚醚例如聚氧乙烯和聚氧丙烯、聚酯例如聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚酰胺、聚碳酸酯、聚酰亚胺、聚脲、聚甲基丙烯酸酯、部分氟化或全氟化的聚合物例如聚四氟乙烯、氟化橡胶、末端不饱和烃、烯烃、聚烯烃以及它们的组合。有机化合物也可以包括共聚物，包括具有多个有机官能团、多个有机聚硅氧烷官能团以及有机聚硅氧烷与有机化合物的组合的聚合物。共聚物可包含处于无规、接枝或嵌段排列的重复单元。在一些实施例中，进料混合物可包含有机硅烷，例如二苯基硅烷、2-氯乙基硅烷、双[(对二甲基甲硅烷基)苯基]醚、1,4-二甲基二甲硅烷基乙烷、1,3,5-三(二甲基甲硅烷基)苯、1,3,5-三甲基-1,3,5-三硅烷、聚(甲基亚甲硅烷基)亚苯基化物和聚(甲基亚甲硅烷基)亚甲基化物。在一些实施例中，进料混合物可基本上不含有机聚硅氧烷乳液，如包含有机聚硅氧烷的乳液。在多种实施例中，低于30重量％、25、20、15、10、8、6、4、2、1、0.5、0.1、0.01或低于0.001重量％的进料混合物可以是包含有机聚硅氧烷的乳液。在其他实施例中，进料混合物包括含有有机聚硅氧烷的乳液。液体进料混合物可具有50体积％或更多的液体，或约55体积％、60、65、70、75、80、85、90、95、96、97、98、99、99.5、99.9或约99.99体积％的液体，而其余的则为气相。在进料混合物中，所述一种或多种挥发性硅氧烷可独立地处于液相、气相或它们的组合。挥发性硅氧烷可以是任何合适的硅氧烷，以使得可如本文所述执行所述方法，例如本文所述的任何合适的硅氧烷。例如，挥发性硅氧烷可以是线性硅氧烷或环硅氧烷。环硅氧烷可以是取代或未取代的并且可在环硅氧烷的一个或多个聚硅氧烷环中具有约4-20个-Si-O-单元。在一些实施例中，环硅氧烷具有单个环，该环具有约4、5、6、7、8、9、10、11、12或约13个-Si-O-。在多种实施例中，挥发性硅氧烷可以为六甲基二硅氧烷、八甲基三硅氧烷、十甲基四硅氧烷、十二甲基五硅氧烷、六甲基环硅氧烷(D3)、八甲基环四硅氧烷(D4)、十甲基环五硅氧烷(D5)、十二甲基环六硅氧烷(D6)以及线性和环状聚二甲基硅氧烷的高级低聚物，或它们的组合。在一些例子中，挥发性硅氧烷可具有式M-D’x-M、M-Dx-D’y-M、M’-Dx-M’、M’-Dx-D’y-M’、Dx、Dy、D’x或D’y，其中M代表[O0.5Si(Me)3]，-D-为[OSi(Me)2]，其中M’或D’表示取代的M或D基团，其中所述一个或多个取代基可以是任何一个或多个合适的取代基，例如-H、卤素、(C1-C20)烷基、(C6-C20)芳基、(C2-C20)烯基、卤素取代的(C1-20)烷基或(C6-C20)芳基(如，三氟丙基)、取代或未取代的胺、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、低聚醚、异氰酸酯、环氧基以及夹杂有选自-O-、-NH-和-S-的0、1、2或3个基团或以它们封端的取代或未取代的(C1-C20)烃基，其中x和y各自独立地为1至约1,000、约1至约500、或约1、2、3、4、5、6、8、10、12、14、16、18、20、25、30、35、40、45、50、60、70、80、90、100、120、140、160、180、200、250或约500或更大。扫描介质。所述方法包括使疏水膜的第二侧与扫描介质接触。扫描介质可包括真空、环境压力或大于环境压力。扫描介质可包括气体、液体，或者气体或液体的组合。气体可以是任何合适的气体，例如环境空气、压缩空气、氧气、氮气、氦气或氩气。液体可以是任何合适的液体，例如含水液体、有机溶剂或硅流体，例如有机硅流体。真空可以是任何合适的真空，并且可以基于以下至少一者：挥发性硅氧烷的蒸气压、系统的温度以及进料混合物和扫描介质的流量。真空泵前面可以加上阱，以使得挥发性硅氧烷不进入泵。在一些实施例中，扫描介质包括有机硅流体。有机硅流体可以为吸收剂和吸附剂中的至少一者，例如，有机硅流体可以为吸着剂流体。有机硅流体可以包含有机硅氧烷和有机硅烷中的至少一者。在一些实施例中，有机硅流体为基本上不挥发的，并具有适中的粘度(例如在1rad/s下10至500cP)以使得可以泵送且在使用温度下稳定，而不用使用过多的能量来输送流体。扫描流体可基本上不与进行吸收的挥发性硅氧烷反应，并任选不与进料混合物的其他组分反应。有机硅流体包含至少一种有机硅化合物，并且可以额外包含任何其他合适的化合物，包括任何合适的有机或无机组分，包括不含硅的组分，包括任何合适的溶剂或非溶剂。有机硅流体可以为例如硅烷(如，有机硅烷)、聚硅烷(如，有机聚硅烷)、硅氧烷(如，有机硅氧烷，例如有机单硅氧烷或有机聚硅氧烷)或聚硅氧烷(如，有机聚硅氧烷)，例如本领域已知的此类化合物中的任何合适的一种。有机硅烷可以是一硅烷、二硅烷、三硅烷或聚硅烷。相似地，有机硅氧烷可以是二硅氧烷、三硅氧烷或聚硅氧烷。有机硅化合物的结构可以是直链的、支链的、环状的或树脂的。环硅烷和环硅氧烷可具有3至12个硅原子，或者3至10个硅原子，或者3至4个硅原子。扫描介质的性质允许其以合适的速度和以足够的量吸收所述一种或多种硅氧烷，以使得发生足够有效的分离过程。在包括随后从扫描介质中解吸所述一种或多种挥发性硅氧烷的实施例中，扫描介质的性质允许其解吸所述一种或多种挥发性硅氧烷以在适当短的时间周期内在扫描介质中实现适当低浓度的所述一种或多种挥发性硅氧烷，以使得发生足够有效的分离过程。在包括吸收和从扫描介质中解吸的实施例中，扫描介质在独立选择的方法条件(压力、温度、浓度、流量、液体/气体比和膜面积)下所具有的性质允许其在适当的时长内并以适当大的体积吸收和解吸所述一种或多种挥发性硅氧烷，以使得发生足够有效的吸收和解吸。虽然一些扫描介质(例如包含有机硅流体的液体)可具有允许实现有效的组合式吸收和解吸过程的性质的正确平衡，但是其他的扫描介质可要么更适于吸收过程要么更适于解吸过程。在多种实施例中，所述扫描介质可有利地比用于从液体进料混合物中分离挥发性硅氧烷的其他方法中的扫描介质更适于吸收、解吸或吸收/解吸循环，从而提供比其他方法更节能或成本更低的方法。将认识到的是，根据扫描介质的用途，某些特性可能更有价值。例如，在不循环利用扫描介质的吸收过程中，主要是扫描介质的吸收性质有价值。又如，在不循环利用扫描介质的组合式吸收/解吸过程中，在一些例子中，主要是扫描介质的解吸性质有价值。然而，在循环利用扫描介质的过程中，有益的吸收性质和解吸性质的有效组合是可取的。在多种实施例中，有机硅流体可包含具有至少一个硅键合的取代基的有机硅(如，有机聚硅氧烷、有机硅氧烷或有机硅烷)，该取代基选自：取代或未取代的(C1-C20)烷基、甲基、乙基、丙基、丁基、取代或未取代的(C6-C20)芳基、苯基、取代或未取代的(C2-C20)炔基、卤素取代的(C1-20)烷基(如，三氟甲基、三氟丙基、九氟己基)或(C6-C20)芳基(如，五氟苯基)、低聚醚、聚醚(如，聚(氧化(C2-5)烯基)，以及夹杂有选自-O-、-NH-和-S-的0、1、2或3个基团或以它们封端并且任选不含脂族不饱和度的取代或未取代的(C1-C20)烃基。在一些实施例中，一个或多个硅键合的取代基键合到非末端硅原子。吸收剂有机硅流体可具有足够的官能度以使得其可吸收第一组分的至少一些，例如约0.1重量％或更少、或约1重量％、2、3、4、5、10、20、30、40、50、60、70、80、90、95、96、97、98、99、或约99.9重量％或更多，例如约1-99.9999重量％、1-40重量％、1-20重量％、1-10重量％、40-99.999重量％或约50-99.99重量％。有机硅化合物可平均含有约0.001摩尔％至约100摩尔％的非烷基或非甲基的硅键合基团，例如约0.001摩尔％或更少、约0.01、0.1、0.5、1、2、3、4、5、6、8、10、12、14、16、18、20、25、30、40、50、60、70、80、90、95、96、97、98、99或约99.9摩尔％或更多，其中在有机聚硅氧烷中，硅键合的官能团的摩尔百分比是具有硅键合的基团的有机聚硅氧烷中的硅氧烷单元的摩尔数与有机聚硅氧烷中硅氧烷单元的总摩尔数的比率乘以100。在一些实施例中，吸收剂有机硅流体可以是取代或未取代的聚二((C1-C10)烃基)硅氧烷(其中各烃基在每次出现时独立地选择并任选不含脂族不饱和度)。在一些实施例中，有机硅流体是有机硅烷流体。在一个例子中，有机硅烷可具有式R13Si-R2-SiR13，其中R1是选自以下的硅键合的取代基：取代或未取代的(C1-C20)烷基(如，甲基、乙基、丙基、丁基)、取代或未取代的(C6-C20)芳基(如，苯基)、取代或未取代的(C2-C20)炔基或(C2-C20)烯基、卤素取代的(C1-20)烷基(如，三氟甲基、三氟丙基、九氟己基)、卤素取代的(C6-C20)芳基(如，五氟苯基)、低聚醚、聚醚(如，聚(氧化(C2-5)烯基)，以及夹杂有选自-O-、-NH-和-S-的0、1、2或3个基团中断或以它们封端并且任选不含脂族不饱和度的取代或未取代的(C1-C20)烃基。变量R2可以是不含脂族不饱和度的亚烃基基团，其具有选自以下的式：单芳基，例如1,4-二取代的苯基、1,3-二取代的苯基；或二芳基，例如4,4’-二取代的-1,1’-联苯基、3,3’-二取代的-1,1’-联苯基或具有包含将一个芳基基团桥接到另一个的1至6个亚甲基基团的烃链的类似二芳基。在多种实施例中，有机硅流体可以包含或可以为有机硅氧烷流体。在一些实施例中，有机硅氧烷流体可包含有机聚硅氧烷化合物。有机聚硅氧烷化合物可以为非官能化的，而仅用烷基基团取代各甲硅烷氧基基团。有机聚硅氧烷化合物可以为官能化的，其中用烷基基团之外的基团(如，甲基基团之外的基团)取代至少一个甲硅烷氧基基团，例如选自以下的硅键合的取代基：取代或未取代的(C1-C20)烷基、甲基、乙基、丙基、丁基、取代或未取代的(C6-C20)芳基、苯基、取代或未取代的(C2-C20)炔基、卤素取代的(C1-20)烷基(如，三氟甲基、三氟丙基、九氟己基)或(C6-C20)芳基(如，五氟苯基)、低聚醚、聚醚(例如，聚(氧化(C2-5)烯基)，以及夹杂有选自-O-、-NH-和-S-的0、1、2或3个基团或以它们封端并且任选不含脂族不饱和度的取代或未取代的(C1-C20)烃基。在一些例子中，有机聚硅氧烷化合物平均每个分子具有至少一个、两个或多于两个非烷基(例如，非甲基)官能团。有机聚硅氧烷化合物可具有直链的、支链的、环状的或树脂的结构。有机聚硅氧烷化合物可为均聚物或共聚物。有机聚硅氧烷化合物可为二硅氧烷、三硅氧烷或聚硅氧烷。在一些实施例中，有机硅流体主要包含一种或多种有机聚硅氧烷。在多种实施例中，有机硅流体可包含0.1重量％或更少的有机聚硅氧烷，或1重量％、2、3、4、5、10、20、30、40、50、60、70、80、90、95、96、97、97、98、99或约99.9重量％或更多的有机聚硅氧烷。在一些实施例中，有机硅流体可包含约1-99.9999重量％、40-99.999重量％或约60-99.99重量％的有机聚硅氧烷。吸收剂有机硅流体的例子可包括以下一者或多者：聚二甲基硅氧烷、聚二乙基硅氧烷、聚甲基苯基硅氧烷、聚二苯基硅氧烷、四正丁基硅烷、五氟苯基三甲基硅烷、1,3-二苯基-1,1,3,3,-四甲基二硅氧烷、八甲基-T-8-倍半硅氧烷、苯基三(三甲基甲硅烷氧基)硅烷、四(三甲基甲硅烷氧基)硅烷、1,1,3,3-四苯基二甲基二硅氧烷、1,1,5,5-四苯基-1,3,3,5-四甲基三硅氧烷、九氟己基三甲基硅烷、三氟甲基三甲基硅烷和3,5,7-三苯基九甲基五硅氧烷以及它们的共聚物或相容混合物。扫描介质可包含一种化合物或不止一种化合物。在一些实施例中，扫描介质可包含有机硅流体、有机油、聚醚或其卤素取代的形式。扫描介质可包含溶于其中或悬浮在其中的一种或多种有机化合物，其中该化合物可以为液体、固体或气体(例如，在标准温度和压力下为纯的形式)。在一些实施例中，扫描介质可预充有适当含量的挥发性硅氧烷组分，其含量适于有效地操作吸收过程与解吸或再生过程。扫描介质还可以任选含有热稳定剂、消泡剂、流变改性剂、腐蚀抑制剂、酸清除剂、碱清除剂、染料、颜料、表面活性剂或它们的组合，以便使得溶液更适于长期使用和监测。特定的扫描介质具有可吸收给定量的特定挥发性硅氧烷所拥有的特征性速度。不同的扫描介质在关于以下方面可具有不同的吸收某些挥发性硅氧烷的能力：可吸收的挥发性硅氧烷的体积，以及扫描介质开始变得被挥发性硅氧烷饱和时的挥发性硅氧烷浓度。随着扫描介质变得被特定的挥发性硅氧烷饱和，吸收速率可降低。当扫描介质与开始发生饱和时的浓度相比相对贫乏特定的挥发性硅氧烷时，挥发性硅氧烷的吸收速率可以更高。因此，为了最大程度提高从进料混合物中除去所述一种或多种挥发性硅氧烷的效率，扫描介质可贫乏所述一种或多种挥发性硅氧烷(与饱和的或半饱和的状态相比)。疏水膜。疏水膜可以是如本文进一步描述的任何合适的膜或膜的组合。例如，对于包括将挥发性硅氧烷吸收到扫描介质中或将挥发性硅氧烷从扫描介质解吸的方法，第一膜或第二膜可以为任何大小、形状或形状系数的单个膜或一堆或一批膜，包括中空纤维膜的模块。所述一个或多个膜可选择性渗透进料混合物中的任一种或多种挥发性硅氧烷。在包括中空纤维膜的实施例中，纤维可全体具有孔侧和壳侧(如，例如在特定的中空纤维膜模块中)，其中包括以下至少一者：1)中空纤维膜的第一侧为孔侧而中空纤维膜的第二侧为壳侧，以及2)中空纤维膜的第一侧为壳侧而中空纤维膜的第二侧为孔侧。膜的实施例包括有机硅组合物的固化产物，例如有机聚硅氧烷组合物的固化产物。可以使用多种固化方法，包括任何合适的固化方法，包括例如硅氢加成固化、缩合固化、自由基固化、胺-环氧固化、辐射固化、冷却或其任意组合。本发明的方法包括使用一个或多个膜。所述膜中的一者或多者可以是致密膜。所述膜中的一者或多者可以是无孔的。一些类型的孔可从膜的一个主要侧穿透到另一个主要侧，例如大致呈圆柱体状的圆柱形孔，或例如海绵孔，例如包括无规成形的腔体或通道而这些腔体或通道形成从一个主要侧到另一个主要侧的连接的孔。一些类型的孔不从膜的一个主要侧穿透到另一个主要侧，例如盲孔，也称为表面孔。一些类型的海绵孔也可不从膜的一个主要侧穿透到另一个主要侧。在一些实施例中，本发明的致密膜可基本上不含孔，既基本上不含从一个主要侧穿透到另一个主要侧的孔，也基本上不含不从一个主要侧穿透到另一个主要侧的孔，例如每mm2少于约100,000个孔，或每mm2少于约10,000、1000、100、50、25、20、15、10、5或少于约1个孔。在一些实施例中，致密膜可基本上不含从一侧穿透到另一侧的孔，例如每mm2少于约100,000个穿透孔，或每mm2少于约10,000、1000、100、50、25、20、15、10、5或少于约1个穿透孔，但该膜也可包含任何合适数量的不从膜的一个主要侧穿透到另一个主要侧的孔，例如表面孔和海绵孔中的至少一种，比如等于或多于每mm2约100,000个非穿透孔，或每mm2少于10,000、1000、100、50、25、20、15、10、5或等于或多于约1个非穿透孔。在一些实施例中，致密膜可具有基本上零个从膜的一个主要侧穿透到另一个主要侧的直径大于约0.00001、0.0001、0.001、0.005、0.01、0.05、0.1、0.2、0.3、0.4、0.5、0.6、0.7、0.8、0.9、1或大于约2μm的孔，例如每mm2少于约100,000个孔，或每mm2少于约10,000、1000、100、50、25、20、15、10、5或少于约1个孔。孔径可通过其路径贯穿膜的整个厚度或仅部分穿过膜的孔的平均大小来确定。孔径可通过膜表面的孔的平均大小来确定。可使用任何合适的分析技术来确定孔径。实施例涵盖这样的致密膜，其具有在本段落中给出的各类型孔的尺寸的大约最大值的任意组合，所述各类型孔为：贯穿膜的孔、圆柱体孔、海绵孔、盲孔、任何其他类型的孔或其组合。在一些实施例中，致密膜确实具有一直穿过膜的孔、圆柱体孔、海绵孔、盲孔和任何其他类型的孔中的至少一种，其中该孔的尺寸小于本段中给出的尺寸的最大值。所述一个或多个膜可具有任何合适的厚度。在一些例子中，所述一个或多个膜的厚度为约1μm至约20μm，或约2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14或15μm至约20μm。在一些例子中，所述一个或多个膜的厚度为约0.1μm至约300μm，或约10、15、20、25或30μm至约200μm。在其他例子中，所述一个或多个膜的厚度为约0.01μm至约2000μm，或约0.01μm或更小，约0.1μm、1、2、3、4、5、10、15、20、25、30、40、50、60、70、80、90、100、110、120、130、140、150、160、170、180、190、200、210、220、230、240、250、260、270、280、290、300、350、400、500、600、700、800、900、1000、1250、1500、1750μm或约2000μm或更大。所述一个或多个膜可选择性渗透一种物质胜过另一种物质。在一个例子中，所述一个或多个膜可选择性渗透一种挥发性硅氧烷胜过其他挥发性硅氧烷或胜过进料混合物中的其他材料。在一些实施例中，当在不存在扫描介质的情况下在室温进行测试时，膜具有约0.001或更小，或至少约0.01巴勒、0.1、1、5、10、20、30、40、50、60、70、80、90、100、120、140、160、180、200、240、280、300、400、500、600、700、800、900、1000、1200、1400、1600、1800或至少约2000巴勒的所述一种或多种挥发性硅氧烷的渗透系数。所述一个或多个膜可具有任何合适的形状。在一些例子中，所述一个或多个膜为板框式膜、螺旋缠绕膜、管状膜、毛细纤维膜或中空纤维膜。所述一个或多个膜可以为含有多个中空纤维膜且每根纤维具有孔侧和壳侧的中空纤维膜模块。所述中空纤维膜模块中的纤维可全体具有能通过模块每侧上的单个连接器而进入的孔侧和壳侧。或者，所述中空纤维膜模块中的纤维可具有能通过置于模块中的各个点的多个连接器而进入的孔侧和壳侧。在所述方法的一些实施例中，进料混合物可接触所述一个或多个中空纤维膜的孔侧，而扫描介质可接触壳侧。在所述方法的其他实施例中，进料混合物可接触所述一个或多个中空纤维膜的壳侧，而扫描介质可接触孔侧。所述一个或多个膜可以为自支撑的或由多孔基材支撑。在一些实施例中，所述一个或多个膜的任一侧上的压力可以大致相同。在其他实施例中，在所述一个或多个膜的一侧与所述一个或多个膜的另一侧之间可存在压差。例如，在所述一个或多个膜的进料和渗余侧上的压力可高于在所述一个或多个膜的渗透侧上的压力。在其他例子中，在所述一个或多个膜的渗透侧上的压力可高于在所述一个或多个膜的渗余侧上的压力。分离可使用任意数量的膜来实现。可以使用自支撑和受支撑膜的任意组合。可以使用所述一个或多个膜的任何合适的表面积。例如，每个膜的表面积或膜的总表面积可为约0.01m2、0.1、1、2、3、4、5、10、100、200、300、400、500、600、700、800、900、1000、1200、1400、1600、1800、2000、2200、2400、2600、2800、3000、3200、3400、3800、4000、5000、10,000、50,000、100,000、500,000或约1,000,000m2。在一个例子中，所述一个或多个膜是一个或多个中空管或纤维膜。可以使用任何数量的中空管或纤维膜。例如，可将1个中空管或纤维膜、2、3、4、5、10、20、50、100、500、1000、2000、5000、10,000、100,000或约1,000,000个中空管或纤维膜一起用作所述一个或多个膜。在一个例子中，所述一个或多个膜是交联有机硅或有机聚硅氧烷中空管或纤维膜。在一个例子中，所述一个或多个膜是一个或多个自支撑中空管或纤维膜(如，不具有多孔载体)。在一个例子中，所述一个或多个膜是交联有机硅或有机聚硅氧烷自支撑中空管或纤维膜(例如，不具有多孔载体)。所述一个或多个中空管或纤维膜可以为模块化盒的形式，以使得可容易地更换或维护所述一个或多个膜。在一个实施例中，所述一个或多个中空管或纤维膜的内侧可以是所述一个或多个膜的第一侧，而所述一个或多个中空管或纤维膜的外侧可以是所述一个或多个膜的第二侧。在另一个实施例中，所述一个或多个中空管或纤维膜的外侧可以是所述一个或多个膜的第一侧，而所述一个或多个中空管或纤维膜的内侧可以是所述一个或多个膜的第二侧。在一些例子中，在所述一个或多个中空管或纤维膜的第一侧与第二侧之间维持压差。在一些实施例中，本发明的多种实施例可提供使从扫描介质到进料组分或渗余组分的热传递有限或没有热传递或反之亦然的模块。在其他实施例中，本发明的多种实施例可提供允许从介质到进料组分或渗余组分发生实质性热传递或反之亦然的模块。例如，本发明可提供允许进料组合物与扫描介质之间同时发生热和质量交换的系统。在本发明的一些实施例中，膜被支撑在多孔或高渗透性的无孔基材上。基材可为任何合适的基材。在受支撑膜中，膜的两个主要侧中的至少一者的大部分表面积接触多孔或高渗透性的无孔基材。多孔基材上的受支撑膜可被称为复合膜，其中所述膜为膜与多孔基材的复合物。其上设置受支撑膜的多孔基材可允许气体或液体穿过孔并到达膜。受支撑膜可附接(如，粘附)到多孔基材。受支撑膜可与基材接触而不粘附。多孔基材可以是与膜部分一体化、完全一体化或未一体化的。在一些实施例中，膜是无支撑的，也称为自支撑。自支撑的膜的两个主要侧中的每一者上的大部分表面积不接触基材，无论基材是多孔的或不是多孔的。在一些实施例中，自支撑的膜可以是100％无支撑的。自支撑的膜可在边缘处或在膜的任一或两个主要侧上的少部分(如，小于50％)表面积处受支撑。自支撑膜可以具有任何合适的形状，无论受支撑的自支撑膜百分数为怎样。所述自支撑膜的合适形状的例子包括例如具有任何厚度(包括可变厚度)的正方形、矩形、圆形、管、立方体、球体、锥体、圆柱体及其平坦部分。所述一个或多个膜可包含有机硅组合物的固化产物。有机硅组合物可以为任何合适的有机硅组合物。有机硅组合物的固化得到该有机硅组合物的固化产物。可固化的有机硅组合物包含至少一种合适的有机聚硅氧烷化合物。有机硅组合物包含合适的成分使得该组合物能以任何合适的方式固化。除了所述至少一种合适的聚硅氧烷外，有机硅组合物可包含任何合适的附加成分，包括任何合适的有机或无机组分，包括不含硅的组分，或包括不含聚硅氧烷结构的组分。在一些例子中，有机硅组合物的固化产物包含聚硅氧烷。可固化的硅组合物可包含所具有的性质允许组合物固化的分子组分。在一些实施例中，允许有机硅组合物固化的性质为特定的官能团。在一些实施例中，各个化合物包含官能团或具有允许有机硅组合物通过一种或多种固化方法固化的性质。在一些实施例中，一种化合物可包含允许有机硅组合物按一种方式固化的官能团或具有允许有机硅组合物按一种方式固化的性质，而另一种化合物可包含允许有机硅组合物按相同或不同的方式固化的官能团或具有允许有机硅组合物按相同或不同的方式固化的性质。允许固化的官能团可位于化合物中的侧基位置或适用时位于末端位置。可固化的硅组合物可包含有机硅化合物。有机硅化合物可以为任何有机硅化合物。有机硅化合物可以为例如硅烷(如，有机硅烷)、聚硅烷(如，有机聚硅烷)、硅氧烷(如，有机硅氧烷，例如有机单硅氧烷或有机聚硅氧烷)或聚硅氧烷(如，有机聚硅氧烷)或聚硅氧烷-有机聚合物，例如本领域已知的此类化合物中的任何合适的一种。可固化的有机硅组合物可包含任何数量的合适的有机硅化合物以及任何数量的合适的有机化合物。有机硅化合物可包含允许固化的任何官能团。在一些实施例中，有机硅化合物可包含硅键合的氢原子，例如有机氢硅烷或有机氢硅氧烷。在一些实施例中，有机硅化合物可包含烯基基团，例如有机烯基硅烷或有机烯基硅氧烷。在其他实施例中，有机硅化合物可包含允许固化的任何官能团。有机硅烷可以是一硅烷、二硅烷、三硅烷或聚硅烷。相似地，有机硅氧烷可以是二硅氧烷、三硅氧烷或聚硅氧烷。有机硅化合物的结构可以是直链的、支链的、环状的或树脂的。环硅烷和环硅氧烷可具有3至12个硅原子，或者3至10个硅原子，或者3至4个硅原子。有机硅化合物可以为有机聚硅氧烷化合物。在一些例子中，有机聚硅氧烷化合物平均具有至少一个、两个或多于两个允许固化的官能团。有机聚硅氧烷化合物可具有直链的、支链的、环状的或树脂的结构。有机聚硅氧烷化合物可为均聚物或共聚物。有机聚硅氧烷化合物可为二硅氧烷、三硅氧烷或聚硅氧烷。有机聚硅氧烷化合物可以是单种有机聚硅氧烷或包含两种或更多种在以下性质中的至少一个有所不同的有机聚硅氧烷的组合：结构、粘度、平均分子量、硅氧烷单元和排序。系统在多种实施例中，本发明提供用于从液体混合物中分离挥发性硅氧烷的系统。该系统可以是可执行本文所述的方法的实施例的任何合适的系统。例如，该系统可包括第一疏水膜。该系统可包括含有聚合物和至少一种挥发性硅氧烷的液体进料混合物，该液体进料混合物接触第一疏水膜的第一侧。该系统可包括含有扫描气体、扫描液体和真空中的至少一者的扫描介质，该扫描介质接触膜的第二侧。该系统可包括在膜的第二侧上的渗透混合物，该渗透混合物通过使第一侧与进料混合物以及使第二侧与扫描介质接触而形成，其中该渗透混合物富含挥发性硅氧烷。该系统包括在膜的第一侧上的渗余混合物，该渗余混合物通过使第一侧与进料混合物以及使第二侧与扫描介质接触而形成，其中该渗余混合物贫乏挥发性硅氧烷。实例可参考以举例说明方式提供的以下实例来更好地理解本发明的多种实施例。本发明不限于本文给出的实例。实例1。使用真空从进料到孔侧的有机硅流体除去八甲基环四硅氧烷(D4)。制备704g50cSt聚二甲基硅氧烷(“PDMS”)(XiameterTM，道康宁公司(DowCorning))和96gD4的混合物(“混合物1”)并在瓶中彻底混合。使用具有1.42mm内径管的ManostatCarterCassette泵将混合物泵入致密有机硅中空纤维膜(HFM)模块(梅达雷公司(MedArray,Inc.))的孔侧。有机硅中空纤维膜模块包括足够数量的约8cm有效长度、300微米外径和190微米内径的纤维以构成2500cm2的表面积，其中多孔圆柱形管朝连接到外部端口的纤维束的中心轴向向下取向，纤维围绕所述外部端口布置以允许在壳侧上的径向交错流。将流体泵送通过一段1/8英寸的不锈钢管，然后进入HFM模块。将不锈钢管和模块中的每一者缠上由单独的温度控制器控制的加热带。两者还缠上玻璃纤维绝缘层。以5rpm的设置(对应于0.6mL/min的大致速率)将混合物泵送通过模块。通过与进料端口处于模块的相对末端上的真空端口，将模块的壳侧用真空泵抽空达到1.2托的压力。将模块上未使用的端口密封。监测进入和退出分离模块的流体温度。将流体泵送到废料中直到实现稳态。该实例的稳态温度为流体入口的87℃和流体出口的73℃。将汽提后的流体收集在清洁的容器中。最终的汽提材料通过重量分析而检测挥发物含量。将大约2g材料置于铝杯中，然后将该杯子在150℃加热1小时。存在0.73％的总重量损失，这对应于混合物中的原始D4除去了90.2g或93.9重量％。将样品放回烘箱中在150℃再保持一小时，然后再次称重。从加热的第一小时到第二小时，质量变化可以忽略不计，从而确认在1小时/150℃完全地测量了挥发物含量。用于供往孔侧的进料的汽提的模块装置的示意图在图1中示出。虽然图1示出了仅一个端口连接到真空而另外的端口被堵住的设备，但在其他实施例中，2个或3个端口可以连接到真空。实例2。使用真空从进料到孔侧的有机硅流体除去十甲基环五硅氧烷(D5)。制备704g50cStPDMS和96gD5的混合物(“混合物2”)并在瓶中彻底混合。使用具有1.42mm内径管的ManostatCarterCassette泵将混合物泵入致密有机硅中空纤维膜(HFM)模块(梅达雷公司)的孔侧。HFM模块与实例1中所用的相同。将流体泵送通过一段1/8英寸的不锈钢管，然后进入HFM模块。将不锈钢管和模块中的每一者缠上由单独的温度控制器控制的加热带。两者还缠上玻璃纤维绝缘层。以5rpm的设置(对应于0.6mL/min的大致速率)将混合物泵送通过模块。通过与进料端口处于模块的相对末端上的真空端口，将模块的壳侧用真空泵抽空达到0.78托的压力。将模块上未使用的端口密封。用于供往孔侧的进料的汽提的模块设置的示意图在图1中示出。监测进入和退出分离模块的流体温度。将流体泵送到废料中直到实现稳态。该实例的稳态温度为流体入口的97℃和流体出口的70℃。将汽提后的流体收集在清洁的容器中。最终的汽提材料通过重量分析而检测挥发物含量。将大约2g材料置于铝杯中，然后将该杯子在150℃加热1小时。存在2.22％的总重量损失，对应于混合物中的D5除去了78.2g或81.5重量％。将样品放回烘箱中在150℃再保持一小时，然后再次称重。从加热的第一小时到第二小时，质量变化可以忽略不计，从而确认在1小时/150℃完全地测量了挥发物含量。实例3。使用真空从进料到孔侧的有机硅流体除去八甲基环四硅氧烷(D4)和十甲基环五硅氧烷(D5)。制备450g50cStPDMS(XiameterTM，道康宁公司)、31.41gD4和18.6gD5的混合物(“混合物3”)并在瓶中彻底混合。使用具有1.42mm内径管的ManostatCarterCassette泵将混合物泵入致密有机硅中空纤维膜(HFM)模块(梅达雷公司)的孔侧。HFM模块与实例1中所用的相同。将流体泵送通过一段1/8英寸的不锈钢管，然后进入HFM模块。将不锈钢管和模块中的每一者缠上由单独的温度控制器控制的加热带。两者还缠上玻璃纤维绝缘层。以5rpm的设置(对应于0.6mL/min的大致速率)将混合物泵送通过模块。通过与进料端口处于模块的相对末端上的真空端口，将模块的壳侧用真空泵抽空达到0.73托的压力。将模块上未使用的端口密封。用于供往孔侧的进料的汽提的模块装置的示意图在图1中示出。监测进入和退出分离模块的流体温度。将流体泵送到废料中直到实现稳态。该实例的稳态温度为流体入口的83℃和流体出口的76℃。将汽提后的流体收集在清洁的容器中。最终的汽提材料通过重量分析而检测挥发物含量。将大约2g材料置于铝杯中，然后将该杯子在150℃加热1小时。存在1.09％的总重量损失，对应于混合物中的D4和D5除去了44.6g或89.1重量％。将样品放回烘箱中在150℃再保持一小时，然后再次称重。从加热的第一小时到第二小时，质量变化可以忽略不计，从而确认在1小时/150℃完全地测量了挥发物含量。实例4。使用真空从进料到壳侧的有机硅流体除去八甲基环四硅氧烷(D4)。制备708g50cStPDMS(XiameterTM，道康宁公司)和96.6gD4的混合物(“混合物4”)并在瓶中彻底混合。使用具有3.175mm内径管的ManostatCarterCassette泵将混合物泵入致密有机硅中空纤维膜(HFM)模块(梅达雷公司)的壳侧。HFM模块与实例1中所用的相同。将流体泵送通过一段1/8英寸的不锈钢管，然后进入HFM模块。将不锈钢管和模块中的每一者缠上由单独的温度控制器控制的加热带。两者还缠上玻璃纤维绝缘层。以5rpm的设置(对应于3.1mL/min的大致速率)将混合物泵送通过模块的壳侧。通过与进料端口处于模块的相对末端上的真空端口，将模块的孔侧用真空泵抽空达到1.3托的压力。将模块上未使用的端口密封。监测进入和退出分离模块的流体温度。将流体泵送到废料中直到实现稳态。该实例的稳态温度为流体出口的89℃。将汽提后的流体收集在清洁的容器中。最终的汽提材料通过重量分析而检测挥发物含量。将大约2g材料置于铝杯中，然后将该杯子在150℃加热1小时。存在6.38％的总重量损失，对应于混合物中的D4除去了45.2g或46.8重量％。将样品放回烘箱中在150℃再保持一小时，然后再次称重。从加热的第一小时到第二小时，质量变化可以忽略不计，从而确认在1小时/150℃完全地测量了挥发物含量。图2示出了用于供往壳侧的进料的汽提的模块装置的示意图。虽然图2示出了仅施加到一个端口而另一个端口被堵住的真空，但是在其他实施例中，两个端口均可施加真空。虽然图2示出了进入一个端口并从另一个端口退出而第三个端口被堵住的进料混合物，但是流体进入和流体退出的任何合适的组合均可与三壳侧端口一起使用，以使得流体进入可在一个或两个端口中发生，并且流体退出可在一个或两个端口中发生。实例5。使用液体扫描从进料到孔侧的有机硅流体除去八甲基环四硅氧烷(D4)。制备在组成上与混合物1(“进料”)相同的流体混合物并在瓶中彻底混合。使用具有3.175mm内径管的ManostatCarterCassette泵将进料混合物泵入致密有机硅中空纤维膜(HFM)模块(梅达雷公司)的孔侧。HFM模块与实例1中所用的相同。将流体泵送通过一段1/4英寸的不锈钢管，然后进入HFM模块。将不锈钢管和模块中的每一者缠上由单独的温度控制器控制的加热带。两者还缠上玻璃纤维绝缘层。以50rpm的设置(对应于5.5mL/min的大致速率)将混合物泵送通过模块的孔侧。将模块的壳侧用纯50cStPDMS(道康宁公司)(“扫描流体”)的反向流以25.6mL/min的流量扫描。将扫描流体冷却到13℃的温度再进入模块。监测进入和退出分离模块的流体温度。将流体泵送到废料中直到实现稳态。该实例的稳态温度为进料混合物的流体出口(孔侧)的38℃。将汽提后的流体收集在清洁的容器中。最终的汽提材料通过重量分析而检测挥发物含量。将大约2g材料置于铝杯中，然后将该杯子在150℃加热1小时。存在0.74％的总重量损失，对应于混合物中的D4除去了90.0g或93.8重量％。将样品放回烘箱中在150℃再保持一小时，然后再次称重。从加热的第一小时到第二小时，质量变化可以忽略不计，从而确认在1小时/150℃完全地测量了挥发物含量。图3示出了供往孔侧的进料的汽提的示意图。实例6a-m。使用真空从进料到孔侧的有机硅流体除去八甲基环四硅氧烷(D4)：实例1中的参数变化。如表1中所示对参数作出变化而进行实例1。表1.实例1所述的参数的变化。实例流体流泵速(RPM)真空(托)流体出口温度(℃)在150℃下1小时除去的D4％1孔51.273°0.7393.96a孔51.473°0.7393.926b孔7.52.566°1.7285.676c孔52.457°1.5087.506d孔12.52.180°2.0682.836e孔10240°6.6045.006f孔51.640°6.5245.676g孔3.55.551°2.6378.086h孔52.166°1.0990.926i孔7.52.176°1.1290.676j孔102.179°1.5886.83实例7a-c。使用真空从进料到壳侧的有机硅流体除去八甲基环四硅氧烷(D4)：实例4中的参数变化。如表2中所示对参数作出变化而进行实例4。表2.实例4所述的参数的变化。实例流体流泵速(RPM)真空(托)流体出口温度(℃)在150℃下1小时除去的D4％4壳51.389°6.3846.87a壳3036室温11.742.177b壳51.450°7.9833.507c壳51.389°6.3846.83实例8a-8o。使用液体扫描从进料到孔侧的有机硅流体除去八甲基环四硅氧烷(D4)：实例5中的参数变化。如表3中所示对参数作出变化而进行实例5。在所有情况下，除了图8a中所示的原料外，第一样品表示在汽提之后的掺杂有12％D4的进料PDMS流体(例如，8b-1)并且第二样品表示用于使相应的第一样品脱挥发的扫描流体(例如，8b-2)。挥发物含量是在如实例中所述在150℃加热而处理后检测挥发物含量时测得的重量损失百分比。例如，制备态的12％D4(实例8a)为12.09％。这和预期一样，因为将12％的挥发性D4加入PDMS中以制备该样品。以相同的方式，实例8b在汽提后在样品中留下3.52％的挥发物。所报告的温度(℃)是流体在模块入口处的温度。在第一样品中，这是12％D4的PDMS溶液进入模块进行解吸时的温度。在第二样品中，这是扫描流体进入模块时的温度。流量(g/min)是以克/分钟表示的12％D4的PDMS溶液和扫描流体的流量。除去的总D4的百分比是从原始样品中除去的D4的重量百分比。例如，如果该数为75％，则意味着除去了样品中75％的D4。20％将意味着仅除去了20％的D4。在10分钟内的重量损失/增加(g)是在10分钟的运行过程中将从掺杂的PDMS中除去的克数或将通过扫描流体获得的克数。这确保了大致保证质量平衡，例如，在所用的相应流量和测得的浓度下，在10分钟内吸收的挥发物的量接近在10分钟内从流体解吸的量。表3.实例5所述的参数的变化。已采用的术语和措辞是用作描述性而非限制性的术语，并且在这类术语和措辞的使用中并不试图排除所示的和所描述的特征或其部分的任何等同物，而是应认识到在本发明的实施例的范围内可以作出各种修改形式。因此，应当理解，虽然本发明已通过具体的实施例和任选的特征具体地进行公开，但本领域普通技术人员可能作出本文所公开的构思的修改形式和变型形式，而此类修改形式和变型形式将被视为在本发明的实施例的范围内。附加实施例。提供以下示例性实施例，其编号不应视为表示重要性程度：实施例1提供从液体混合物中分离挥发性硅氧烷的方法，该方法包括：使第一疏水膜的第一侧与包含聚合物和至少一种挥发性硅氧烷的液体进料混合物接触，其中进料混合物不含有机聚硅氧烷乳液；以及使膜的第二侧与包含扫描气体、扫描液体和真空中的至少一者的扫描介质接触，以在膜的第二侧上产生渗透混合物并在膜的第一侧上产生渗余混合物，其中渗透混合物富含挥发性硅氧烷，而渗余混合物贫乏挥发性硅氧烷。实施例2提供实施例1的方法，其中渗余混合物与液体进料混合物相比少约1重量％至约99.9重量％的挥发性硅氧烷。实施例3提供实施例1-2中任一者的方法，其中渗余混合物与液体进料混合物相比少约40重量％至约95重量％的挥发性硅氧烷。实施例4提供实施例1-3中任一者的方法，其中液体进料混合物的温度为约-40℃至约250℃。实施例5提供实施例1-4中任一者的方法，其中液体进料混合物的温度为约50℃至约90℃。实施例6提供实施例1-5中任一者的方法，其中第一疏水膜为无孔的。实施例7提供实施例1-6中任一者的方法，其中第一疏水膜为致密有机硅膜。实施例8提供实施例1-7中任一者的方法，其中第一疏水膜的厚度为约1μm至约300μm。实施例9提供实施例1-8中任一者的方法，其中第一疏水膜为无支撑膜。实施例10提供实施例1-9中任一者的方法，其中第一疏水膜为包含一束中空纤维的中空纤维膜模块，其中纤维全体具有孔侧和壳侧，其中包括以下至少一者中空纤维膜的第一侧为孔侧而中空纤维膜的第二侧为壳侧，以及中空纤维膜的第一侧为壳侧而中空纤维膜的第二侧为孔侧。实施例11提供实施例1-10中任一者的方法，其中扫描介质包含真空。实施例12提供实施例1-10中任一者的方法，其中扫描介质为扫描气体。实施例13提供实施例1-10中任一者的方法，其中扫描介质为扫描液体。实施例14提供实施例13的方法，其中扫描液体包含有机硅流体。实施例15提供实施例14的方法，其中有机硅流体包含有机硅氧烷和有机硅烷中的至少一者。实施例16提供实施例14-15中任一者的方法，其中有机硅流体包含至少一个硅键合的基团，该基团选自：夹杂有选自-O-、-NH-和-S-的0、1、2或3个基团或以它们封端的取代或未取代的(C1-C20)烃基，取代或未取代的(C1-C20)烷基，取代或未取代的(C6-C20)芳基，取代或未取代的(C2-C20)烯基，取代或未取代的(C2-C20)炔基以及取代或未取代的聚醚。实施例17提供实施例1-16中任一者的方法，还包括使挥发性硅氧烷从渗透混合物中解吸并使解吸后的渗透混合物再循环而与第一疏水膜的第二侧接触。实施例18提供实施例17的方法，其中使挥发性硅氧烷解吸包括使第二疏水膜的第一侧与渗透混合物接触并使第二疏水膜的第二侧与扫描介质接触。实施例19提供根据实施例11-18中任一者的方法，其中进料混合物和扫描介质以相反的方向流动。实施例20提供根据实施例11-19中任一者的方法，其中进料混合物和扫描介质彼此径向流动。实施例21提供实施例1-20中任一者的方法，其中液体进料混合物的聚合物为有机聚硅氧烷。实施例22提供实施例1-21中任一者的方法，其中挥发性硅氧烷包含环硅氧烷和线性硅氧烷中的至少一者。实施例23提供实施例22的方法，其中环硅氧烷是在其一个或多个环中具有约4至20个-Si-O-单元的取代或未取代的环硅氧烷。实施例24提供实施例22-23中任一者的方法，其中环硅氧烷为八甲基环四硅氧烷(D4)和十甲基环五硅氧烷(D5)中的至少一者。实施例25提供从液体混合物中分离挥发性硅氧烷的方法，该方法包括：使第一疏水膜的第一侧与包含聚合物和至少一种挥发性硅氧烷的液体进料混合物接触，其中进料混合物不含有机聚硅氧烷乳液，第一疏水膜包括厚度为约1μm至约300μm的致密有机硅膜，并且液体进料混合物的温度为约-40℃至约250℃；以及使膜的第二侧与包含扫描气体、扫描液体和真空中的至少一者的扫描介质接触，以在膜的第二侧上产生渗透混合物并在膜的第一侧上产生渗余混合物，其中渗透混合物富含挥发性硅氧烷，而渗余混合物与液体进料混合物相比少约40重量％至约99重量％的挥发性硅氧烷。实施例26提供用于从液体混合物中分离挥发性硅氧烷的系统，该系统包括：第一疏水膜；包含聚合物和至少一种挥发性硅氧烷的液体进料混合物，该液体进料混合物接触第一疏水膜的第一侧，其中进料混合物不含有机聚硅氧烷乳液；包含扫描气体、扫描液体和真空中的至少一者的扫描介质，该扫描介质接触膜的第二侧；在膜的第二侧上的渗透混合物，该渗透混合物通过所述接触而形成，其中渗透混合物富含挥发性硅氧烷；在膜的第一侧上的渗余混合物，该渗余混合物通过所述接触而形成，其中渗余混合物贫乏挥发性硅氧烷。实施例27提供实施例1-26任一者或任何组合的设备或系统，该设备或系统任选构造成使得所有所述的要素或选项可加以使用或选择。当前第1页1 2 3