1.一种半导体仪器净化装置，其特征在于，所述装置包括：进气单元、密封箱及排气单元；
所述进气单元与所述密封箱相连，所述进气单元向所述密封箱输入气体；
半导体仪器的运动系统设置在所述密封箱内，半导体仪器的运动系统与半导体仪器的采集系统连接；
所述密封箱与所述排气单元相连，所述密封箱的灰尘伴随所述气体经所述排气单元排出。
2.如权利要求1所述的半导体仪器净化装置，其特征在于，所述进气单元包括：风机、进气罩及至少一根进气管；
所述风机设置在所述进气罩上方；
所述进气罩通过所述进气管与所述密封箱连接；
当所述进气管至少为两根时，所述进气管对称分布。
3.如权利要求2所述的半导体仪器净化装置，其特征在于，所述进气管为四根。
4.如权利要求2所述的半导体仪器净化装置，其特征在于，所述进气单元还包括：匀气罩及匀气板；
所述匀气罩固定在所述密封箱上；
所述匀气板设置在所述匀气罩内；
所述进气管与所述匀气罩连接，所述进气管中的气体经所述匀气板进入所述密封箱。
5.如权利要求1-4任一项所述的半导体仪器净化装置，其特征在于，所述排气单元包括：出风件及至少一个排气管；
所述密封箱上开设有出风口；
所述排气管通过所述出风件与所述出风口连接。
6.如权利要求5所述的半导体仪器净化装置，其特征在于，所述排气单元还包括：抽气泵；
所述抽气泵与所述排气管连接。
7.如权利要求6所述的半导体仪器净化装置，其特征在于，所述排气单元至少为一个。
8.如权利要求7所述的半导体仪器净化装置，其特征在于，所述排气单元为两个。
9.如权利要求2-4任一项所述的半导体仪器净化装置，其特征在于，所述进气管为塑料管或金属管。
10.如权利要求5所述的半导体仪器净化装置，其特征在于，所述排气管为塑料管或金属管。