一种坩埚架的制作方法

本实用新型涉及实验仪器领域，尤其涉及一种坩埚架。

背景技术：

坩埚是化学仪器的重要组成部分，其可分为三大类型。一是结晶质的天然石墨坩埚，二是可塑性的耐火黏土坩埚，三是经过煅烧的硬质高岭土类骨架熟料坩埚。近年来，开始采用耐高温合成材料：如：碳化硅、氧化铝金刚砂及硅铁等骨架熟料制备坩埚，这些熟料对提高坩埚产品质量，增强坩埚密度和机械强度有着显著效果。正是由于其组成成分特殊，使得其具有良好的热导性和耐高温性，在高温使用过程中，热膨胀系数小，对急热、急冷具有一定抗应变性能，对酸、碱性溶液的抗腐蚀性较强，具有优良的化学稳定性。因此，坩埚是融化和精炼金属液体以及固液加热、反应的容器，是保证了化学反应顺利进行的基础。

坩埚盛装试样通常需要置于高温环境中进行煅烧，如马弗炉。坩埚一般为碗状容器，一部分坩埚的底部很小，容易发生倾倒，需要架在坩埚架上再放置于马弗炉中。就目前来说，实验室在测定样品灰分时，需要将样品称量后放入恒重的坩埚中，再将坩埚一个个转移至马弗炉中。由于处理过程中坩埚不能用手接触，必须用坩埚钳多次移动，移动过程中坩埚钳容易触碰到其它坩埚，导致坩埚的倾倒，样品收到污染，而且，凌乱的摆放导致容易导致混淆。

现有技术中出现了使用坩埚架来固定坩埚的技术，但是目前采用的坩埚架为固定式，将坩埚架置入马弗炉中位置是固定不变的，马弗炉中的加热电阻丝的位置也是固定不变的，因此每个坩埚与电阻丝对应的距离均不相同。因此，每个坩埚受热也不相同，使得在测定挥发分时，会因为坩埚的位置差异而导致测量误差。

技术实现要素：

有鉴于此，本实用新型的目的在于克服现有技术的不足，提供一种使得坩埚受热均匀的坩埚架，避免测量误差。

为了解决上述技术问题，本实用新型采用如下方案实现：

一种坩埚架，包括立轴，以及用于固定立轴的支撑架，所述立轴的顶端设有利用弹性势能实现旋转的转动机构，所述转动机构的外围连接有坩埚圈。本申请中，通过转动机构的弹性势能实现坩埚圈的缓慢转动，坩埚置于坩埚圈中，其在转动机构的作用下实现缓慢转动。即，在将坩埚架置入马弗炉中加热前，对转动机构进行蓄能，当坩埚架置入马弗炉后，转动机构进行能量释放，驱动坩埚圈围绕立轴缓慢旋转，使得坩埚架上的每一个坩埚在测量中都达到相同的受热条件，降低测量误差。

所述转动机构包括螺旋状发条和传动盒，所述传动盒上设有贯穿其的固定轴，且固定轴固定在立轴的顶端，所述固定轴的直径小于立轴的直径；所述螺旋状发条置于传动盒内，其两末端分别与固定轴和传动盒的内侧壁连接；所述坩埚圈连接至传动盒的外侧壁。转动传动盒，带动螺旋状发条进行蓄能；将坩埚架置于炉内时，螺旋状发条进行能量释放带动传动盒的转动。

螺旋状发条进行能量释放带动传动盒绕固定轴旋转，为了降低传动盒与固定轴之间的摩擦阻力，在所述固定轴贯穿传动盒的部位设有轴承，避免螺旋状发条的能量损失。

正如上所述，螺旋状发条带动传动盒的转动，传动盒带动坩埚圈转动，若直接将坩埚圈固定在传动盒上（如直接焊接），则会使得坩埚架上的坩埚圈数量过小。因此，本申请中，所述传动盒的外侧壁设有延长支杆，所述坩埚圈通过延长支杆与传动盒连接。通过延长支杆的设置，使得坩埚圈所在的圆周大大增加，也即增加了坩埚圈的个数。在实验测定时，可根据选择放置数量不同的坩埚，增大坩埚架的适用性。除此之外，通过增大每个坩埚圈的适当距离，使得放置在其上的坩埚能受热更加均匀，防止坩埚过于拥挤导致坩埚靠近立轴的部位受热不足。

由于转动机构是通过弹性势能实现转动，为了避免转动机构受力不均，故本申请中，所述坩埚圈沿圆周均匀分布，避免转动机构受力不均导致转动故障。

所述立轴的顶端围绕固定轴与立轴的连接点设有导向槽，所述导向槽内设有滚珠。固定轴贯穿传动盒固定在立轴顶端，此时立轴的顶端同样对传动盒实现支撑，而为了进一步降低阻力，在立轴顶端设有导向槽和滚珠，能最低限度降低螺旋状发条的能量损失。

进一步的，所述支撑架包括底盘，所述立轴固定在底盘的中心部位。转动机构带动坩埚圈悬空转动，为了避免坩埚、延长支杆等的重量造成的重心不稳，通过底盘的设置增大下方的重量，避免重心不稳导致坩埚架倾倒。

所述支撑架还包括与底盘连接的用于支承底盘的支脚，所述支脚均布在底盘的圆周边缘。底盘的悬空能避免马弗炉中的灰尘污染底盘表面，使得坩埚架置于工作台上时，避免对工作台的污染。

与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：本实用新型中，通过旋转机构的设置，使得坩埚架中能够在不借助外力的条件下匀速转动，使得坩埚架上的每一个坩埚能够在测量中达到相同的受热条件，降低测量误差。

附图说明

图1为坩埚架结构示意图；

图2为立轴顶部局部剖视图；

图3为旋转机构结构示意图；

图4为旋转机构内部结构示意图。

具体实施方式

为了让本领域的技术人员更好地理解本实用新型的技术方案，下面结合附图对本实用新型作进一步阐述。

实施例1

如图1所示，一种坩埚架，包括立轴100，以及用于固定立轴100的支撑架，所述立轴100的顶端设有利用弹性势能实现旋转的转动机构，所述转动机构的外围连接有坩埚圈。通过转动机构的弹性势能实现坩埚圈的转动。

如图1、3和4所示，所述转动机构包括螺旋状发条240和传动盒210，所述传动盒210上设有贯穿其的固定轴220，且固定轴220固定在立轴100的顶端，所述固定轴220的直径小于立轴100的直径；所述螺旋状发条240置于传动盒210内，其两末端分别与固定轴220和传动盒210的内侧壁连接；所述坩埚圈连接至传动盒的外侧壁。所述固定轴220贯穿传动盒210的部位设有轴承230。

如图1所示，所述传动盒210的外侧壁设有延长支杆320，所述坩埚圈310通过延长支杆320与传动盒210连接。进一步的，所述坩埚圈310沿圆周均匀分布。

如图2所示，所述立轴100的顶端围绕固定轴与立轴的连接点设有导向槽110，所述导向槽110内设有滚珠120。

如图1所示，所述支撑架包括底盘400，所述立轴100固定在底盘400的中心部位。所述支撑架还包括与底盘400连接的用于支承底盘的支脚500。所述支脚500均布在底盘400的圆周边缘。

上述实施例仅为本实用新型的其中具体实现方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些显而易见的替换形式均属于本实用新型的保护范围。