复层式阴离子交换塔的再生方法与流程

本发明涉及一种复层式阴离子交换塔的再生方法，其中，复层式阴离子交换塔具备弱碱性阴离子交换树脂层和强碱性阴离子交换树脂层并且被处理水被依次从弱碱性阴离子交换树脂层向强碱性阴离子交换树脂层通水。

背景技术：

以制造纯水等作为目的使用的阴离子交换树脂大致分为两种，即：为了吸附除去一部分强酸成分和二氧化硅、硼、碳酸等弱酸成分的强碱性阴离子交换树脂(以下，有时简称为“sa”)；以及，为了吸附除去硫酸离子、氯化物离子等强酸成分的弱碱性阴离子交换树脂(以下，有时简称为“wa”)。

sa和wa对通过结构中的离子交换基的性质来吸附的离子的保持力不同，sa的保持力强，wa的保持力弱。

作为阴离子交换塔，有使用仅具备sa的塔的单层式；以及，使用具备wa和sa两种树脂的塔的复层式。复层式的阴离子交换塔是，将被处理水(通常情况下是向阳离子交换塔通水后的处理水)首先向wa层通水，然后向sa层通水的装置。

作为复层式阴离子交换塔，有将wa和sa分别填充在不同的塔的二塔式；以及，在同一个塔中将wa和sa以层状方式填充的一塔式。在一塔式的情况下，通常由透水性的隔板将wa层和sa层分隔开。

通过复层式阴离子交换塔对纯水进行采水后，进行再生。sa层吸附二氧化硅、硼、碳酸等弱酸成分和未被wa层吸附而从wa层泄漏的一部分强酸成分。wa层吸附几乎所有的强酸负荷。

通常，复层式阴离子交换塔是将作为再生剂的氢氧化钠(naoh)水溶液以sa层→wa层的顺序通水而进行再生。这是由于以下的原因。

sa和wa对所吸附离子的保持力不同，该保持力的强弱带来再生效率的不同。由于保持力弱的wa以少量的再生剂量便可再生，因此，将以sa层→wa层的顺序通再生剂并在sa层中未使用的再生剂使用于wa层。

在再生sa时，为了提高吸附在树脂上的二氧化硅的解吸率，多数情况下使用加温至40～50℃的再生剂。sa层的再生废液含有高浓度的二氧化硅。但是，如果使用以高浓度含有二氧化硅的再生废液来再生wa层，则在wa层内发生二氧化硅的凝胶化(非专利文献1)。这是由于，wa被再生，则使所吸附的强酸成分解吸，从而再生液的ph迅速降低，使得二氧化硅的溶解度降低。

作为防止二氧化硅凝胶化的方法，有在再生中调整作为再生剂的氢氧化钠浓度，从而改变解吸的二氧化硅浓度的方法(专利文献1)。但是，在此方法中，由于即使是1％的低浓度naoh水溶液，也是7.5g-sio2/l左右的二氧化硅溶解度，因此，若wa中解吸的酸多，其结果便是ph迅速降低，使得二氧化硅凝胶化。

也已知有通过使再生剂的温度从低温阶段性地上升，来改变解吸的二氧化硅浓度的方法。虽然此方法能够降低二氧化硅浓度，但是不能够控制wa层中强酸的解吸，仍会发生凝胶化。另外，改变温度的时机不明确，如果时机晚了，则会存在再生不充分导致潜在的再生缺陷的风险。此外，再生使用的纯水的使用量变多，不经济。

专利文献1：日本特公昭46-33926号公报。

专利文献2：日本特许第3150836号公报。

非专利文献1：ダイヤイオンマニュアル(改订4版)，78-79页，平成22年2月26日，三菱ケミカル株式会社发行(diaion手册(修订第4版)，78～79页，平成22年2月26日，三菱化学株式会社发行)。

技术实现要素：

本发明的目的是，抑制在对复层式阴离子交换塔进行再生时的二氧化硅的凝胶化，进行有效地再生。

本发明者发现，通过进行规定的第一再生工序和第二再生工序，由此，能够防止在wa层中的二氧化硅的凝胶化。

本发明的要点如下。

[1]一种复层式阴离子交换塔的再生方法，其特征在于，

在具备弱碱性阴离子交换树脂层和强碱性阴离子交换树脂层并且被处理水被按照从弱碱性阴离子交换树脂层到强碱性阴离子交换树脂层的顺序通水的复层式阴离子交换塔中，通入再生剂，对该弱碱性阴离子交换树脂和强碱性阴离子交换树脂进行再生的方法中，进行第一再生工序和第二再生工序，

所述第一再生工序，持续进行(i)工序或(ii)工序，直至塔流出液的ph成为碱性，所述(i)工序是将再生剂从该复层式阴离子交换塔的弱碱性阴离子交换树脂层和强碱性阴离子交换树脂层之间导入，使该再生剂通过弱碱性阴离子交换树脂层并从该塔流出的工序，所述(ii)工序是将再生剂从该复层式阴离子交换塔的强碱性阴离子交换树脂层侧导入，使该再生剂按照从强碱性阴离子交换树脂层到弱碱性阴离子交换树脂层的顺序通过并从该塔流出的工序，

所述第二再生工序，在该第一再生工序后对该强碱性阴离子交换树脂层进行再生。

[2]如[1]所述的复层式阴离子交换塔的再生方法，其特征在于，

进行所述第一再生工序，直至前塔流出液的ph成为9以上。

[3]如[1]或[2]所述的复层式阴离子交换塔的再生方法，其特征在于，

在所述第二再生工序中，向所述强碱性阴离子交换树脂层通入进行了加温的再生剂。

[4]如[1]或[2]所述的复层式阴离子交换塔的再生方法，其特征在于，

在所述第二再生工序中，使所述强碱性阴离子交换树脂层在常温的再生剂中浸渍规定时间。

[5]如[1]或[2]所述的复层式阴离子交换塔的再生方法，其特征在于，

在所述第一再生工序中，进行所述(i)工序，然后，在所述第二再生工序中，将再生剂从所述复层式阴离子交换塔的强碱性阴离子交换树脂层侧导入，使该再生剂按照从强碱性阴离子交换树脂层到弱碱性阴离子交换树脂层的顺序通过并从该塔流出，由此，对所述强碱性阴离子交换树脂层进行再生。

[6]一种复层式阴离子交换塔的再生方法，其特征在于，

在具备弱碱性阴离子交换树脂层和强碱性阴离子交换树脂层并且被处理水被按照从弱碱性阴离子交换树脂层到强碱性阴离子交换树脂层的顺序通水的复层式阴离子交换塔中，通入再生剂，对该弱碱性阴离子交换树脂和强碱性阴离子交换树脂进行再生的方法中，进行第一再生工序和第二再生工序，

所述第一再生工序，持续进行(i)工序，直至塔流出液的ph成为碱性，所述(i)工序是将再生剂从该复层式阴离子交换塔的弱碱性阴离子交换树脂层和强碱性阴离子交换树脂层之间导入，使该再生剂通过弱碱性阴离子交换树脂层并从该塔流出；以及

所述第二再生工序，对该强碱性阴离子交换树脂层进行再生，

并且，同时进行该第一再生工序和该第二再生工序，在该第二再生工序中，使在该强碱性阴离子交换树脂层的再生中使用的再生剂不通过该弱碱性阴离子交换树脂层，而是向该复层式阴离子交换塔外排出。

[7]如[1]～[6]中任一项所述的复层式阴离子交换塔的再生方法，其特征在于，

通入所述再生剂的复层式阴离子交换塔中的所述强碱性阴离子交换树脂吸附并保持二氧化硅，所述弱碱性阴离子交换树脂吸附并保持强酸。

[8]如[1]～[7]中任一项所述的复层式阴离子交换塔的再生方法，其特征在于，

在所述第一再生工序之前，将被处理水通水时的温度保持在5～20℃的范围。

发明的效果

根据本发明，能够抑制在对复层式阴离子交换塔进行再生时的二氧化硅的凝胶化，进行有效地再生。

附图说明

图1是表示实验例1中的再生废液的cl离子浓度、离子状二氧化硅浓度、胶体二氧化硅浓度和ph随时间变化的绘制图。

具体实施方式

以下对本发明的实施方式进行详细的说明。

[复层式阴离子交换塔]

在本发明中，进行再生的复层式阴离子交换塔具备弱碱性阴离子交换树脂(wa)层和强碱性阴离子交换树脂(sa)层。复层式阴离子交换塔可以是将wa层和sa层设置于一个塔内的一塔式。复层式阴离子交换塔可以是将wa和sa分别填充于不同的塔的二塔式。

在将被处理水向复层式阴离子交换塔通水而采水的情况下，将被处理水按照从wa层到sa层的顺序通水。

在本发明中，对复层式阴离子交换塔进行再生，该复层式阴离子交换塔是通过通入被处理水，强酸成分吸附并保持在wa层上，二氧化硅、硼、碳酸等弱酸成分和wa层未除去并流入sa层的强酸成分吸附并保持在sa层上的复层式阴离子交换塔。

复层式阴离子交换塔，通过由后述的第一再生工序和第二再生工序构成的再生工序再生，再生工序后，以与通再生剂的方向相同的方向通纯水实施挤出洗涤工序。挤出洗涤是进行至挤出洗涤时的塔流出液的ph成为10～12左右。根据需要，在挤出洗涤工序后，为了提高塔流出液的纯度而开始采水，与进行采水时的通水方向相同的方向流动被处理水、纯水进行洗涤，以减少洗涤废液为目的，将塔流出液通过阳离子交换塔和脱碳酸塔进行处理后进行循环、通液，在获得所期望的纯度的塔流出液时，完成了为了再生的一系列的处理，再次开启采水，即再次开启纯水的制造。

在进行复层式阴离子交换塔的再生之前，优选进行将采水时被处理水设为5～20℃、优选设为5～15℃的低温向复层式阴离子交换塔通水而将复层式阴离子交换塔内保持在这样的低温的工序。这是由于以下的原因。

由于温度越高吸附于sa的二氧化硅越容易聚合，因此通过在这样的低温进行采水工序，从而抑制复层式阴离子交换塔内的二氧化硅的聚合，能够提高在再生工序中的二氧化硅的解吸性并进行有效地再生。因此，在被处理水的温度高的情况下，优选在将被处理水的温度降低到上述范围的前提下，向复层式阴离子交换塔通水。

[再生工序]

＜再生剂＞

wa和sa的再生，使用作为再生剂的氢氧化钠(naoh)水溶液。

作为再生剂的naoh水溶液，从再生效率的方面出发，优选为naoh浓度为0.5～5.0重量％(通常为ph13以上)。如果naoh浓度比上述下限还低，那么作为再生剂，用选择系数小的oh离子交换选择系数大的离子是低效的。如果naoh浓度比上述上限还高，那么由于从向树脂内部浸透的观点出发，速度无法提高，因此是低效的。

＜通液方向＞

对通再生剂时的通液方向没有特别的限制，优选为被处理水的通水方向(采水时的通水方向)的反方向。

在通常情况下，采水时的通水方向为向下流动的情况多，因此，再生时的通液方向优选为向上流动。对于前述挤出洗涤时的通液方向，也优选为与再生剂的通液方向相同。

＜温度＞

再生剂的温度如下所示。

仅向wa层通液时再生剂的温度，可以是从常温到加温的范围的5℃以上且55℃以下，通常为常温的5℃以上且小于35℃(寒冷地区或夏季的水温)，优选为20℃以上且30℃以下。

仅向sa层通液时再生剂的温度，可以是从常温到加温的范围的5℃以上且55℃以下，通常优选为加温的35℃以上且55℃以下，最优选为40℃以上且45℃以下。

从sa层向wa层连续通液的再生剂，优选为5℃以上且55℃以下。

但是，在对sa层进行后述的浸渍工序的情况下，将浸渍时间设为30分钟以上时，能够使用常温(5℃以上且小于35℃，优选为20℃以上且30℃以下)的再生剂。

＜通液量＞

再生剂的通液量，基于复层式阴离子交换塔再生的负荷或塔流出液(再生废液)的ph，优选设为以下的量。

再生剂的通液量，相对于复层式阴离子交换塔再生的设计负荷(解吸的离子量)，通液的naoh的摩尔比的量为100％以上，优选设为110～135％的量。

相对于此设计负荷的naoh摩尔比，既可相对于wa层和sa层整体的设计负荷来设定，又可相对于各层各自的设计负荷来设定。另外，分析实际的运用负荷，也可以相对于此值来设定。

再生剂的通液量，在仅向sa层通液的情况下，优选仅通过sa层的塔流出液(再生废液)的ph为9以上，优选为10以上，更优选成为13以上的量。

在仅向wa层通水的情况下，优选仅通过wa层的塔流出液(再生废液)的ph为9以上，优选为10以上，更优选成为13以上的量。

在向sa层和wa层连续通再生剂的情况下，优选按照sa层→wa层的顺序通过且从wa层侧排出的塔流出液(从wa层排出的再生废液)的ph为9以上，优选设为10～13的量。

＜浸渍工序＞

也可以在再生剂的通液后，停止通液，进行规定时间保持原样的浸渍工序。

在这种情况下，开始浸渍的时机，优选设为在再生剂的通液量成为前述的量的时刻。

浸渍温度(在浸渍工序中在塔内保持的再生剂的温度)，根据浸渍时间的不同也可以不同，通常为5℃以上且55℃以下，优选为常温(5℃以上且小于35℃，优选为20℃以上且30℃以下)。

浸渍工序通常为20分钟以上，优选为30～120分钟左右。

在上述的温度和时间的范围内，优选为在浸渍温度高的情况下浸渍时间短，在浸渍温度低的情况下浸渍时间长。

通过进行浸渍工序，能够促进吸附于sa的二氧化硅等、吸附于wa的强酸成分的解吸。

＜再生操作＞

以下，就本发明中具体的再生操作进行说明。

在本发明中，进行第一再生工序，持续进行(i)工序或(ii)工序，直至塔流出液的ph成为碱性，优选为ph9以上，更优选为ph10以上，所述(i)工序是将再生剂从复层式阴离子交换塔的wa层和sa层之间导入，使该再生剂仅通过wa并流出的工序，所述(ii)工序是将再生剂从复层式阴离子交换塔的sa层侧导入，使该再生剂按照从sa层到wa层的顺序通过并流出的工序。在此第一再生工序后，进行对sa层进行再生的第二再生工序。

作为在第二再生工序中对sa层进行再生的方法，可举出如下方法。

(2-i)将再生剂从复层式阴离子交换塔的wa层和sa层之间导入，使该再生剂仅通过sa层从塔的sa层侧流出，或者，将再生剂从复层式阴离子交换塔的sa层侧导入，使该再生剂从塔的sa层和wa层之间流出。

(2-ii)将再生剂从复层式阴离子交换塔的sa层侧导入，使该再生剂按照从sa层到wa层的顺序通过并从塔的wa层侧流出。

(2-iii)将再生剂从复层式阴离子交换塔的sa层侧导入并进行sa层的浸渍再生。

如上述(2-i)，仅将再生剂向sa层通液，在使用于sa层再生的再生剂不通过wa层就向塔外排出的情况下，作为第一再生工序，通过采用所述(i)的工序，能够同时进行第一再生工序和第二再生工序。

这样的仅sa层再生，仅wa层再生，能够通过使用wa层和sa层之间设置有再生剂的导入配管和再生废液的排出配管的复层式阴离子交换塔来进行。

在本发明中，第一再生工序中通再生剂直至塔流出液的ph成为碱性，优选为ph9以上，更优选为ph10以上，然后，通过进行sa层的再生，能够防止wa层中的二氧化硅的凝胶化。这是由于以下的原因。

不论是(i)工序，还是(ii)工序，通过wa层的塔流出液的ph均成为碱性，优选为ph9以上，更优选为ph10以上，是指完全解吸除去吸附于wa层的强酸成分。因此，在第一再生工序中，在完全除去wa层的强酸成分后，通过进行sa层的再生，在sa层的再生中从sa层洗脱的含有二氧化硅的再生废液，即使通过wa层，再生废液的ph在通过wa层中也没有降低，没有引起二氧化硅的凝胶化和析出。

作为在本发明中的具体的再生工序的操作步骤，可举出以下的(1)～(6)。

(1)在进行仅向(i)的wa层通再生剂的第一再生工序后，进行仅向sa层通再生剂的第二再生工序。

(2)同时进行仅向(i)wa层通再生剂的第一再生工序和仅向sa层通再生剂的第二再生工序。

(3)在进行仅向(i)的wa层通再生剂的第一再生工序后，进行sa层→wa层通再生剂的第二再生工序。

(4)在进行仅向(i)的wa层通再生剂的第一再生工序后，进行将再生剂从sa层侧向塔内导入后将再生剂保持规定时间来浸渍再生的第二再生工序。在这种情况下，如果复层式阴离子交换塔是一塔式，那么再生剂从sa层侧向塔内导入，将sa层和wa层的整体浸渍于再生剂中。如果复层式阴离子交换塔是二塔式，那么能够进行仅sa层的浸渍再生。

(5)在进行(ii)按照sa层→wa层的顺序通再生剂的第一再生工序后，进行sa层→wa层通再生剂的第二再生工序。

(6)在进行(ii)的按照sa层→wa层的顺序通再生剂的第一再生工序后，进行将再生剂保持规定时间来浸渍再生的第二再生工序。此(ii)的再生工序，通常，在复层式阴离子交换塔为一塔式的情况下采用。

在第二再生工序进行sa层再生的情况下，作为再生剂，如上所述，优选使用加温到35℃以上且55℃以下的再生剂。这是由于，只要是加温的再生剂，naoh就能迅速在树脂内扩散，能够有效洗脱二氧化硅。

在第一再生工序中使用的再生剂，无论是在仅向wa层通液的情况下，还是在从sa层向wa层通液的情况下，既可以是常温也可以是加温，通常为常温(5℃以上且小于35℃，优选为20℃以上且30℃以下)即可。

在第二再生工序进行sa层的浸渍再生的情况下，浸渍温度(在浸渍工序中塔内保持的再生剂的温度)，虽然根据浸渍时间有所不同，但是通常为5℃以上且55℃以下，优选为常温(5℃以上且小于35℃，优选为20℃以上且30℃以下)。浸渍工序的时间通常为20分钟以上，优选为30～120分钟左右。在上述的温度和时间的范围中，优选在浸渍温度高的情况下浸渍时间短，在浸渍温度低的情况下浸渍时间长。

在浸渍再生的情况下，如果浸渍时间为30分钟以上，那么能够使用常温(5℃以上且小于35℃，优选为20℃以上且30℃以下)的再生剂。在浸渍再生的情况下，由于能够不依赖再生剂的温度在树脂内使naoh扩散，因此能够使用常温(5℃以上且小于35℃，优选为20℃以上且30℃以下)的再生剂。二氧化硅聚合并吸附在sa的树脂内部，只要浸渍再生，就还有能够确保分解并洗脱二氧化硅的聚合物的反应时间的效果。

实施例

举出以下实施例，对本发明进行更具体的说明。

在以下的实验例、实施例和比较例中，作为强碱性阴离子交换树脂、弱碱性阴离子交换树脂使用如下产品。

强碱性阴离子交换树脂(sa)：三菱化学株式会社制“diaionsa10aloh(ダイヤイオンsa10aloh)”

弱碱性阴离子交换树脂(wa)：三菱化学株式会社制“diaionwa30c(ダイヤイオンwa30c)”

“二氧化硅的洗脱率”定义如下，将此作为指标评价了再生效率。二氧化硅的洗脱率小于100％，是表示会引起二氧化硅的凝胶化。二氧化硅的洗脱率的上限虽然理论上为100％，但是在树脂反复进行采水的情况下，也有由于上次再生时的二氧化硅负荷的残留使得超过100％的情况。

二氧化硅的洗脱率(％)＝(来自滤柱的再生废液中的二氧化硅总量/供给水的二氧化硅负荷总量)×100

再生废液中的二氧化硅总量＝再生废液中的平均二氧化硅浓度×再生废液量

供给水中的二氧化硅总量＝供给水中的二氧化硅浓度×供给水流量×供给时间

二氧化硅的分析根据jis来进行，如下所述。

离子状二氧化硅：jis44.1.2钼蓝法。

全二氧化硅：jis44.3。

凝胶状二氧化硅：(根据jis44.3的全二氧化硅分析值)-(根据jis44.1.2的离子状二氧化硅分析值)。

向滤柱(φ40mm的丙烯酸滤柱)的通液、通水是在以下通用的条件和根据目的的树脂量、供给水温度、离子浓度下进行的。

供给水的通水：以lv＝40m/hr通水。

再生剂的通液：与供给水的通水逆向，以lv＝10m/hr通水。

作为再生剂使用naoh水溶液，相对于供给水中的负荷离子总量，以摩尔比为110％的方式决定再生剂量，进行了通液。

[实验例1]

两根滤柱的一根以树脂层高500mm的方式，填充sa，另一根同样以树脂层高500mm的方式，填充wa。此滤柱串联连接，以wa滤柱→sa滤柱的顺序，将氯化物离子浓度80mg/l、二氧化硅浓度43mg/l的供给水，以每1l树脂15g-sio2/l-r(sa)的方式通水。

作为再生剂使用45℃、2重量％的naoh水溶液(ph13以上)，按照sa层→wa层的顺序通液。

研究从wa填充滤柱排出的塔流出液(再生废液)的cl离子浓度、离子状二氧化硅浓度、胶体二氧化硅浓度和ph随时间的变化，结果示于图1。

由图1可清楚的看出，排出cl离子(包含于再生废液)时，ph低，二氧化硅未排出(图1的箭头所示的期间)。然后，排出离子状二氧化硅。

由图1可知，只要在ph为9，优选为ph超过10的条件下，就会以离子状排出二氧化硅，阴离子交换塔的塔流出液通过在ph为9，优选为ph超过10的条件下再生，从而即使流入wa层也不会引起二氧化硅的凝胶化。

[实施例1]

两根滤柱的一根以树脂层高500mm的方式，填充sa，另一根同样以树脂层高500mm的方式，填充wa。此滤柱串联连接，按照wa滤柱→sa滤柱的顺序，将氯化物离子浓度80mg/l、二氧化硅浓度43mg/l的供给水，以每1l树脂15g-sio2/l-r(sa)的方式通水。

作为再生剂使用常温(25℃)、naoh浓度1重量％的naoh水溶液，首先，进行仅向wa滤柱通再生剂直至塔流出液的ph为9的预再生。塔流出液向系统外排出。然后，进行加温(45℃)再生剂，按照sa滤柱→wa滤柱的顺序，进行连续通液直至塔流出液为ph14，进行再生后，进行仅通过纯水进行的挤出。

上述供给水的通水和再生，反复进行五次后，计算出第六次的二氧化硅的洗脱率，为110％。

[比较例1]

在实施例1中，不进行wa滤柱的预再生，按照sa滤柱→wa滤柱的顺序连续通液进行再生后，进行仅通过纯水进行的挤出。上述供给水的通水和再生，反复进行五次后，计算出第六次的二氧化硅的洗脱率，为97％。

由实施例1和比较例1的结果可知，通过进行wa层的预再生，从而能够防止二氧化硅的凝胶化，有效地洗脱并再生二氧化硅。

[实施例2]

两根滤柱的一根以树脂层高500mm的方式，填充sa，另一根同样以树脂层高500mm的方式，填充wa。此滤柱串联连接，按照wa滤柱→sa滤柱的顺序，将氯化物离子浓度80mg/l、二氧化硅浓度43mg/l的供给水，以每1l树脂15g-sio2/l-r(sa)的方式通水。

作为再生剂，使用naoh浓度1重量％的naoh水溶液，分别向sa滤柱和wa滤柱，以相对于各自的树脂负荷的离子量为110％的方式，各自通再生剂直至塔流出液的ph都成为14，塔流出液向系统外排出。然后，同样地进行仅通过纯水进行的挤出。需要说明的是，再生剂以常温(25℃)向wa滤柱通液，以加温(45℃)向sa滤柱通液。

上述供给水的通水和再生，反复进行5次后，计算出第六次的二氧化硅的洗脱率，为105％。

由实施例2可知，通过sa层和wa层分别各自再生，从而能够防止二氧化硅的凝胶化，有效地洗脱并再生二氧化硅。

[实施例3]

两根滤柱以树脂层高500mm的方式，填充sa。对这两根滤柱，将二氧化硅浓度43mg/l的供给水以每1l树脂15g-sio2/l-r的方式通水。

一根滤柱的再生，通过将温度25℃、naoh浓度1重量％的naoh水溶液(ph14以上)通液来进行，在确认塔流出液的ph为13后，封入30分钟。30分钟的浸渍工序后将残留规定量的naoh水溶液通液后，进行仅通过纯水进行的挤出。此供给水的通水和再生，反复进行五次后，计算出第六次的二氧化硅的洗脱率，为103％。

另一根滤柱，将温度25℃、naoh浓度1重量％的naoh水溶液的全部量通液，然后进行仅通过纯水进行的挤出，进行再生。再生时塔流出液的ph成为13。然后计算出二氧化硅的洗脱率，为85％。

由此结果可知，通过进行浸渍工序，从而即使是常温的naoh水溶液也能够从sa有效地洗脱二氧化硅。

本发明虽然用特定的方案进行了详细的说明，但是在不脱离本发明的意图和范围的情况下，可进行各种变更，这对本领域技术人员来说是显而易见的。

本申请是基于2016年11月10日提交申请的日本专利申请2016-219875而提出的，其全部内容通过引用而并入本申请。