本发明涉及一种反应釜。
背景技术：
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大块固体反应物和反应溶液在通过反应釜反应时，为加快反应时间，常常将大块固体反应物打散或者粉碎后倒入反应釜，现有的固体反应物的粉碎作业常在釜外完成。一方面需要专门的粉碎装置来完成该工序，另一方面在在粉碎固体反应物过程中，会造成扬尘的现象，若控制不好，则会造成环境污染与物料的浪费。另外现有的反应釜内的搅拌轴较长，长时间使用后，搅拌轴容易发生摆动，会影响釜体与搅拌轴结合处的密封性。
因此，确有必要对现有技术进行改进以解决现有技术之不足。
技术实现要素：
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本发明是为了解决上述现有技术存在的问题而提供一种反应釜。
本发明所采用的技术方案有：反应釜，包括釜体、电机和搅拌轴，所述电机固定于釜体上，搅拌轴转动连接在釜体上，且搅拌轴的顶端与电机的转轴固定连接，在釜体上设有进、出料口，还包括搅拌块、搅拌板、支撑架和加热罐，所述搅拌板固定于釜体内，且搅拌板将釜体的内腔分隔成上搅拌腔和下搅拌腔，搅拌块同轴固定于搅拌轴上，且搅拌块置于搅拌板的上方，搅拌块与搅拌板之间形成有搅拌间隙，支撑架固定于釜体内，搅拌轴通过轴承支撑于支撑架上，且搅拌轴的底端伸于支撑架的下方，釜体设于加热罐内，且釜体的外壁与加热罐的内壁之间形成有封闭的加热腔，在加热罐的外壁上设有与加热腔相贯通的进液口、出液口以及排气口；
所述搅拌块为底面为平面，上端面为锥面的锥形快结构，在搅拌块的底面上设有第一研磨块和第二研磨块，第一研磨块和第二研磨块均为圆形结构，且第一研磨块位于第二研磨块的外侧；
所述搅拌板为倒锥形结构，第一研磨块的底面以及第二研磨块的底面对应与搅拌板的内锥面之间形成搅拌间隙；在搅拌板上设有排料槽，该排料槽位于第二研磨块的内侧。
进一步地，所述第一研磨块的底面和第二研磨块的底面均为斜面结构，且两研磨块底面与搅拌板的锥面相平行。
进一步地，所述第一研磨块的高度小于第二研磨块的高度。
本发明具有如下有益效果：本发明结构简单，搅拌效果好，大块固体反应物在反应釜内打碎，减少污染与浪费，搅拌轴通过轴承支撑于支撑架上，可以保证搅拌轴转动的平稳性。
附图说明：
图1为本发明结构图。
图2为本发明中搅拌块和搅拌板在搅拌轴上的结构图。
具体实施方式：
下面结合附图对本发明作进一步的说明。
如图1和图2，本发明一种反应釜，包括釜体11、电机12、搅拌轴13、搅拌块21、搅拌板22和加热罐61，电机12固定于釜体11上，搅拌轴13转动连接在釜体11上，且搅拌轴13的顶端与电机12的转轴固定连接，在釜体11顶端设有进料口，底端设有出料口。搅拌板22固定于釜体11内，且搅拌板22将釜体11的内腔分隔成上搅拌腔100和下搅拌腔200。搅拌块21同轴固定于搅拌轴13上，且搅拌块21置于搅拌板22的上方，搅拌块21与搅拌板22之间形成有搅拌间隙20。支撑架31固定于釜体11内，搅拌轴13通过轴承支撑于支撑架31上，且搅拌轴13的底端伸于支撑架31的下方，釜体11设于加热罐61内，且釜体11的外壁与加热罐61的内壁之间形成有封闭的加热腔60，在加热罐61的外壁上设有与加热腔60相贯通的进液口、出液口以及排气口。
本发明中的搅拌块21为底面为平面，上端面为锥面的锥形快结构，在搅拌块21的底面上设有第一研磨块211和第二研磨块212，第一研磨块211和第二研磨块212均为圆形结构，第一研磨块211与第二研磨块212同轴设置，且第一研磨块211位于第二研磨块212的外侧。
搅拌板22为倒锥形结构，第一研磨块211的底面以及第二研磨块212的底面对应与搅拌板22的上锥面之间形成搅拌间隙20。为便于物料进入搅拌板22的下方，在搅拌板22上设有排料槽220，该排料槽220位于第二研磨块212的内侧。
第一研磨块211的底面和第二研磨块212的底面均为斜面结构，且两研磨块的底面与搅拌板22的锥面相平行。
第一研磨块211的高度小于第二研磨块121的高度，即，第一研磨块211与搅拌板22之间的搅拌间隙大于第二研磨块212与搅拌板22之间的搅拌间隙。搅拌间隙由外至内逐渐变小，实现物料的逐渐研磨。
使用时，将大块固体反应物和反应溶液一起倒入釜体11内，大块固体反应物位于釜体11的上搅拌腔100内，搅拌轴13转动并进行搅拌，搅动过程中，大块固体反应物和反应溶液进行反应。搅拌时，大块固体反应物进入搅拌间隙20内，通过第一研磨块211和第二研磨块212研磨粉碎成小块固体反应物，最终通过搅拌板22上的排料槽220进入下搅拌腔200，继续进行反应。
搅拌块21上的锥面便于固体反应物进入搅拌板22上，搅拌板22为锥面结构，便于固体反应物进入搅拌间隙20内。
支撑架31包括支撑体311和杆体312，三根杆体312均匀固定在支撑体311的外壁上，搅拌轴13通过轴承支撑于支撑体311上。釜体11的内壁上设有安装块，杆体312固定于安装块上。
增设支撑架31，搅拌轴13通过轴承支撑于支撑架31上，可以保证搅拌轴转动的平稳性。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下还可以作出若干改进，这些改进也应视为本发明的保护范围。