一种乳化设备的液位控制器的制作方法

本发明涉及一种液位控制装置，尤其是涉及一种乳化设备的液位控制器。

背景技术：

目前，乳化设备普遍应用于化妆品、制药、催化剂等行业。在生产过程中，真空过大会导致液位急剧上升，现主要依靠人工控制，液位上升极快，人工控制的及时性很难保证，从而使料体进入真空系统，导致以下几方面弊端：

1.物料的损失；

2.真空泵、管道等系统部件的堵塞，难于清洗；

3.真空管道中的料体残留导致的微生物风险。

从而直接影响产品质量，也影响到生产效率。

中国专利cn205252954u公布了一种高速乳化罐，包括罐体和罐顶锥封头以及罐底锥封头，所述的罐顶锥封头上开设有进料口，罐底锥封头底部开设有转动轴孔，罐底锥封头底部侧壁上开设有与转动轴孔相连通的出料口，转动轴孔处安装有乳化装置，乳化装置包括位于转动轴孔内且用于搅拌物料的乳化头、与乳化头相连接的联轴器、与联轴器相连接的转向箱以及用于驱动转向箱的电机，出料口位于乳化头下方。该装置设置低电极式液位计控制液位，但是上述液位控制没有反馈功能，不具有液位控制能力。

技术实现要素：

本发明的目的就是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种乳化设备的液位控制器。

本发明的目的可以通过以下技术方案来实现：

一种乳化设备的液位控制器，设置在乳化锅内，所述乳化锅上方设置有真空管道，所述真空管道与外部抽真空系统连接，

所述液位控制器包括设置在乳化锅上方的液位传感器，所述液位传感器与设置在乳化锅外部的plc控制器连接，所述plc控制器与外部抽真空系统连接，所述液位传感器用于感应液位位置，并向plc控制器反馈信号，

所述plc控制器接收液位传感器反馈信号，并控制外部抽真空系统的启闭，进行控制乳化锅内部的真空，进而控制乳化锅内液位上升速度，从而阻止料体由于过高液位而进入到真空管道及外部抽真空系统；

所述液位控制器还包括设置在乳化锅上方的自清洗元件，所述自清洗元件用于对液位传感器进行间歇式冲洗。

进一步说，所述液位传感器为浮球液位传感器，包括浮球感应器、位于浮球感应器上方的上限位开关、位于浮球感应器下方的下限位开关，所述浮球感应器碰到上限位开关或下限位开关时会向plc控制器反馈信号。

所述浮球感应器会随着液位的上升而上升，随着液位的下降而下降所述浮球感应器的上升或下降，来感应到液位所在的位置，当浮球感应器碰到上限位开关时，表明乳化锅内部的液位过高，此时浮球感应器会输出一个指令给plc控制器，plc控制器控制外部抽真空系统关闭，进而降低控制乳化锅内部的真空，进而控制乳化锅内液位上升速度，从而阻止料体由于过高液位而进入到真空管道及外部抽真空系统；

当浮球感应器碰到下限位开关时，表明乳化锅内部的液位过低，此时浮球感应器会输出一个指令给plc控制器，plc控制器控制外部抽真空系统开启，进而升高控制乳化锅内部的真空，促进控制乳化锅内液位上升。

进一步地，所述浮球感应器、上限位开关、下限位开关均采用sus316l材质的不锈钢，并且抛光度ra<0.8。

该设置的目的在于，在乳化锅内部将液位传感器接触料体的部分设置为不容易污染物料且不容易粘附物料。

进一步地，所述自清洗元件靠近液位传感器设置，所述自清洗元件为360°旋转喷头。

进一步地，所述自清洗元件采用sus316l材质的不锈钢，并且抛光度ra<0.8。

该设置的目的在于，在乳化锅内部将自清洗元件接触料体的部分设置为不容易污染物料且不容易粘附物料。

进一步地，所述自清洗元件外接去离子水管道，所述去离子水管道上设置有控制自清洗元件每次喷水量的控制阀。

由于乳化锅内物料高粘度而粘附在液位传感器上，导致液位控制不准确，因此，本发明设置有专用去离子水管道以及自清洗元件接入液位传感器附近，进行间歇式清洗，而水量根据工艺要求设定上限，这些去离子水可以进入到产品料体中，但是不能对料体的结构和质量产生影响，因此，在去离子水管道上设置有控制自清洗元件每次喷水量的控制阀。

进一步地，所述乳化锅内设置有搅拌器。

进一步地，所述搅拌器采用sus316l材质的不锈钢，并且抛光度ra<0.8。

该设置的目的在于，在乳化锅内部将接触料体的搅拌器设置为不容易污染物料且不容易粘附物料。

进一步地，所述搅拌器包括框式搅拌器与中间的桨式搅拌器。

与现有技术相比，本发明具有以下优点及有益效果：

1.现有技术主要依靠人工的谨慎操作，来避免物料进入真空系统。本发明可实现自动控制，并且控制精度更准，避免了人员经验程度的不同造成的操作差异。

2.本发明在整个实现过程中，也考虑到了自身的物料死角对元件准确性的影响，添加了自动清洁元件，保证了准确度。

3.现有技术不仅在真空抽泡过程中，容易造成液位过高的疏忽，在非流量计投料过程中，去离子水等大料的投入过程，也容易造成液位过高，超出设备控制范围，造成一定危险。本发明同时也解决了这方面安全隐患。

附图说明

图1为实施例1中乳化设备的液位控制器结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本发明进行详细说明。

实施例

参考图1，一种乳化设备的液位控制器，设置在乳化锅8内，乳化锅8上方设置有真空管道5，真空管道5与外部抽真空系统10连接，液位控制器包括设置在乳化锅8上方的液位传感器，液位传感器与设置在乳化锅8外部的plc控制器9连接，plc控制器9与外部抽真空系统10连接，液位传感器用于感应液位位置，并向plc控制器9反馈信号，plc控制器9接收液位传感器反馈信号，并控制外部抽真空系统10的启闭，进行控制乳化锅8内部的真空，进而控制乳化锅8内液位上升速度，从而阻止料体由于过高液位而进入到真空管道5及外部抽真空系统10；液位控制器还包括设置在乳化锅8上方的自清洗元件4，自清洗元件4用于对液位传感器进行间歇式冲洗。

液位传感器为浮球液位传感器，包括浮球感应器2、位于浮球感应器2上方的上限位开关1、位于浮球感应器2下方的下限位开关3，浮球感应器2碰到上限位开关1或下限位开关3时会向plc控制器9反馈信号。浮球感应器2会随着液位的上升而上升，随着液位的下降而下降浮球感应器2的上升或下降，来感应到液位所在的位置，当浮球感应器2碰到上限位开关1时，表明乳化锅8内部的液位6过高，此时浮球感应器2会输出一个指令给plc控制器9，plc控制器9控制外部抽真空系统10关闭，进而降低控制乳化锅8内部的真空，进而控制乳化锅8内液位上升速度，从而阻止料体由于过高液位而进入到真空管道5及外部抽真空系统10；

当浮球感应器2碰到下限位开关3时，表明乳化锅8内部的液位6过低，此时浮球感应器2会输出一个指令给plc控制器9，plc控制器9控制外部抽真空系统10开启，进而升高控制乳化锅8内部的真空，促进控制乳化锅8内液位上升。

浮球感应器2、上限位开关1、下限位开关3均采用sus316l材质的不锈钢，并且抛光度ra<0.8。该设置的目的在于，在乳化锅内部将液位传感器接触料体的部分设置为不容易污染物料且不容易粘附物料。

自清洗元件4靠近液位传感器设置，自清洗元件4为360°旋转喷头。自清洗元件4采用sus316l材质的不锈钢，并且抛光度ra<0.8。该设置的目的在于，在乳化锅内部将自清洗元件4接触料体的部分设置为不容易污染物料且不容易粘附物料。自清洗元件4外接去离子水管道，去离子水管道上设置有控制自清洗元件4每次喷水量的控制阀。由于乳化锅内物料高粘度而粘附在液位传感器上，导致液位控制不准确，因此，本发明设置有专用去离子水管道以及自清洗元件4接入液位传感器附近，进行间歇式清洗，而水量根据工艺要求设定上限，这些去离子水可以进入到产品料体中，但是不能对料体的结构和质量产生影响，因此，在去离子水管道上设置有控制自清洗元件4每次喷水量的控制阀。

乳化锅8内设置有搅拌器7。搅拌器7采用sus316l材质的不锈钢，并且抛光度ra<0.8。该设置的目的在于，在乳化锅内部将接触料体的搅拌器设置为不容易污染物料且不容易粘附物料。搅拌器7包括框式搅拌器与中间的桨式搅拌器。

本实施例中，抽真空系统10可以采用抽真空泵。

上述的对实施例的描述是为便于该技术领域的普通技术人员能理解和使用发明。熟悉本领域技术的人员显然可以容易地对这些实施例做出各种修改，并把在此说明的一般原理应用到其他实施例中而不必经过创造性的劳动。因此，本发明不限于上述实施例，本领域技术人员根据本发明的揭示，不脱离本发明范畴所做出的改进和修改都应该在本发明的保护范围之内。