1.微超滤分离膜的制备方法，其特征在于，所述制备方法为：先制得超滤膜，再对超滤膜进行后处理使其膜孔结构具有耐溶剂性，最后在后处理得到的超滤膜表面采用静电纺丝法制备微滤膜，得到微超滤分离膜；其中，所述超滤膜的膜材料为聚苯硫醚砜、聚苯硫醚砜衍生物、聚芳硫醚砜或聚芳硫醚砜衍生物中的至少一种。
2.根据权利要求1所述的微超滤分离膜的制备方法，其特征在于，所述超滤膜采用液液相分离法制得；进一步，所述超滤膜采用下述方法制得：将100～300重量份的超滤膜用材料和300～1200重量份的溶剂1于20～200℃下搅拌溶解，经熟化形成均相溶液作为制膜液，在平板膜设备中制得超滤膜；其中，刮膜速度为1m/mim～9m/min，凝固相溶剂为去离子、乙醇、乙醚或甲醇中的至少一种，凝固相温度为0℃～80℃。
3.根据权利要求2所述的微超滤分离膜的制备方法，其特征在于，所述超滤膜用材料为聚苯硫醚砜、聚苯硫醚砜衍生物、聚芳硫醚砜或聚芳硫醚砜衍生物中的至少一种。
4.根据权利要求2或3所述的微超滤分离膜的制备方法，其特征在于，所述溶剂1为苯酚、四氯乙烷、浓硫酸、N-甲基吡咯烷酮、1,3-二甲基-2-咪唑啉酮、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基甲酰胺或盐酸中的至少一种。
5.根据权利要求2～4任一项所述的微超滤分离膜的制备方法，其特征在于，超滤膜进行后处理采用的方法为：将所得超滤膜置于氧化性溶剂中氧化处理2～48h。
6.根据权利要求5所述的微超滤分离膜的制备方法，其特征在于，所述氧化性溶剂选自：高锰酸钾、醋酸、过氧乙酸、次氯酸、双氧水、氯酸钾、过硫酸钾或过硫酸胺。
7.根据权利要求1～6任一项所述的微超滤分离膜的制备方法，其特征在于，所述在后处理得到的超滤膜表面采用静电纺丝法制备微滤膜的方法为：将100～330重量份的微滤膜用材料和200～100重量份的溶剂2于100～200℃下搅拌溶解2～12h并静置，形成均相的纺丝液；再采用溶液纺丝法将纺丝液喷射到接收装置上得到微滤膜，其中，溶液纺丝法中的工艺条件为：喷丝头的直径0.2～4mm，静纺电压10～35kv，接收距离6～45cm，接收板为所述后处理得到的超滤膜。
8.根据权利要求7所述的微超滤分离膜的制备方法，其特征在于，所述微滤膜用材料为：聚乳酸、醋酸纤维素、聚醚砜、聚芳硫醚砜及其衍生物、聚苯硫醚砜及其衍生物、聚氨酯、聚偏氟乙烯或聚己内酯中的至少一种。
9.根据权利要求7或8所述的微超滤分离膜的制备方法，其特征在于，所述溶剂2为二甲基亚砜、N-甲基吡咯烷酮、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、1,3-二甲基-2-咪唑啉酮、六氟异丙醇和四氢呋喃中的至少一种。
10.一种微超滤分离膜，其特征在于，所述微超滤分离膜采用权利要求1～9任一项所述的制备方法制得。