本实用新型涉及磨料抛光技术领域,具体涉及一种氧化硅磨料抛光设备。
背景技术:
现有技术中,抛磨块是以刚玉或碳化硅等粉末为磨料,用烧结或浇注的方法制造的小型抛光磨具,主要用于抛光磨削各种金属或非金属物品的表面;用于金属抛光的抛磨块通常是使用高温烧结棕刚玉制造的抛磨块,由于现有工艺制作方法的影响,现有的抛磨块存在抛光质量差、耐磨度差等缺点,使用效果不够理想,因此很多高要求的抛光、磨削处理仍然是采用进口的抛磨块,这样大大提高了加工的生产成本;氧化硅磨料抛光是以高纯度硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品;广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光;如:硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工;因此,需要一种氧化硅磨料抛光设备。
技术实现要素:
本实用新型的目的是为了克服现有技术的不足,而提供一种混合均匀、控比精确、提高效率的一种氧化硅磨料抛光设备。
本实用新型的目的是这样实现的:一种氧化硅磨料抛光设备,它包括筛分仓、储存仓、混合箱和球磨机,所述的筛分仓的内部设置有第一筛网,所述的第一筛网的下方设置有挡板,所述的挡板的下方设置有传送轴,所述的传送轴的左侧设置有第一电机,所述的筛分仓的左侧设置有推拉板,所述的筛分仓和储存仓之间通过连接管连接,所述的储存仓和混合箱之间通过送料管连接,所述的送料管上设置有送料泵,所述的送料管和混合箱的交接处设置有重量传感器,所述的混合箱的上方设置有第二电机,所述的第二电机的下方设置有搅拌轴,所述的混合箱的上方连接有第一溶剂管,所述的第一溶剂管上设置有第一流量计,所述的第一溶剂管和混合箱的交接处设置有第一电磁阀,所述的球磨机的右侧设置有进料口,所述的进料口与混合箱底部通过下料管连接,所述的下料管上设置有第二电磁阀,所述的进料口上连接有第二溶剂管,所述的第二溶剂管上设置有第二流量计,所述的第二溶剂管上设置有第三电磁阀,所述的球磨机的左侧设置有出料口,所述的出料口上设置有第二筛网,所述的球磨机的下方设置有支腿,所述的支腿上设置有控制面板。
所述的控制面板电性连接有第一电机、送料泵、重量传感器、第二电机、第一电磁阀、第一流量计、第二电磁阀、第三电磁阀、第二流量计、球磨机。
所述的第一筛网的孔径大小为450-550目,所述的所述的第二筛网的孔径大小为500-750目。
所述的混合箱的外壁上设置有可视窗口。
本实用新型的有益效果是:本实用新型先将抛光原料按照比例配置,进行筛分,通过第一筛网的抛光原料顺着挡板掉落至传送轴上,在传送轴的作用下,将抛光原料进行混合,并运输至储存仓内;筛分仓的左侧设置有推拉板,可以将未通过第一筛网的抛光原料进行清理,方便后续的抛光原料进行筛分;在送料泵的作用下,将抛光原料输送至混合箱内,由于送料管和混合箱的交接处设置有重量传感器,在使用时,可先通过控制面板对重量传感器进行预设,当重量传感器达到预设值时,重量传感器将重量信号传递给控制面板,控制面板暂停送料泵,在送料的同时,控制面板打开第一电磁阀,使第一溶剂进入到混合箱内,第一溶剂管上设置有第一流量计,在使用时,可先通过控制面板对多个流量计分别进行预设,当流量计达到预设值时,流量计将流量信号传递给控制面板,控制面板暂停各自的电磁阀,达到精确控制反应配比的效果;混合箱的外壁上设置有可视窗口,可以清楚的观察混合箱内的混合情况;本装置在使用时,彼此独立工作,从而提高了生产效率;总而言之,本实用新型具有混合均匀、控比精确、提高效率的优点。
附图说明
图1是本实用新型一种氧化硅磨料抛光设备的结构图。
其中:1、筛分仓2、推拉板3、第一筛网4、挡板5、第一电机6、传送轴7、连接管8、储存仓9、送料管10、送料泵11、重量传感器12、第二电机13、第一电磁阀14、第一流量计15、第一溶剂管16、可视窗口17、搅拌轴18、第二电磁阀19、下料管20、第三电磁阀21、第二流量计22、第二溶剂管23、进料口24、控制面板25、球磨机26、第二筛网27、出料口28、支腿29、混合箱。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型做进一步的说明。
实施例1
如图1所示,一种氧化硅磨料抛光设备,它包括筛分仓1、储存仓8、混合箱29和球磨机25,所述的筛分仓1的内部设置有第一筛网3,所述的第一筛网3的下方设置有挡板4,所述的挡板4的下方设置有传送轴6,所述的传送轴6的左侧设置有第一电机5,所述的筛分仓1的左侧设置有推拉板2,所述的筛分仓1和储存仓8之间通过连接管7连接,所述的储存仓8和混合箱29之间通过送料管9连接,所述的送料管9上设置有送料泵10,所述的送料管9和混合箱29的交接处设置有重量传感器11,所述的混合箱29的上方设置有第二电机12,所述的第二电机12的下方设置有搅拌轴17,所述的混合箱29的上方连接有第一溶剂管15,所述的第一溶剂管15上设置有第一流量计14,所述的第一溶剂管15和混合箱29的交接处设置有第一电磁阀13,所述的球磨机25的右侧设置有进料口23,所述的进料口23与混合箱29底部通过下料管19连接,所述的下料管19上设置有第二电磁阀18,所述的进料口23上连接有第二溶剂管22,所述的第二溶剂管22上设置有第二流量计21,所述的第二溶剂管22上设置有第三电磁阀20,所述的球磨机25的左侧设置有出料口27,所述的出料口27上设置有第二筛网26,所述的球磨机25的下方设置有支腿28,所述的支腿28上设置有控制面板24。
本实用新型的有益效果是:本实用新型先将抛光原料按照比例配置,进行筛分,通过第一筛网的抛光原料顺着挡板掉落至传送轴上,在传送轴的作用下,将抛光原料进行混合,并运输至储存仓内;筛分仓的左侧设置有推拉板,可以将未通过第一筛网的抛光原料进行清理,方便后续的抛光原料进行筛分;在送料泵的作用下,将抛光原料输送至混合箱内,由于送料管和混合箱的交接处设置有重量传感器,在使用时,可先通过控制面板对重量传感器进行预设,当重量传感器达到预设值时,重量传感器将重量信号传递给控制面板,控制面板暂停送料泵,在送料的同时,控制面板打开第一电磁阀,使第一溶剂进入到混合箱内,第一溶剂管上设置有第一流量计,在使用时,可先通过控制面板对多个流量计分别进行预设,当流量计达到预设值时,流量计将流量信号传递给控制面板,控制面板暂停各自的电磁阀,达到精确控制反应配比的效果;本装置在使用时,彼此独立工作,从而提高了生产效率;总而言之,本实用新型具有混合均匀、控比精确、提高效率的优点。
实施例2
如图1所示,一种氧化硅磨料抛光设备,它包括筛分仓1、储存仓8、混合箱29和球磨机25,所述的筛分仓1的内部设置有第一筛网3,所述的第一筛网3的下方设置有挡板4,所述的挡板4的下方设置有传送轴6,所述的传送轴6的左侧设置有第一电机5,所述的筛分仓1的左侧设置有推拉板2,所述的筛分仓1和储存仓8之间通过连接管7连接,所述的储存仓8和混合箱29之间通过送料管9连接,所述的送料管9上设置有送料泵10,所述的送料管9和混合箱29的交接处设置有重量传感器11,所述的混合箱29的上方设置有第二电机12,所述的第二电机12的下方设置有搅拌轴17,所述的混合箱29的上方连接有第一溶剂管15,所述的第一溶剂管15上设置有第一流量计14,所述的第一溶剂管15和混合箱29的交接处设置有第一电磁阀13,所述的球磨机25的右侧设置有进料口23,所述的进料口23与混合箱29底部通过下料管19连接,所述的下料管19上设置有第二电磁阀18,所述的进料口23上连接有第二溶剂管22,所述的第二溶剂管22上设置有第二流量计21,所述的第二溶剂管22上设置有第三电磁阀20,所述的球磨机25的左侧设置有出料口27,所述的出料口27上设置有第二筛网26,所述的球磨机25的下方设置有支腿28,所述的支腿28上设置有控制面板24;所述的控制面板24电性连接有第一电机5、送料泵10、重量传感器11、第二电机12、第一电磁阀13、第一流量计14、第二电磁阀18、第三电磁阀20、第二流量计21、球磨机25;所述的第一筛网3的孔径大小为450-550目,所述的所述的第二筛网26的孔径大小为500-750目;所述的混合箱29的外壁上设置有可视窗口16。
本实用新型的有益效果是:本实用新型先将抛光原料按照比例配置,进行筛分,通过第一筛网的抛光原料顺着挡板掉落至传送轴上,在传送轴的作用下,将抛光原料进行混合,并运输至储存仓内;筛分仓的左侧设置有推拉板,可以将未通过第一筛网的抛光原料进行清理,方便后续的抛光原料进行筛分;在送料泵的作用下,将抛光原料输送至混合箱内,由于送料管和混合箱的交接处设置有重量传感器,在使用时,可先通过控制面板对重量传感器进行预设,当重量传感器达到预设值时,重量传感器将重量信号传递给控制面板,控制面板暂停送料泵,在送料的同时,控制面板打开第一电磁阀,使第一溶剂进入到混合箱内,第一溶剂管上设置有第一流量计,在使用时,可先通过控制面板对多个流量计分别进行预设,当流量计达到预设值时,流量计将流量信号传递给控制面板,控制面板暂停各自的电磁阀,达到精确控制反应配比的效果;混合箱的外壁上设置有可视窗口,可以清楚的观察混合箱内的混合情况;本装置在使用时,彼此独立工作,从而提高了生产效率;总而言之,本实用新型具有混合均匀、控比精确、提高效率的优点。