1.一种用于半导体行业的废气处理系统，其特征在于，包括用于过滤废气的沸石转轮(3)以及用于催化燃烧有机物的催化直燃炉(11)，所述沸石转轮(3)包括吸附区与脱附区，所述吸附区连接有用于将废气输送至所述吸附区内进行过滤并将过滤后的废气输送至烟囱(5)排放的第一风机(4)，所述脱附区连接有用于向所述脱附区内输入气流并将所述脱附区内的废气输送至所述催化直燃炉(11)的第二风机(13)，所述脱附区的入口连接有用于加热输送至所述脱附区的气流的加热装置，所述催化直燃炉(11)的出口用于连通烟囱(5)以排放燃烧后的气体。
2.根据权利要求1所述的用于半导体行业的废气处理系统，其特征在于，所述吸附区的入口连接有用于过滤杂质的第一过滤装置(1)。
3.根据权利要求2所述的用于半导体行业的废气处理系统，其特征在于，所述脱附区的进口与出口处还设有用于检测并显示所述吸附区的进口与出口处的压力的压力表(2)。
4.根据权利要求3所述的用于半导体行业的废气处理系统，其特征在于，所述沸石转轮(3)为筒式沸石转轮。
5.根据权利要求1至4任一项所述的用于半导体行业的废气处理系统，其特征在于，所述加热装置为连接于所述催化直燃炉(11)的出口的第一换热器(7)，所述第一换热器(7)的热侧端连接于所述催化直燃炉(11)的出口，所述第一换热器(7)的冷侧端连接于所述脱附区的入口。
6.根据权利要求5所述的用于半导体行业的废气处理系统，其特征在于，还包括第二换热器(6)，所述第二换热器(6)的热侧端连接于所述第一换热器(7)的热侧端，所述第二换热器(6)的冷侧端分别连接于所述脱附区的出口与所述催化直燃炉(11)的入口。
7.根据权利要求6所述的用于半导体行业的废气处理系统，其特征在于，所述第一换热器(7)的冷侧端的入口处连接有用于过滤杂质的第二过滤装置(8)。
8.根据权利要求7所述的用于半导体行业的废气处理系统，其特征在于，所述第二过滤装置(8)与所述脱附区之间还设有与所述第一换热器(7)并联的空气通道(9)，所述空气通道(9)上设有用于控制其开闭的连杆阀(10)。
9.根据权利要求8所述的用于半导体行业的废气处理系统，其特征在于，所述催化直燃炉(11)与所述脱附区之间的通路上还设有用于向其内注入空气的新风阀(12)。