一种制药及化工行业废气净化设备的制作方法

文档序号:25027931发布日期:2021-05-11 16:55阅读:78来源:国知局
一种制药及化工行业废气净化设备的制作方法

本发明涉及化工制药领域,具体的是一种制药及化工行业废气净化设备。



背景技术:

制药及化工行业用废气净化器主要是用于对化工制药产生的废气进行净化再排出的设备,通过将化工制药产生的废气导入制药及化工行业用废气净化器内部,再通过制药及化工行业用废气净化器内部的过滤层对废气中的有害颗粒物进行拦截,最后再通过排气口将净化完成的废气向外排出,基于上述描述本发明人发现,现有的一种制药及化工行业废气净化设备主要存在以下不足,例如:

由于熬制雪梨膏时产生的废气内部会含有黏稠的雪梨膏成份,若熬制雪梨膏的废气导入制药及化工行业用废气净化器内部,则容易使过滤层的外侧逐渐附着一层黏稠的雪梨膏,且雪梨膏的流动速度缓慢同时也容易风干凝固,大量累积则会使过滤层的通透性出现下降的情况。



技术实现要素:

针对上述问题,本发明提供一种制药及化工行业废气净化设备。

为了实现上述目的,本发明是通过如下的技术方案来实现:一种制药及化工行业废气净化设备,其结构包括机体、进气口、底座支架、排气口,所述进气口与机体的前端相连接,所述排气口与机体的后端嵌固连接,所述机体与底座支架相焊接;所述机体包括衔接块、过滤层、外框,所述衔接块嵌固于外框的内壁位置,所述过滤层与衔接块为一体化结构。

作为本发明的进一步优化,所述过滤层包括反弹块、收集机构、框架,所述反弹块安装于框架的内部位置,所述收集机构嵌固于反弹块的前端位置,所述收集机构设有五个,且均匀在框架的右侧呈平行分布。

作为本发明的进一步优化,所述收集机构包括前置板、中接杆、弹性片、打底板,所述前置板与弹性片的右侧中部相连接,所述中接杆嵌固于前置板的右侧位置,所述弹性片安装于打底板的右侧位置,所述中接杆上设有内外通透的孔。

作为本发明的进一步优化,所述中接杆包括振动球、增触面、板块、透气腔,所述振动球嵌固于增触面的内部位置,所述增触面安装于透气腔的内侧位置,所述板块贯穿于透气腔的内部位置,所述振动球采用密度较大的合金钢材质。

作为本发明的进一步优化,所述板块包括外管、固定杆、转动辊,所述固定杆与外管为一体化结构,所述转动辊与固定杆的顶部活动卡合,通过气流对转动辊产生的推力,能够使转动辊沿着固定杆进行转动。

作为本发明的进一步优化,所述转动辊包括过渡块、回弹环、位中块、收缩板,所述过渡块通过回弹环与位中块的外侧相连接,所述收缩板嵌固于过渡块的外侧位置,所述收缩板设有四个,且均匀在位中块的外部呈圆形分布。

作为本发明的进一步优化,所述收缩板包括承接板、复位片、上摆板,所述复位片安装于上摆板的内侧与承接板的边侧之间,所述上摆板与承接板的上端铰链连接,所述上摆板设有两个,且均匀在承接板的上端呈对称分布。

本发明具有如下有益效果:

1、通过废气对中接杆产生的持续推力,能够使中接杆在前置板与弹性片的配合下向内收缩,从而能够通过板块向外挤出气流,故而能够在外部废气的配合下加速雪梨膏的风干凝固,当废气停止导入机体内部,通过反弹块的反弹能够推动收集机构进行复位,故而能够产生惯性力使振动球反复的撞击增触面的内侧产生振动,从而使增触面产生的振动能够将凝固的雪梨膏振落。

2、通过转动辊转动产生的甩力,能够使上摆板在转动至正上方时沿着承接板向上摆动,从而使上摆板能够将转动辊上凝固的雪梨膏弹除,有效的避免了未凝固的雪梨膏容易进入板块内部,导致板块的内部出现堵塞的情况。

附图说明

图1为本发明一种制药及化工行业废气净化设备的结构示意图。

图2为本发明机体侧视剖面的结构示意图。

图3为本发明过滤层侧视半剖面的结构示意图。

图4为本发明收集机构侧视半剖面的结构示意图。

图5为本发明中接杆侧视半剖面的结构示意图。

图6为本发明板块侧视半剖面的结构示意图。

图7为本发明转动辊侧视半剖面的结构示意图。

图8为本发明收缩板侧视半剖面的结构示意图。

图中:机体-1、进气口-2、底座支架-3、排气口-4、衔接块-11、过滤层-12、外框-13、反弹块-a1、收集机构-a2、框架-a3、前置板-a21、中接杆-a22、弹性片-a23、打底板-a24、振动球-b1、增触面-b2、板块-b3、透气腔-b4、外管-b31、固定杆-b32、转动辊-b33、过渡块-c1、回弹环-c2、位中块-c3、收缩板-c4、承接板-c41、复位片-c42、上摆板-c43。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

实施例1

如例图1-例图5所展示:

本发明提供一种制药及化工行业废气净化设备,其结构包括机体1、进气口2、底座支架3、排气口4,所述进气口2与机体1的前端相连接,所述排气口4与机体1的后端嵌固连接,所述机体1与底座支架3相焊接;所述机体1包括衔接块11、过滤层12、外框13,所述衔接块11嵌固于外框13的内壁位置,所述过滤层12与衔接块11为一体化结构。

其中,所述过滤层12包括反弹块a1、收集机构a2、框架a3,所述反弹块a1安装于框架a3的内部位置,所述收集机构a2嵌固于反弹块a1的前端位置,所述收集机构a2设有五个,且均匀在框架a3的右侧呈平行分布,通过收集机构a2的外侧能够对流动缓慢的雪梨膏进行收集,所述反弹块a1采用密度较大的聚醚海绵材质,通过反弹块a1能够推动受废气推动收缩的收集机构a2进行复位。

其中,所述收集机构a2包括前置板a21、中接杆a22、弹性片a23、打底板a24,所述前置板a21与弹性片a23的右侧中部相连接,所述中接杆a22嵌固于前置板a21的右侧位置,所述弹性片a23安装于打底板a24的右侧位置,所述中接杆a22上设有内外通透的孔,通过机构伸缩产生的惯性力,能够使中接杆a22在前置板a21与弹性片a23的配合下进行反复伸缩,从而使中接杆a22能够向外挤出气流,故而能够对雪梨膏进行加速风干。

其中,所述中接杆a22包括振动球b1、增触面b2、板块b3、透气腔b4,所述振动球b1嵌固于增触面b2的内部位置,所述增触面b2安装于透气腔b4的内侧位置,所述板块b3贯穿于透气腔b4的内部位置,所述振动球b1采用密度较大的合金钢材质,通过机构向外伸出产生的甩力,能够使振动球b1对增触面b2的内壁产生撞击,从而能够将风干凝固的雪梨膏块振落。

本实施例的详细使用方法与作用:

本发明中,通过熬制雪梨膏的废气进入机体1内部时对过滤层12产生的推力,能够使收集机构a2沿着框架a3向内滑动至与框架a3的右侧表面在同一水平面上,从而使流动缓慢的雪梨膏能够近距离的流入收集机构a2的内侧进行集中收集,并且通过废气对中接杆a22产生的持续推力,能够使中接杆a22在前置板a21与弹性片a23的配合下向内收缩,从而能够通过板块b3向外挤出气流,故而能够在外部废气的配合下加速雪梨膏的风干凝固,当废气停止导入机体1内部,通过反弹块a1的反弹能够推动收集机构a2进行复位,从而使中接杆a22能够在前置板a21与弹性片a23的配合下向外伸出,故而能够产生惯性力使振动球b1反复的撞击增触面b2的内侧产生振动,从而使增触面b2产生的振动能够将凝固的雪梨膏振落,有效的避免了过滤层12的外侧会不断的累积雪梨膏导致对废气的通透性出现下降的情况。

实施例2

如例图6-例图8所展示:

其中,所述板块b3包括外管b31、固定杆b32、转动辊b33,所述固定杆b32与外管b31为一体化结构,所述转动辊b33与固定杆b32的顶部活动卡合,通过气流对转动辊b33产生的推力,能够使转动辊b33沿着固定杆b32进行转动,从而使转动辊b33能够将气流向外带出,并且通过转动辊b33能够对外部的雪梨膏进行抵挡。

其中,所述转动辊b33包括过渡块c1、回弹环c2、位中块c3、收缩板c4,所述过渡块c1通过回弹环c2与位中块c3的外侧相连接,所述收缩板c4嵌固于过渡块c1的外侧位置,所述收缩板c4设有四个,且均匀在位中块c3的外部呈圆形分布,通过气流对收缩板c4产生的推力,能够使收缩板c4在过渡块c1的配合向中部收缩,从而能够使气流顺利排出。

其中,所述收缩板c4包括承接板c41、复位片c42、上摆板c43,所述复位片c42安装于上摆板c43的内侧与承接板c41的边侧之间,所述上摆板c43与承接板c41的上端铰链连接,所述上摆板c43设有两个,且均匀在承接板c41的上端呈对称分布,通过机构向上伸出产生的惯性力,能够使上摆板c43沿着承接板c41向上摆动,从而使上摆板c43能够将其表面凝固的雪梨膏块向外甩出。

本实施例的详细使用方法与作用:

本发明中,由于板块b3需对气流进行导出,从而使板块b3是内外通透的,以至于未凝固的雪梨膏容易进入板块b3的内部,长时间累积则会导致板块b3的内部出现堵塞的情况,通过气流对转动辊b33产生向上的推力,能够使转动辊b33沿着固定杆b32的顶部进行转动,并且通过气流对收缩板c4产生的推力,能够使透气腔b4在过渡块c1与回弹环c2的配合下向内收缩,从而使气流能够通过过渡块c1与外管b31的内壁之间向外导出,并且通过转动辊b33转动产生的甩力,能够使上摆板c43在转动至正上方时沿着承接板c41向上摆动,从而使上摆板c43能够将转动辊b33上凝固的雪梨膏弹除,有效的避免了未凝固的雪梨膏容易进入板块b3内部,导致板块b3的内部出现堵塞的情况。

利用本发明所述技术方案,或本领域的技术人员在本发明技术方案的启发下,设计出类似的技术方案,而达到上述技术效果的,均是落入本发明的保护范围。

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