1.一种晶体提纯装置，其特征在于：包括结晶釜体、离心筒、驱动装置和加热单元，
2.根据权利要求1所述的晶体提纯装置，其特征在于：所述第一轴线与所述离心筒的轴线重合，在所述第一轴线方向上，所述排液孔靠近所述第一轴线的第一端高于所述排液孔远离所述第一轴线的第二端。
3.根据权利要求2所述的晶体提纯装置，其特征在于：还包括集液槽，所述集液槽固定设置在所述第一空腔的内侧壁上，在所述第一轴线方向上，所述集液槽的顶部低于所述离心筒侧壁上最低处的所述排液孔的第二端，所述集液槽具有上方开口，所述结晶釜体上设置有与所述集液槽内部连通的出液口。
4.根据权利要求3所述的晶体提纯装置，其特征在于：还包括多个喷淋器，所述喷淋器固定设置在所述第一空腔内；在所述第一轴线方向上，至少部分所述喷淋器高于所述离心筒的所述顶部开口，所述喷淋器用于喷淋清洗液。
5.根据权利要求1所述的晶体提纯装置，其特征在于：所述驱动装置包括电机和转轴，所述电机的输出轴与所述转轴的一端固定连接，所述转轴远离所述电机的一端延伸至所述第一空腔内经沿所述离心筒的轴线方向穿过所述离心筒后与所述结晶釜体绕所述第一轴线转动连接；所述第一轴线与所述转轴的轴线重合；所述离心筒与所述转轴固定连接。
6.根据权利要求5所述的晶体提纯装置，其特征在于：还包括防护挡板，所述防护挡板设置在所述离心筒下方的所述转轴外侧，所述防护挡板能够阻止位于所述防护挡板内侧的所述转轴与所述第一空腔内的液体接触。
7.根据权利要求6所述的晶体提纯装置，其特征在于：所述防护挡板包括上环形挡板和下环形挡板；沿所述第一轴线方向上，所述下环形挡板的下端与所述第一空腔的内底部固定连接，所述下环形挡板的上端具有使所述转轴穿过的穿孔；沿所述第一轴线方向上，所述上环形挡板固定连接在所述离心筒外底部并向下延伸，所述转轴穿设在所述上环形挡板内部；沿所述第一轴线方向上，所述下环形挡板的上端部高于所述上环形挡板的下端部；所述下环形挡板的上端部周向边沿位于所述上环形挡板的下端部周向边沿的内侧。
8.根据权利要求1所述的晶体提纯装置，其特征在于：所述结晶釜体上还设置有与所述第一空腔连通的气体置换通道，通过所述气体置换通道用于置换所述第一空腔内的气体。
9.根据权利要求1所述的晶体提纯装置，其特征在于：所述加热单元为气体加热器，所述气体加热器的加热端位于所述第一空腔内且用于加热所述第一空腔内的气体。
10.一种基于权利要求1～9中任一项所述的晶体提纯装置的提纯方法，其特征在于：包括以下步骤：
11.根据权利要求10所述的提纯方法，其特征在于：在s2发汗液甩出后，通入比所述离心筒内剩余的晶体温度高的熔融态晶体，利用熔融态晶体的热量使所述离心筒内剩余的晶体熔化，待所述离心筒内剩余的晶体全部熔融后，开启所述驱动装置使所述离心筒离心转动，通过离心力甩出熔融的晶体。