一种电力用高清洁导电膏组合物及其制备方法_2

文档序号:9447524阅读:来源:国知局
合 物。 阳0測 实施例4 一种电力用高清洁导电膏组合物,包括W下重量份数的原料:基础油:58%,离子液体: 15〇/〇,稠化剂:21%,耐磨添加剂:6〇/〇。
[0039] 所述的耐磨添加剂为氮化娃和硬脂酸,两者重量比为1:1。 W40] 所述的基础油为聚乙締酸、聚苯酸和聚-a-締控PA025,S者重量比为1:2:1。
[0041] 所述的离子液体为BmimPFe和[CzOHDim] [NTfz],两者重量比为1:1。
[0042] 所述的稠化剂为聚四氣乙締和膨润±。
[0043] 上述的导电膏组合物的制备方法,包括W下步骤: (1) 按上述重量配比准备各原料; (2) 将基础油加入反应容器中,开启揽拌设备,接着取离子液体重量的45%继续加入反 应容器中,保持10min; (3) 将稠化剂慢慢加入反应容器中,保持6min; (4) 按1g基础油加入2. 5血正己烧的比例加入正己烧,混合80min,形成润滑脂结 构; (5) 将剩余离子液体分成3次缓缓加入反应容器中,分别保持8min,然后继续加入耐 磨添加剂,加热至100 °C,并保持50min; (6) 将步骤(5)得到的润滑脂降至室溫,=漉研磨机上研磨3遍,得到产品导电膏组合 物。
[0044] 实施例5 一种电力用高清洁导电膏组合物,包括W下重量份数的原料:基础油:60%,离子液体: 11〇/〇,稠化剂:25%,耐磨添加剂:4%。
[0045] 所述的耐磨添加剂为二氧化娃和二硫化钢,两者重量比为3:1。
[0046] 所述的基础油为聚-a-締控PA040。
[0047] 所述的离子液体为[血im] [CsNOaSsW。
[0048] 所述的稠化剂为膨润±和硅胶,两者重量比为1 :1。
[0049] 上述的导电膏组合物的制备方法,包括W下步骤: (1) 按上述重量配比准备各原料; (2) 将基础油加入反应容器中,开启揽拌设备,接着取离子液体重量的50%继续加入反 应容器中,保持5min; (3) 将稠化剂慢慢加入反应容器中,保持8min; (4) 按1g基础油加入3血正己烧的比例加入正己烧,混合60min,形成润滑脂结构; (5) 将剩余离子液体分成3次缓缓加入反应容器中,分别保持5min,然后继续加入耐 磨添加剂,加热至90 °C,并保持40min; (6) 将步骤(5)得到的润滑脂降至室溫,=漉研磨机上研磨3遍,得到产品导电膏组合 物。
[0050] 实施例6 一种电力用高清洁导电膏组合物,包括W下重量份数的原料:基础油:62%,离子液体: 8%,稠化剂:29%,耐磨添加剂:1%。
[0051] 所述的耐磨添加剂为氮化棚。 阳05引 所述的基础油为聚-a-締控PA025和PA040。 阳化引所述的离子液体为BmimCFsSOs和BmimBF4,两者重量比为1: 2。
[0054] 所述的稠化剂为聚四氣乙締。 阳化5] 上述的导电膏组合物的制备方法,包括W下步骤: (1) 按上述重量配比准备各原料; (2) 将基础油加入反应容器中,开启揽拌设备,接着取离子液体重量的55%继续加入反 应容器中,保持5min; (3) 将稠化剂慢慢加入反应容器中,保持10min; (4) 按1g基础油加入3血石油酸的比例加入石油酸,混合80min,形成润滑脂结构; (5) 将剩余离子液体分成2次缓缓加入反应容器中,分别保持10min,然后继续加入耐 磨添加剂,加热至110 °C,并保持30min; (6) 将步骤(5)得到的润滑脂降至室溫,=漉研磨机上研磨2遍,得到产品导电膏组合 物。
[0056] 实施例7 一种电力用高清洁导电膏组合物,包括W下重量份数的原料:基础油:67%,离子液体: 8%,稠化剂:20%,耐磨添加剂:5%。
[0057] 所述的耐磨添加剂为氮化棚、二氧化娃和硬脂酸,=者重量比为1 :2 :3。
[0058] 所述的基础油为聚亚烷基二醇和聚-a-締控PA040。
[0059] 所述的离子液体为血imBF4和[Hmim][CsNOaSzFs],两者重量比为1: 3。
[0060] 所述的稠化剂为聚四氣乙締。
[0061] 上述的导电膏组合物的制备方法,包括W下步骤: (1) 按上述重量配比准备各原料; (2) 将基础油加入反应容器中,开启揽拌设备,接着取离子液体重量的50%继续加入反 应容器中,保持5min; (3) 将稠化剂慢慢加入反应容器中,保持5min; (4) 按1g基础油加入2. 7血正己烧的比例加入正己烧,混合60min,形成润滑脂结 构; (5) 将剩余离子液体分成3次缓缓加入反应容器中,分别保持6min,然后继续加入耐 磨添加剂,加热至80 °C,并保持40min; (6) 将步骤(5)得到的润滑脂降至室溫,=漉研磨机上研磨3遍,得到产品导电膏组合 物。 W62] 实施例8 一种电力用高清洁导电膏组合物,包括W下重量份数的原料:基础油:70%,离子液体: 5〇/〇,稠化剂:22%,耐磨添加剂:3%。
[0063] 所述的耐磨添加剂为二硫化钢。 W64] 所述的基础油为聚乙締酸和聚亚烷基二醇,两者重量比为1:1。 W65] 所述的离子液体为BmimBF4和BmimSbFe,两者重量比为2:1。
[0066] 所述的稠化剂为聚四氣乙締、膨润±和硅胶的混合,S者重量比为3:1:1。
[0067] 上述的导电膏组合物的制备方法,包括W下步骤: (1) 按上述重量配比准备各原料; (2) 将基础油加入反应容器中,开启揽拌设备,接着取离子液体重量的55%继续加入反 应容器中,保持6min; (3) 将稠化剂慢慢加入反应容器中,保持8min; (4) 按1g基础油加入2. 2血乙醇的比例加入乙醇,混合50min,形成润滑脂结构; (5) 将剩余离子液体分成3次缓缓加入反应容器中,分别保持8min,然后继续加入耐 磨添加剂,加热至80 °C,并保持40min; (6) 将步骤(5)得到的润滑脂降至室溫,=漉研磨机上研磨3遍,得到产品导电膏组合 物。
[0068] 本发明实施例1~8所制备的电力用高清洁导电膏组合物的性能检测结果见表1。
[0069] 表1本发明实施例1~8所制备的电力用高清洁导电膏组合物的性能检测结果
侣排接头搭接处表面形成接触电阻的测试结果见表2。
[0070] 表2侣排接头搭接处表面形成接触电阻的测试结果
由表1和表2可W看出,本发明电力用高清洁导电膏组合物滴点高,体积电阻率小,摩 擦系数小,抗磨性能好,导电性能良好,产生的接触电阻小,可广泛用于电力工程中常用的 导电体材料的接触面。
【主权项】
1. 一种电力用高清洁导电膏组合物,其特征在于,包括以下重量百分数的原料:基础 油:50~70%,离子液体:5~20%,稠化剂:20~35%。2. 根据权利要求1所述的电力用高清洁导电膏组合物,其特征在于,还包括重量百分 数1~10%的耐磨添加剂。3. 根据权利要求2所述的电力用高清洁导电膏组合物,其特征在于,所述的耐磨添加 剂为氮化硼、氮化硅、二氧化硅、硬脂酸和二硫化钼中至少一种。4. 根据权利要求1所述的电力用高清洁导电膏组合物,其特征在于,所述的基础油为 聚乙烯醚、聚苯醚、聚亚烷基二醇和聚-a-烯烃中的至少一种。5. 根据权利要求4所述的电力用高清洁导电膏组合物,其特征在于,所述的聚-a-烯 烃为PA025和/或PA040。6. 根据权利要求1所述的电力用高清洁导电膏组合物,其特征在于,所述的离子液体 为1- 丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐,1-己基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐,1- 丁基-3-甲基咪 唑六氟锑酸盐,1- 丁基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐,1- (2-羟乙基)-3-癸基咪唑双三氟甲烷 横酰亚胺盐,1_己基_3_甲基咪唑1,1,2, 2, 3, 3-六氣丙烷-1,3-二横酰亚胺盐和1- 丁 基-3-甲基咪唑三氟甲磺酸盐中至少一种。7. 根据权利要求1所述的电力用高清洁导电膏组合物,其特征在于,所述的稠化剂为 聚四氟乙烯、膨润土和硅胶中的至少一种。8. -种如权利要求1所述的电力用高清洁导电膏组合物的制备方法,其特征在于,包 括以下步骤: (1) 按所述重量配比准备各原料; (2) 将基础油加入反应容器中,开启搅拌设备,接着取离子液体重量的45~55%加入反 应容器中,保持5~10min; (3) 将稠化剂慢慢加入反应容器中,保持5~10min; (4) 按Ig基础油加入2~3mL易挥发溶剂的比例加入易挥发溶剂,混合40~80min, 形成润滑脂结构; (5) 将剩余离子液体分成2~3次缓缓加入反应容器中,分别保持5~10min,再加热 至80~110 °C,并保持30~60min; (6) 将步骤(5)得到的润滑脂降至室温,三辊研磨机上研磨2~3遍,得到产品导电膏 组合物。9. 根据权利要求8所述的电力用高清洁导电膏组合物的制备方法,其特征在于,步骤 (4)所述的易挥发溶剂为正己烷、乙醇和石油醚中至少一种。
【专利摘要】本发明属于电力工业技术领域,具体涉及一种电力用高清洁导电膏组合物及其制备方法,所述导电膏组合物包括以下重量百分数的原料:基础油:50~70%,离子液体:5~20%,稠化剂:20~35%。本发明中的离子液体提高了导电膏的润滑性能和导电性能,能够稳定存在,具有良好的热稳定性,蒸汽压低,不易挥发,消除了VOC环境污染问题,清洁环保,与基础油完全互溶,制备的导电膏组合物色泽均匀一致。
【IPC分类】C10M169/06, C10N30/04, C10N30/06, C10N30/08, C10M177/00, C10N50/10
【公开号】CN105199819
【申请号】CN201510679300
【发明人】时伟
【申请人】国网河南镇平县供电公司
【公开日】2015年12月30日
【申请日】2015年10月20日
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