气助式还原剂输送系统的制作方法
【专利说明】气助式还原剂输送系统
[0001]交叉引用
[0002]本申请要求于2012年2月23日提交的中国申请N0.201210042798.7的权益。上述申请的公开内容通过引用合并到本文中。
技术领域
[0003]本公开涉及一种废气处理系统。更具体地，提供了一种气助式还原剂输送系统。
【背景技术】
[0004]该部分提供与本公开相关但不必为现有技术的背景信息。
[0005]选择性催化还原技术已经与减少存在于内燃机的废气中的氮氧化物结合使用。许多利用内燃机的车辆配备有用于减少氮氧化物排放的废气后处理装置。这些系统中的一些系统使用尿基技术进行构造，这些系统包括用于存储尿素的容器以及用于将尿素从容器传输至废气流的输送系统。虽然这些系统可能过去表现良好，但是理想的是提供一种气助式输送系统以将尿素(或其他还原剂)更高效且更有效地输送至废气流。
【发明内容】
[0006]该部分提供本公开的总体概括，并不是本公开全部范围或其全部特征的全面披
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[0007]在一个形式中，本公开提供了一种用于废气处理系统的泵组件，泵组件可以包括壳体、气体流动路径、还原剂流动路径和泵。壳体可以包括构造成接纳来自罐的还原剂的第一入口、构造成接纳来自气体压缩机的气体的第二入口、以及气体和还原剂离开壳体所通过的出口。气体流动路径可以在第二入口与出口之间延伸并且与第二入口和出口流体连通。还原剂流动路径可以在第一入口与出口之间延伸并且与第一入口和出口流体连通。泵可以至少部分地设置在壳体内并且可以包括与流过气体流动路径的气体处于热传递关系的马达。
[0008]在另一个形式中，本公开提供了一种用于废气处理系统的泵组件，泵组件可以包括壳体、气体流动路径、还原剂流动路径和混合装置。壳体可以包括构造成接纳来自罐的还原剂的第一入口、构造成接纳来自气体压缩机的气体的第二入口、以及气体和还原剂离开壳体所通过的出口。气体流动路径可以在第二入口与出口之间延伸并且与第二入口和出口流体连通。还原剂流动路径可以在第一入口与出口之间延伸并且与第一入口和出口流体连通。混合装置可以至少部分地设置在壳体内并且可以包括接纳来自气体流动路径的气体和来自还原剂流动路径的还原剂的混合室。混合装置可以包括气体入口以及设置在气体入口与混合室之间的阀。阀可以允许流动从气体入口流动至混合室并且可以限制流体从混合室流动至气体入口。
[0009]在另一个形式中，本公开提供了一种废气处理系统，该废气处理系统可以包括气体流动路径、还原剂流动路径、喷嘴以及净化线路。气体流动路径可以包括阀。还原剂流动路径可以包括能够操作用于从存储容器通过还原剂流动路径抽取还原剂的泵。喷嘴可以接纳阀的下游处的气体并且可以接纳来自泵的还原剂。净化线路可以包括在阀的上游处流体连接至气体流动路径的第一部分以及流体连接至还原剂流动路径的第二部分。净化线路可以包括净化阀，该净化阀选择性地允许来自气体流动路径的气体流动至净化线路中以及至还原剂流动路径中。
[0010]在另一个形式中，本公开提供了一种操作还原剂输送系统的方法。还原剂输送系统可以包括还原剂流动路径、空气流动路径以及与还原剂流动路径和空气流动路径选择性地流体连通的喷嘴。该方法可以包括在第一模式下操作系统，在第一模式下，防止还原剂流过喷嘴而允许空气流过空气流动路径和喷嘴。该方法还可以包括在第二模式下操作系统，在第二模式下，限制从空气流动路径供应空气而允许还原剂至少部分地填充还原剂流动路径以及还原剂流动路径与喷嘴之间的通路。该方法还包括在第三模式下操作系统，在第三模式下，允许空气流过空气流动路径和喷嘴并且同时允许还原剂流过还原剂流动路径和喷嘴。该方法还可以包括在第四模式下操作系统，在第四模式下，允许空气流过空气流动路径和喷嘴以及从还原剂流动路径与喷嘴之间的通路清除还原剂。
[0011]根据本文所提供的描述，其它应用领域将变得明显。本概述中的描述及具体示例仅意在出于说明的目的而并非意在限制本公开的范围。
【附图说明】
[0012]这里所描述的附图仅以说明所选的实施方式而并非所有可能的实现方式为目的，并且并非意在限制本公开的范围。
[0013]图1是根据本公开的原理的气助式还原剂计量及喷射系统的结构示意图；
[0014]图2是图1的气助式还原剂计量及喷射系统的计量部件的结构示意图；
[0015]图3是根据本公开的原理的另一个计量部件的结构示意图；
[0016]图4是根据本公开的原理的另一个计量部件的结构示意图；
[0017]图5是根据本公开的原理的另一个计量部件的结构示意图；
[0018]图6是气助式还原剂计量及喷射系统的计量部件和还原剂存储罐的固定以及连接方式的示意图；
[0019]图7是根据本公开的原理的另一个还原剂存储罐和泵组件的侧视图；
[0020]图8是图7的泵组件的第一截面图；
[0021]图9是图7的泵组件的第二截面图；
[0022]图10是图7的泵组件的第三截面图；
[0023]图11是图7的泵组件的第四截面图；
[0024]图12是根据本公开的原理的泵组件的示意性表示；
[0025]图13是根据本公开的原理的喷射器的部分立体图；以及
[0026]图14是图13的喷射器的截面图。
[0027]贯穿附图中的若干视图，对应的附图标记指示对应的部件。
【具体实施方式】
[0028]通过参照附图，现将更全面地描述示例性实施方式。
[0029]提供示例性实施方式以使本公开将透彻地并全面地向本领域的技术人员传达本公开的范围。阐述许多具体细节，比如具体部件、装置及方法的例子，以提供对本公开的实施方式的透彻的理解。对本领域的技术人员而言，明显的是，无需应用具体的细节，所述示例性实施方式能够以许多不同的形式实施，且不应被解释为限制本公开的范围。在一些示例性实施方式中，对公知的过程、公知的装置结构及公知的技术不进行详细地描述。
[0030]本文中所使用的术语仅以描述特定的示例性实施方式为目的而非意在限制。如本文中所使用的，除非上下文中另外清楚地表明，否则单数形式“一”、“一个”和“所述”也意在包括复数形式。术语“包括”和“具有”是可兼的，并因此指出所描述的特征、整体件、步骤、操作、元件和/或部件的存在，但并不排除一个或更多其它特征、整体件、步骤、操作、元件、部件和/或其组的存在和附加。本文中所描述的方法步骤、过程及操作不应被解释为必须要求按照所论述或说明的特定顺序执行，除非具体指明按顺序执行。还应当理解的是，可以采用添加的步骤或替代性步骤。
[0031]当元件或层被称为“在另外的元件或层之上”、“接合至”、“连接至”、或“联接至”另外的元件或层时，该元件或层可以直接位于其它元件或层之上、直接地接合至、直接地连接至、直接地联接至其它元件或层，或者可以存在有介入元件或层。相反，当元件被称为“直接在另外的元件或层之上”、“直接接合至”、“直接连接至”、或“直接联接至”另外的元件或层时，无介入元件或层存在。用于描述元件之间的关系的其它词语应该以同样的方式解释(例如，“在…之间”对“直接地在…之间”，“相邻”对“直接地相邻”等)。如本文中所使用的，术语“和/或者”包括一个或更多所列出的相关项目的任何组合及全部组合。
[0032]尽管术语第一、第二、第三等在本文中可被用于描述多个元件、部件、区域、层和/或部分，但这些元件、部件、区域、层和/或部分不应受这些术语的限制。这些术语可以仅用于将一个元件、部件、区域、层或部分与另一区域、层或部分区分开来。诸如“第一”、“第二”的术语和其它表示数字的术语在本文中应用时，并不意指次序或顺序，除非上下文清楚地表明。因此，下面讨论的第一元件、部件、区域、层或部分能够被称为第二元件、部件、区域、层或部分而不脱离示例性实施方式的教示。
[0033]为便于描述，空间上相对的术语，比如“内部”、“外部” “在…之下”、“在…下面”、“下部”、“在…上面”、“上部”等应用在本文中可以对附图中所示出的一个元件或特征与其他元件或特征的关系进行描述。空间上相对的术语能够意在包括装置的除了附图中所描绘的定向之外的使用或操作中的不同定向。例如，如果附图中的装置被翻转，则被描述为在其它元件或特征“下方”或“下面”的元件此时将被定向为在所述其它元件或特征的“上方”。因此，示例性术语“在…下方”能够不仅包括上方的定向而且包括下方的定向。所述装置也可以其它方式定向(旋转90度或处于其它方位)并且本文中所使用的空间上相对的描述用语被相应地解释。
[0034]通过参照图1，提供了一种气助式还原剂输送系统，该还原剂输送系统可以包括用于存储还原剂的还原剂存储罐3、设置在还原剂存储罐中并且加热还原剂的加热装置11、用于运输或提供压缩空气的压缩空气产生装