应变计制造的方法和系统与流程

技术特征：

技术总结
提供了一种应变计制造的方法。该方法包括：提供第一基底，该第一基底具有空腔侧；提供第二基底，该第二基底具有半导体侧；相对于第一基底定位第二基底，以使得半导体侧和空腔侧是可接触的；处理第二基底以使得第一和第二基底基本上经由半导体侧和空腔侧结合；以及蚀刻第二基底，以限定悬置在第一基底的空腔侧之上的应变计。

技术研发人员：S·A·伯格伦
受保护的技术使用者：通用汽车环球科技运作有限责任公司
技术研发日：2017.09.11
技术公布日：2018.03.20