专利名称：电镀槽保护盖及电镀槽的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种电镀槽保护盖及电镀槽。
背景技术：
半导体行业中，需要对电子元件进行表面电镀处理。集成电路中往往包含几十万 甚至上百万个电子元件，因此，对电子元件的精度要求非常高。电子元件之间的连接是靠其 表面的电镀层实现的，因此，对电子元件的电镀层的纯度要求也很高。在电镀时，如果水、灰尘等杂质落入电镀液内，将会严重影响电镀质量。因此，没有 任何保护装置的开放式电镀槽显然无法完全保证电镀质量。
实用新型内容本实用新型的目的是为了克服现有技术中的不足，提供一种在电镀时可避免电镀 液中落入杂质的电镀槽保护盖。为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案实现电镀槽保护盖，其特征在于，其为凹槽，凹槽的槽底为斜面，所述成斜面的槽底具 有一高端和一低端，在所述的低端具有一贯通槽底的通孔，在通孔处安装有可将凹槽内的 液体排出的排液管。优选地是，所述的凹槽的槽壁板安装有相对于槽壁向外的斜板。优选地是，相对的两个槽壁板设置有相同的缺口。本实用新型的另一个目的是为了克服现有技术中的不足，提供一种在电镀时可避 免电镀液中落入杂质的电镀槽。电镀槽，包括槽体，其特征在于，还包括保护盖，所述保护盖为凹槽，凹槽的槽底为 斜面，所述成斜面的槽底具有一高端和一低端，在所述的低端具有一贯通槽底的通孔，在通 孔处安装有可将凹槽内的液体排出的排液管，槽体上安装有支架，保护盖由支架支撑。优选地是，所述的支架包括V形架、第一支撑框、第二支撑框和支柱；两个V形架安 装于槽体相互平行的两个槽壁上，第一支撑框与两个相互平行的第二支撑框连接，第一支 撑框与第二支撑框垂直，第一支撑框上还安装有相对第一支撑框向外的支柱，所述的支柱 由V形架支撑。优选地是，所述的凹槽的槽壁板安装有相对于槽壁向外的斜板。优选地是，相对的两个槽壁板设置有相同的缺口。本实用新型中的电镀槽，增加了保护盖，在电镀过程中，可以防止杂质混入电镀液 中，保证了电镀层的纯度。而且结构简单，使用方便。
图1为电镀槽保护盖立体结构图；图2为电镀槽保护盖俯视图；[0017]图3为图2中的A-A剖视图；图4为图2中的B-B剖视图；图5为本实用新型的电镀槽拆分结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型进行详细的描述实施例1 如图1-图4所示，电镀槽保护盖1，其为在槽底上连接四面槽壁的凹槽，凹槽的槽 底12为斜面，所述的槽底12包括上端面121和下端面122，上端面121为斜面，下端面122 为平面，如此设置，既能保证槽底成斜面，又能保证下端面安装牢固；成斜面的槽底12具有 一高端124和一低端123，在所述的低端123具有一贯通槽底12的通孔11，在通孔11处 安装有可将凹槽内的液体排出的排液管14。如此设置，既可以保证保护盖内的液体从高端 124流向低端123，然后经通孔11和排液管14流出。槽底采用斜面的上端面121，能保证液 体在槽底的自然流动；下端面122采用平面，方便牢固安装。相互平行的两块槽壁板分别安装有一块相对于槽壁向外的斜板15，斜板15数目 为两块，相对设置。使用斜板15，可增加保护盖的覆盖面积。未安装斜板15的两个槽壁板上分别设置一个缺口 16，缺口 16可用于限制支架的 移动，两个缺口大小相同。实施例2 如图5所示，电镀槽，包括槽体3，还包括支架，槽体的两个平行的侧壁上沿安装有 两个位置相对的V形架31。还包括支架2，支架2包括第一支撑框21、第二支撑框22和支柱23 ；第一支撑框 21和第二支撑框22均为矩形框，两个相互平行的第二支撑框22安装于第一支撑框21两 端，第一支撑框21与第二支撑框22垂直。第一支撑框21上还安装有相对第一支撑框21 向外伸出的支柱23。第二支撑框22，可以用于挂引线框架支撑框。槽体3内设置有与图3中的排液管14位置相对应的液盒32，从排液管14排出的 液体可流入液盒32内。支柱23由V形架31支撑。采用V形架，可将支柱23限制在V形架内，防止支柱 23移动。如实施例1所述的保护盖1，第一支撑框21位于缺口 16内，缺口 16两端的槽壁可 限制第一支撑框21的位置，以防止保护盖移动。本实用新型中的保护盖，使用完毕移动时，可将低端123抬高，使其高于高端124， 以使槽体3内的液体不会从通孔11流出。这样可防止保护盖在移动中漏出电镀液或水污 染电镀液。本实用新型中的实施例仅用于对本实用新型进行说明，并不构成对权利要求范围 的限制，本领域内技术人员可以想到的其他实质上等同的替代，均在本实用新型保护范围 内。
权利要求电镀槽保护盖，其特征在于，其为凹槽，凹槽的槽底为斜面，所述成斜面的槽底具有一高端和一低端，在所述的低端具有一贯通槽底的通孔，在通孔处安装有可将凹槽内的液体排出的排液管。
2.根据权利要求1所述的电镀槽保护盖，其特征在于，所述的凹槽的槽壁板安装有相 对于槽壁向外的斜板。
3.根据权利要求2所述的电镀槽保护盖，其特征在于，相对的两个槽壁板设置有相同 的缺口。
4.电镀槽，包括槽体，其特征在于，还包括保护盖，所述保护盖为凹槽，凹槽的槽底为斜 面，所述成斜面的槽底具有一高端和一低端，在所述的低端具有一贯通槽底的通孔，在通孔 处安装有可将凹槽内的液体排出的排液管，槽体上安装有支架，保护盖由支架支撑。
5.根据权利要求4所述的电镀槽，其特征在于，所述的支架包括V形架、第一支撑框、第 二支撑框和支柱；两个V形架安装于槽体相互平行的两个槽壁上，第一支撑框与两个相互 平行的第二支撑框连接，第一支撑框与第二支撑框垂直，第一支撑框上还安装有相对第一 支撑框向外的支柱，所述的支柱由V形架支撑。
6.根据权利要求4或5所述的电镀槽，其特征在于，所述的凹槽的槽壁板安装有相对于 槽壁向外的斜板。
7.根据权利要求5所述的电镀槽，其特征在于，相对的两个槽壁板设置有相同的缺口。
专利摘要本实用新型公开了一种电镀槽保护盖，其特征在于，其为凹槽，凹槽的槽底为斜面，所述成斜面的槽底具有一高端和一低端，在所述的低端具有一贯通槽底的通孔，在通孔处安装有可将凹槽内的液体排出的排液管。本实用新型中的电镀槽，增加了保护盖，在电镀过程中，可以防止杂质混入电镀液中，保证了电镀层的纯度。而且结构简单，使用方便。
文档编号C25D17/02GK201605341SQ200920210519
公开日2010年10月13日 申请日期2009年9月30日 优先权日2009年9月30日
发明者吕海波, 黄利松 申请人:上海新阳半导体材料股份有限公司