工件清洗线的制作方法

本实用新型涉及清洗设备领域，特别是涉及一种工件清洗线。

背景技术：

在工业生产中，为了进一步保护工件或使工件表面更加平滑美观，需要对产品进行镀膜处理；而清洗是工件在镀膜前必不可少的一道工序，通过清洗将工件上的油污、锈迹、灰尘等去除干净，然后通过烘干即可进行镀膜工序。

传统的清洗线耗水量大，浪费水，且清洗不干净，使得工件表面整洁度欠佳，容易导致工件在镀膜过程生产延迟或中断，使工件涂层结合力出问题，工件镀膜成品率低。

技术实现要素：

基于此，有必要针对现有技术清洗线耗水量大，浪费水，且清洗不干净，导致工件镀膜成品率低的问题，提供一种工件清洗线，该工件清洗线耗水量少，节约水资源且工件清洗干净。

一种工件清洗线，包括依次设置的初效清洗箱、阴极电解箱、有机酸洗箱、阳极电解箱、热水箱及沥水机构；所述初效清洗箱与所述阴极电解箱之间、所述阴极电解箱与所述有机酸洗箱之间、所述有机酸洗箱与所述阳极电解箱之间、所述阳极电解箱与所述热水箱之间及所述热水箱与所述沥水机构之间均设置有漂洗箱；所述漂洗箱具有副槽体和主槽体，所述副槽体和所述主槽体之间设置有隔板，所述隔板上设有通液口；所述副槽体内对应所述通液口的位置设有进液通道，所述进液通道的上端与所述通液口连通，所述进液通道的下端与所述副槽体内连通；所述主槽体内与所述进液通道相对的位置设有出液通道，所述出液通道的上端低于所述通液口。

上述的工件清洗线通过初效清洗箱、阴极电解箱、有机酸洗箱、阳极电解箱、热水箱及沥水机构依次对工件进行清洗处理，能有效去除工件表面的异物，工件清洗干净，确保工件表面整洁度，使得工件能够获得较好的涂层结合力和镀膜的顺利进行；将漂洗箱分为副槽体和主槽体，将前一批工件在主槽体内高效漂洗后的漂洗液从通液口进入到副槽体内，对后一批工件进行初步漂洗，可减少耗水量，节约水资源；且从主槽体流过来的漂洗液从副槽体的底部对副槽体内的工件向上冲洗，漂洗后的漂洗液从出液通道流出，有利于提高工件的漂洗效果。

在其中一个实施例中，所述副槽体的底部设有排水孔，所述排水孔上匹配插设有堵塞嘴。

在其中一个实施例中，所述主槽体的底部设有出水孔，所述出水孔上匹配插设有堵塞头；所述主槽体上安装有进水管，所述进水管的一端延伸至所述副槽体内，所述进水管的另一端与外界的储液箱相连。

在其中一个实施例中，所述初效清洗箱为超声波清洗箱。

在其中一个实施例中，所述初效清洗箱的数量为两个。

在其中一个实施例中，所述阴极电解箱位于所述初效清洗箱的下游，所述有机酸洗箱位于所述阴极电解箱的下游，所述阳极电解箱位于所述有机酸洗箱的下游，所述热水箱位于所述阳极电解箱的下游，所述沥水机构位于所述热水箱的下游。

在其中一个实施例中，所述初效清洗箱、阴极电解箱及阳极电解箱的上方均安装有排气器。

在其中一个实施例中，所述沥水机构包括沥水箱、安装在所述沥水箱内的支撑件、连接所述支撑件的升降组件、以及安装在所述沥水箱上升降控制器，所述升降控制器与所述升降组件电连接。

在其中一个实施例中，所述支撑件包括基板及连接在所述基板一侧的支架，所述支架与所述升降组件连接。

在其中一个实施例中，所述沥水机构还包括安装在所述沥水箱内的超声波发生器及与超声波发生器电连接的超声波控制器。

附图说明

图1为本实用新型的一较佳实施方式的工件清洗线的立体图；

图2为图1的工件清洗线的沥水机构示意图；

图3为图1的工件清洗线的漂洗箱示意图；

附图中各标号的含义为：

初效清洗箱10，阴极电解箱20，有机酸洗箱30，阳极电解箱40，热水箱50；

沥水机构60，沥水箱61，支撑件62，升降组件63，升降控制器64，超声波控制器65，基板66，支架67；

漂洗箱70，副槽体71，主槽体72，隔板73，通液口74，进液通道75，出液通道76，排水孔77，进水管78，出水孔79；

排气器80。

具体实施方式

为了便于理解本实用新型，下面将对本实用新型进行更全面的描述。但是，本实用新型可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本实用新型的公开内容的理解更加透彻全面。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。相反，当元件被称作“直接在”另一元件“上”时，不存在中间元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。

请参考图1至图3，为本实用新型一较佳实施方式的工件清洗线，包括依次设置的初效清洗箱10、阴极电解箱20、有机酸洗箱30、阳极电解箱40、热水箱50及沥水机构60；初效清洗箱10与阴极电解箱20之间、阴极电解箱20与有机酸洗箱30之间、有机酸洗箱30与阳极电解箱40之间、阳极电解箱40与热水箱50之间及热水箱50与沥水机构60之间均设置有漂洗箱70。初效清洗箱10、阴极电解箱20及阳极电解箱40的上方均安装有排气器80，排气器80分别用于吸收各箱内散发出来的气体。

在本实施例中，初效清洗箱10的数量为两个，且两个初效清洗箱10并列设置在阴极电解箱20的上游。初效清洗箱10为超声波清洗箱，初效清洗箱10内液体中的微气泡能够在超声波的作用下保持振动，破坏大颗粒污物与工件表面的吸附，引起污物层的疲劳破坏而被驳离，气体型气泡的振动对工件表面进行擦洗。

阴极电解箱20位于初效清洗箱10的下游，阴极电解箱20内安装有阴极电解发生器，通过阴极电解发生器去除工件表面的油污、蜡质及其他杂质。有机酸洗箱30位于阴极电解箱20的下游，有机酸洗箱30用于去除工件表面的油污和锈迹，同时有机酸洗箱30对工件表面进行中和作用。阳极电解箱40位于有机酸洗箱30的下游，阳极电解箱40内安装有阳极电解发生器，通过阳极电解发生器进一步除去工件表面的油污和蜡质及其他杂质。热水箱50位于阳极电解箱40的下游，热水箱50为超声波热水箱，热水箱50去除工件表面的酸碱物质。

请再次参考图2，沥水机构60位于热水箱50的下游，沥水机构60用于去除工件表面清洗后的水珠，以免水珠滞留在工件的表面，即避免工件表面的水珠蒸发后，工件表面留下印迹，影响工件的表面光滑效果。具体地，沥水机构60包括沥水箱61、安装在沥水箱61内的超声波发生器、安装在沥水箱61内的支撑件62、连接支撑件62的升降组件63、以及安装在沥水箱61上升降控制器64和超声波控制器65。沥水箱61内装有重密度液体，通过重密度液体将工件表面的水珠沥干。

支撑件62包括基板66及连接在基板66一侧的支架67，基板66容置在沥水箱61内的重密度液体中，基板66用于放置工件；支架67与升降组件63连接。升降控制器64与升降组件63电连接，超声波控制器65与超声波发生器电连接。当工件基板66上时，通过超声波控制器65启动超声波发生器，超声波发生器对工件表面水珠进行振动，通过升降控制器64启动升降组件63，升降组件63通过支架67拉动载有工件的基板66慢慢往上升，工件表面的水珠在超声波发生器的振动下，工件表面的水珠融入到重密度液体中，确保工件表面整洁。

请再次参考图3，漂洗箱70用于对经过各个工序后的工件进行漂洗。漂洗箱70具有副槽体71和主槽体72，副槽体71和主槽体72之间设置有隔板73，隔板73上设有通液口74，通液口74位于隔板73一侧的上端部，通液口74与副槽体71及主槽体72相连通，副槽体71内的液体经通液口74流入到主槽体72内。

副槽体71用于对工件进行初步漂洗，副槽体71内对应通液口74的位置设有进液通道75，进液通道75的上端与通液口74连通，进液通道75的下端与副槽体71内连通，主槽体72内与进液通道75相对的位置设有出液通道76，出液通道76的上端低于通液口74，以免副槽体71内的漂洗液回流至主槽体72内。主槽体72内的漂洗液从通液口74进入到进液通道75的上端，然后从进液通道75的下端进入到副槽体71内，即漂洗液从副槽体71的底部对副槽体71内的工件向上冲洗，漂洗后的漂洗液从出液通道76流出，有利于提高工件的漂洗效果，同时可防止污物积沉在副槽体71底部。副槽体71的底部还设有排水孔77，排水孔上匹配插设有堵塞嘴，当需要完全释放副槽体71内的液体时，可通过拔堵塞嘴，使副槽体71内的液体彻底从排水孔77流出。

主槽体72用于对经过副槽体71初步漂洗后的工件进行高效漂洗。主槽体72上安装有进水管78，进水管78的一端延伸至主槽体72内，进水管75的另一端与外界的储液箱相连，即通过进水管75向主槽体72内注入漂洗液。主槽体72的底部设有出水孔79，出水孔79上匹配插设有堵塞头，当需要完全释放主槽体72内的液体时，可通过拔堵塞头，使主槽体72内的漂洗液彻底从排水孔77流出。

本实用新型的工件清洗线通过初效清洗箱、阴极电解箱、有机酸洗箱、阳极电解箱、热水箱及沥水机构依次对工件进行清洗处理，能有效去除工件表面的异物，工件清洗干净，确保工件表面整洁度，使得工件能够获得较好的涂层结合力和镀膜的顺利进行；将漂洗箱分为副槽体和主槽体，将前一批工件在主槽体内高效漂洗后的漂洗液从通液口进入到副槽体内，对后一批工件进行初步漂洗，可减少耗水量，节约水资源；且从主槽体流过来的漂洗液从副槽体的底部对副槽体内的工件向上冲洗，漂洗后的漂洗液从出液通道流出，有利于提高工件的漂洗效果。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。