一种酸性蚀刻液电解提铜装置及其工艺的制作方法

文档序号:8313927阅读:1591来源:国知局
一种酸性蚀刻液电解提铜装置及其工艺的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及酸性蚀刻液回收领域,尤其是涉及一种酸性蚀刻液电解提铜装置及其工艺。
【背景技术】
[0002]近年来,电器电子工业迅猛发展,印刷电路板作为电器电子产品的重要组成部分,产量也日益增加,但是随之而来的污染问题也越来越突出。印刷线路板的酸性蚀刻液中,废液含铜量达100g/L以上,如不能很好回收利用,将导致铜资源的大量流失和对环境的严重污染。虽然目前已经出现蚀刻液电解提铜的相关工艺,但是存在以下问题:1、电解提铜的效率低,能耗大;2、只是单纯的进行电解提铜,无法对蚀刻液进行循环利用;3、产生的废气还是会污染环境。

【发明内容】

[0003]为解决上述技术问题,本发明提出了一种酸性蚀刻液电解提铜装置,包括蚀刻槽、废液桶、提铜单元、溶解吸收缸、水吸收缸;所述蚀刻槽与所述废液桶连接,所述废液桶与所述提铜单元连接;所述提铜单元包括蚀刻液腔、再生液腔、电解反应室,所述电解反应室通过复合高分子离子膜分成间隔设置的阴极区和阳极区,所述阴极区内安装有阴极板,所述阳极区内安装有阳极板;所述阳极区与所述蚀刻液腔连接,所述阴极区与再生液腔连接;所述阳极区通过排气管道与所述溶解吸收缸连接,所述阴极区通过排气管道与所述水吸收缸连接;所述溶解吸收缸与蚀刻槽循环连接。
[0004]作为本发明的一种优选方案,还包括废气处理塔,所述废气处理塔与所述水吸收缸连接。
[0005]作为本发明的一种优选方案,还包括再生液中转桶,所述再生液中转桶的进液口与所述再生液腔连接,所述再生液中转桶的出液口与所述蚀刻槽连接。
[0006]作为本发明的一种优选方案,所述溶解吸收缸和所述水吸收缸内安装有搅拌器。
[0007]作为本发明的一种优选方案,所述溶解吸收缸内放置有盐酸、氧化剂和蚀刻液。
[0008]一种酸性蚀刻液电解提铜工艺,包括以下步骤:
[0009]I)将蚀刻槽中产生的废液通入电解反应室进行电解;
[0010]2)电解反应室通过复合高分子离子膜分成阳极区和阴极区,步骤I中废液在电解反应室中电解后,阴极区回收得到铜,阳极区产生氯气和氯化氢气体;
[0011]3)步骤2中阳极区产生的气体通入含有盐酸和氧化剂的蚀刻液中,用于再次蚀刻使用;阴极产生的废气通过冷却水,并通过废气处理装置处理。
[0012]本发明提出的酸性蚀刻液电解提铜装置及其工艺具有以下有益效果:本发明为循环提铜的装置和工艺,可循环多次对蚀刻液进行提铜并对蚀刻液进行循环利用,多次电解提铜效率高,同时对蚀刻液的循环利用率高,并且本发明在回收利用过程中产生二次污染,节能环保。本发明结构合理,工艺完善,解决了现有技术酸性蚀刻液电解提铜存在的高能耗、低回用率的问题,不仅提高阴极铜品质,同时减少物料浪费,提高回用率。
【附图说明】
[0013]为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍。
[0014]图1为本发明酸性蚀刻液电解提铜装置的结构示意图;
[0015]图2为本发明的流程示意图;
[0016]其中,1-蚀刻槽,2-溶解吸收缸,3-水吸收缸,4-电解反应室,5-再生液腔,6_蚀刻液腔,7-废气处理塔,8-废液桶,9-盐酸储罐9,10-蚀刻液储罐,11-再生液储罐。
【具体实施方式】
[0017]下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
[0018]结合图1-2,本发明提出了一种酸性蚀刻液电解提铜装置,包括蚀刻槽1、废液桶8、提铜单元、溶解吸收缸2、水吸收缸3 ;所述蚀刻槽I与所述废液桶8连接,所述废液桶8与所述提铜单元连接;所述提铜单元包括蚀刻液腔6、再生液腔5、电解反应室4,所述电解反应室4通过复合高分子离子膜分成间隔设置的阴极区和阳极区,所述阴极区内安装有阴极板,所述阳极区内安装有阳极板;所述阳极区与所述蚀刻液腔6连接,所述阴极区与再生液腔5连接;所述阳极区通过排气管道与所述溶解吸收缸2连接,所述阴极区通过排气管道与所述水吸收缸3连接,同时优选的设置一废气处理塔7,与所述水吸收缸3连接,进一步对产生的废气进行处理;所述溶解吸收缸2与蚀刻槽I循环连接。同时,所述溶解吸收缸2内放置有盐酸、氧化剂和蚀刻液,对阳极区产生的气体进行氧化利用,所述溶解吸收缸分别与盐酸储罐9、再生液储罐11和蚀刻液储罐10连接,可以根据需要,调节盐酸。氧化剂和蚀亥Ij液的比例。
[0019]为了更好的将蚀刻液进行再次利用,本发明还可以包括再生液中转桶,所述再生液中转桶的进液口与所述再生液腔5连接,所述再生液中转桶的出液口与所述蚀刻槽I连接。
[0020]为了提高本发明的反应效率,所述溶解吸收缸2和所述水吸收缸3内安装有搅拌器。
[0021]本发明公开一种酸性蚀刻液电解提铜工艺,包括以下步骤:
[0022]I)将蚀刻槽I中产生的废液通入电解反应室4进行电解;
[0023]2)电解反应室4通过复合高分子离子膜分成阳极区和阴极区,步骤I中废液在电解反应室4中电解后,阴极区回收得到铜,阳极区产生氯气和氯化氢气体;
[0024]3)步骤2中阳极区产生的气体通入含有盐酸和氧化剂的蚀刻液中,用于再次蚀刻使用;阴极产生的废气通过冷却水,并通过废气处理装置(废气处理塔)处理。
[0025]本发明所公开的酸性蚀刻液电解提铜工艺,可循环对蚀刻液进行利用和提铜,为循环电解提铜工艺,并非单一的一次提铜过程,提铜效率高,蚀刻液循环再利用效率高。
[0026]对实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的,本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下,在其它实施例中实现。因此,本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例,而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
【主权项】
1.一种酸性蚀刻液电解提铜装置,其特征在于,包括蚀刻槽、废液桶、提铜单元、溶解吸收缸、水吸收缸;所述蚀刻槽与所述废液桶连接,所述废液桶与所述提铜单元连接;所述提铜单元包括蚀刻液腔、再生液腔、电解反应室,所述电解反应室通过复合高分子离子膜分成间隔设置的阴极区和阳极区,所述阴极区内安装有阴极板,所述阳极区内安装有阳极板;所述阳极区与所述蚀刻液腔连接,所述阴极区与再生液腔连接;所述阳极区通过排气管道与所述溶解吸收缸连接,所述阴极区通过排气管道与所述水吸收缸连接;所述溶解吸收缸与蚀刻槽循环连接。
2.根据权利要求1所述的酸性蚀刻液电解提铜装置,其特征在于,还包括废气处理塔,所述废气处理塔与所述水吸收缸连接。
3.根据权利要求1所述的酸性蚀刻液电解提铜装置,其特征在于,还包括再生液中转桶,所述再生液中转桶的进液口与所述再生液腔连接,所述再生液中转桶的出液口与所述蚀刻槽连接。
4.根据权利要求1所述的酸性蚀刻液电解提铜装置,其特征在于,所述溶解吸收缸和所述水吸收缸内安装有搅拌器。
5.根据权利要求1所述的酸性蚀刻液电解提铜装置,其特征在于,所述溶解吸收缸内放置有盐酸、氧化剂和蚀刻液。
6.一种酸性蚀刻液电解提铜工艺,其特征在于,包括以下步骤: 1)将蚀刻槽中产生的废液通入电解反应室进行电解; 2)电解反应室通过复合高分子离子膜分成阳极区和阴极区,步骤I中废液在电解反应室中电解后,阴极区回收得到铜,阳极区产生氯气和氯化氢气体; 3)步骤2中阳极区产生的气体通入含有盐酸和氧化剂的蚀刻液中,用于再次蚀刻使用;阴极产生的废气通过冷却水,并通过废气处理装置处理。
【专利摘要】本发明提出了一种酸性蚀刻液电解提铜装置及其工艺,所述装置包括蚀刻槽、废液桶、提铜单元、溶解吸收缸、水吸收缸;所述蚀刻槽与所述废液桶连接,所述废液桶与所述提铜单元连接;所述提铜单元包括蚀刻液腔、再生液腔、电解反应室,所述电解反应室通过复合高分子离子膜分成间隔设置的阴极区和阳极区;所述阳极区通过排气管道与所述溶解吸收缸连接,所述阴极区通过排气管道与所述水吸收缸连接;所述溶解吸收缸与蚀刻槽循环连接。本发明结构合理,工艺完善,解决了现有技术酸性蚀刻液电解提铜存在的高能耗、低回用率的问题,不仅提高阴极铜品质,同时减少物料浪费,提高回用率。
【IPC分类】C23F1-46, C25C7-00, C25C1-12
【公开号】CN104630825
【申请号】CN201510028257
【发明人】周爱成, 邰康乾, 赵奕栋, 樊新林
【申请人】昆山美源达环保科技有限公司
【公开日】2015年5月20日
【申请日】2015年1月20日
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