用于低压碳氢化合物罐的气体覆盖系统的制作方法

文档序号:14647584发布日期:2018-06-08 21:13阅读:来源:国知局
用于低压碳氢化合物罐的气体覆盖系统的制作方法

技术特征:

1.一种用于防止燃料储罐的劣化的设备,所述设备包括:

(a)氮气发生器,所述氮气发生器供应加压的N2的源;

(b)压缩氮气源,所述压缩氮气源供应加压的N2;

(c)导管,用于将所述源与所述燃料储罐的气隙互联;

(d)阀,用于对氮气穿过所述导管进入所述气隙的流动进行控制;

(e)压力真空阀,所述压力真空阀控制罐中的负压或正压与环境大气压分离;以及

(f)排气口,用于在通过燃料补充所述储罐时将所述氮气从所述气隙排出。

2.如权利要求1所述的设备,还包括围绕所述储罐的环形隔间,所述导管包括与所述环形隔间的连接以通过氮气包围所述储罐。

3.如权利要求1所述的设备,还包括用于控制氮气释放的控制器。

4.如权利要求3所述的设备,还包括监视器和中继系统,所述监视器用于测试所述罐内的压力,所述中继系统用于向所述控制器发送与所述罐内的所述压力有关的信息。

5.如权利要求3所述的设备,还包括可编程系统,所述可编程系统被编程为响应所述罐内的压力下降并向所述罐内供应确定量的氮气以使所述罐内的压力保持稳定。

6.如权利要求5所述的设备,其中被确定要由所述控制器供应的N2的量通过重量确定。

7.如权利要求3所述的设备,其中所述监视器还适用于控制氮气向所述罐的气隙的填充以在所述罐内实现预定的压力。

8.如权利要求1所述的设备,还包括氮气分配软管,所述氮气分配软管用于氮气从系统的可选方向分配。

9.如权利要求8所述的设备,还包括次要N2储存器以接纳来自发生器的N2并将N2供应至所述N2分配软管。

10.如权利要求1所述的设备,还包括挥发性腐蚀抑制剂的源,其中VCI可被抽取以与所述氮气一同进入所述气隙。

11.如权利要求1所述的设备,还包括次要导管,所述次要导管与所述氮气源和所述罐的间隙流体联通以允许氮气流入和/或通过所述间隙。

12.一种控制碳氢化合物从燃料储罐释放的方法,所述方法包括以下步骤:

通过燃料填充罐;

通过来自氮气源的氮气填充所述罐的气隙的顶部;

监视所述罐内的压力;

当所述系统中的压力将至预定阈值之下时,通过额外的氮气填满所述罐的顶部。

13.如权利要求12所述的方法,还包括生成氮气以填充氮气储备的步骤。

14.如权利要求12所述的方法,还包括将来自储备的氮气分配至氮气分配软管的步骤。

15.如权利要求12所述的方法,其中监视步骤检测顶部填满事件的时机和比例,并且进一步包括检测泄漏的步骤。

16.一种用于防止燃料储罐的劣化的设备,所述设备包括:

(a)加压的压缩惰性气体源;

(b)导管,用于将所述源与所述燃料储罐的气隙互联;

(c)阀,用于对所述惰性气体穿过所述导管进入所述气隙的流动进行控制;

(d)压力真空阀,所述压力真空阀控制罐中的负压或正压与环境大气压分离;以及

(f)排气口,用于所述罐内的气体排出。

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