毛巾厂烧碱溶液及时供应装置的制作方法

文档序号:13976428阅读:376来源:国知局

本实用新型涉及毛巾厂烧碱溶液及时供应装置。



背景技术:

毛巾厂常利用20%的烧碱溶液处理棉布,从而得到“丝光”的棉毛巾,对烧碱溶液的用量较大。但烧碱溶液作为亦腐蚀工业品,在需要时,只能采用罐车运输至毛巾厂,而为了装卸方便,厂内在低于地面处安装储存罐,通过该储存罐接收罐车运输来的烧碱溶液,然后依靠水泵将储存罐内的烧碱泵送至管路供厂房使用,然而在放假或不使用烧碱溶液时,管路内的烧碱减少,随着管路内水分的蒸发,烧碱将析出而在管道内结块,虽然烧碱易溶于水,但结块后的烧碱在下次供应烧碱时,会起到阻碍溶液的流动,导致管路堵塞,使得供应不及时而影响生产的开展。鉴于此,本发明人为此研制出毛巾厂烧碱溶液及时供应装置,有效的解决了上述问题,本案由此产生。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于提供毛巾厂烧碱溶液及时供应装置,能够有效防止管道烧碱结块堵塞,并保证具有足量的烧碱溶液供应。

为了实现上述目的,本实用新型的技术方案如下:

毛巾厂烧碱溶液及时供应装置,包括下储碱液罐、上储碱液罐、水泵、控制器、隔水管、浮标、磁铁、上霍尔传感器和下霍尔传感器,下储碱液罐安装于低于地面的位置,上储碱液罐安装于下储碱液罐且位置高于供碱液管路,上储碱液罐底部和供碱液管路连通,水泵用于将下储碱液罐内的烧碱溶液向上泵送至上储碱液罐,控制器用于控制水泵工作,隔水管下部插置于上储碱液罐底部而上端则从上方穿出上储碱液罐,隔水管内部的下部位于下安全液位处安装下霍尔传感器,隔水管内部的上部位于上储碱液罐满液位处安装上霍尔传感器,隔水管外自由套置有浮标,浮标内安装有磁铁,上霍尔传感器和下霍尔传感器均与控制器电连接,控制器接收到下霍尔传感器的信号时控制水泵工作,控制器接收到上霍尔传感器的信号时控制水泵停止工作。

所述磁铁呈环形并套置于隔水管。

所述隔水管为耐碱腐蚀的塑料管。

采用上述方案后,本实用新型下储碱液罐安装于低于地面的位置,以便于接收罐车送来的烧碱溶液。再依靠水泵将下储碱液罐内的烧碱溶液泵送至上储碱液罐。通过高于供碱液管路的上储碱液罐给予供碱液管路供应烧碱溶液,因此只要上储碱液罐内具有足够的烧碱溶液,供碱液管路内将充满烧碱溶液,有效避免了供碱液管路内烧碱析出而结块。而保证上储碱液罐内具有足够的烧碱溶液则如下所述。

上储碱液罐的液位通过内部具有磁铁的浮标、上霍尔传感器和下霍尔传感器来获得,带磁铁的浮标将随液位变化而变化,上霍尔传感器和下霍尔传感器则在浮标经过其时,将感应出信号发送给控制器,控制器则根据接收到的信号来判断并控制水泵工作,控制器接收到下霍尔传感器的信号时控制水泵工作,控制器接收到上霍尔传感器的信号时控制水泵停止工作,从而保证上储碱液罐内始终保持具有足够多的烧碱溶液。

附图说明

图1是本实施例的结构示意图。

标号说明

下储碱液罐1,上储碱液罐2,水泵3,控制器4,隔水管5,浮标6,磁铁7,上霍尔传感器8,下霍尔传感器9,供碱液管路10。

具体实施方式

为了进一步解释本实用新型的技术方案,下面通过具体实施例来对本实用新型进行详细阐述。

如图1所示,是本实用新型一较佳实施例揭示的毛巾厂烧碱溶液及时供应装置,包括下储碱液罐1、上储碱液罐2、水泵3、控制器4、隔水管5、浮标6、磁铁7、上霍尔传感器8和下霍尔传感器9。

下储碱液罐1安装于低于地面的位置,以便于接收罐车送来的烧碱溶液。

上储碱液罐2安装于下储碱液罐1且位置高于供碱液管路10,上储碱液罐2底部和供碱液管路10连通。通过高于供碱液管路10的上储碱液罐2给予供碱液管路10供应烧碱溶液,因此只要上储碱液罐2内具有足够的烧碱溶液,供碱液管路10内将充满烧碱溶液,有效避免了供碱液管路10内烧碱析出而结块。而保证上储碱液罐2内具有足够的烧碱溶液则如下所述。

水泵3用于将下储碱液罐1内的烧碱溶液向上泵送至上储碱液罐2,控制器4用于控制水泵3工作。隔水管5下部插置于上储碱液罐2底部,而上端则从上方穿出上储碱液罐2。

隔水管5为耐腐蚀的塑料管,隔水管5内部的下部位于下安全液位处安装下霍尔传感器9,隔水管5内部的上部位于上储碱液罐2满液位处安装上霍尔传感器8。隔水管5外自由套置有浮标6,浮标6内安装有磁铁7,磁铁7呈环形并套置于隔水管5,保证浮标6受力均匀,同时确保浮标6不管如何转动,在浮标6经过霍尔传感器时,霍尔传感器都能感应到磁场。

上霍尔传感器8和下霍尔传感器9均与控制器4电连接,带磁铁7的浮标6将随液位变化而变化,上霍尔传感器8和下霍尔传感器9则在浮标6经过其时,将感应出信号发送给控制器4,控制器4则根据接收到的信号来控制水泵3启动,控制器4接收到下霍尔传感器9的信号时控制水泵3工作,控制器4接收到上霍尔传感器8的信号时控制水泵3停止工作。

以上仅为本实用新型的较佳实施例,并非对本实用新型的保护范围的限定。凡依本案的设计思路所做的等同变化,均落入本案的保护范围。

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