多氧探头气氛监测装置的制作方法

文档序号:5982024阅读:191来源:国知局
专利名称:多氧探头气氛监测装置的制作方法
技术领域
本实用新型涉及一种气氛监测装置,尤其涉及一种多氧探头气氛监测装置。
背景技术
渗碳气氛热处理已广泛应用在各种金属制品如汽车零件、航空零件、精密零件、手工具、标准件等等,在渗碳过程中必须精确控制碳势,否则过多渗碳或不足渗碳都会使零件的品质劣化,目前最广泛的用在气氛控制上的是氧化锆为基础的氧探头,假定炉内一氧化碳为固定值的情况下,用氧探头在炉内测得氧含量,由此算出二氧化碳的含量,进一步计算出炉气的碳势,然而氧探头直接伸入炉内,暴露在高温下,常因下列情况导致精度下降,使渗碳品质下降1、氧化锆长时间使用劣;2、多余的碳氢化物,使氧化锆外面产生一层积碳;3、因高温作用,氧化锆产生裂痕;4、白金电极长期处在高温下劣化,使导电性变差。
以上的情况使氧探头的精度下降,然而操作人员却无法察觉,等工件经测试发生问题,已有多批昂贵的零件要报废掉,造成巨大的经济损失。

发明内容
针对已有技术存在的不足,本实用新型的目的在于提供一种具有多个氧探头的气氛监测装置。
实现本实用新型的技术方案如下一种多氧探头气氛监测装置,包括两支或两支以上的氧探头,其中一支氧探头为主控氧探头,其他氧探头为与主控氧探头进行对比的对比氧探头,对比氧探头前设有一活动盖,在不需要对比氧探头时,活动盖盖合,防止对比氧探头接触炉气及高温,保证对比氧探头处于正常状态。所述氧探头均与电脑系统相连,所有氧探头的信号均输入电脑,并自动进行对比及记录。
所述对比氧探头上装有自动伸入或拉出的推动装置。
所述对比氧探的装设位置可以放置在炉内的样品位置,并可长期追踪炉内的气氛均匀性。
所述的多氧探头气氛监测装置,应用于真空渗碳炉中,用于监测碳势,当渗碳时期开始后,碳势快速上升,当碳势稳定后,对比氧探头自动伸入炉内和主控探头进行对比,如果差值超过10%时,立刻产生警报由现场工作人员判断,并切换至第二支氧探头,在扩散时期同样重复上述过程。
本实用新型采用二支以上的氧探头做为气氛监控,其中一支做为主控探头,其他做为对比探头,如果主控探头发生故障,其他探头立刻上线,确保安全完成每个热处理处理制程,提高产品合格率,降低成本提高经济效益。
说明书附图

图1为本实用新多氧探头气氛监测装置的结构示意图。
附图中标号说明1-主控氧探头2-对比氧碳头3-活动盖4-推动装置5-控温热电偶6-样品7-电脑 8-真空渗碳炉具体实施方式
以下结合附图1本实用新型的结构示意图进一步说明本实用新型是如何实现的一种多氧探头气氛监测装置,包括一支主控氧探头1,一支对比氧探头2,对比氧探头前设有一活动盖3,在不需要对比氧探头时,活动盖3盖合,防止对比氧探头2接触炉气及高温,保证对比氧探头2处于正常状态。所述氧探头1和2均与电脑系统7相连,所有氧探头的信号均输入电脑7,并自动进行对比及记录。
对比氧探头上装有自动伸入或拉出的推动装置4。
所述对比氧探头的装设位置可以放置在炉内的样品6附近位置,并可长期追踪炉内的气氛均匀性。
所述的多氧探头气氛监测装置,应用于装用控温热电偶5的真空渗碳炉8中,用于监测碳势,当渗碳时期开始后,碳势快速上升,当碳势稳定后,对比氧探头2自动伸入炉内和主控探头1进行对比,如果差值超过10%时,立刻产生警报由现场工作人员判断,并切换至其他氧探头,在扩散时期同样重复上述过程。
权利要求1.一种多氧探头气氛监测装置,包括两支或两支以上的氧探头,其特征在于其中一支氧探头为主控氧探头,其他氧探头为与主控氧探头进行对比的对比氧探头,对比氧探头前设有一活动盖,所述氧探头均与电脑系统相连。
2.根据权利要求1所述的一种多氧探头气氛监测装置,其特征在于所述对比氧探头上装有自动伸入或拉出的推动装置。
3.根据权利要求1所述的一种多氧探头气氛监测装置,其特征在于所述对比氧探头装设在炉内的样品位置。
4.根据权利要求1、2或3所述的一种多氧探头气氛监测装置,应用于真空渗碳炉中。
专利摘要本实用新型公开了一种多氧探头气氛监测装置,包括两支或两支以上的氧探头,其中一支氧探头为主控氧探头,其他氧探头为与主控氧探头进行对比的对比氧探头,对比氧探头前设有一活动盖,所述氧探头均与电脑系统相连,所有氧探头的信号均输入电脑,并自动进行对比及记录。如果主控探头发生故障,其他探头立刻上线,确保安全完成每个热处理处理制程,提高产品合格率,降低成本提高经济效益。
文档编号G01N27/407GK2687666SQ200420021009
公开日2005年3月23日 申请日期2004年3月18日 优先权日2004年3月18日
发明者杨景峰, 陈明志 申请人:上海宝华威热处理设备有限公司
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